CVS_实验原理和分析过程
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CVS分析仪CVS分析仪是一种广泛应用于医学领域的设备。
本文将介绍CVS 分析仪的工作原理、应用领域、优势以及未来发展前景。
CVS分析仪是一种能够自动分析和处理生物样品的仪器设备。
它采用了先进的光电技术和传感器,能对样本中的生物分子进行准确快速的检测和分析。
CVS分析仪可以应用于遗传疾病的筛查、药物治疗监测、感染性疾病的诊断等多个医学领域。
CVS分析仪的工作原理基于生物分子的特定性质。
在使用分析仪之前,首先需要收集样本,例如血液、尿液等。
接下来,样本将被放置在分析仪的样品槽内。
分析仪会通过光电技术对样本进行扫描和分析,然后根据设定的算法和标准,将结果进行分析和解读。
CVS分析仪的应用领域十分广泛。
首先,它可以应用于遗传疾病的筛查。
通过对样本中的DNA进行分析,可以检测出染色体异常和突变等遗传病变情况。
其次,CVS分析仪可以用于药物治疗监测。
例如,对于使用抗癌药物治疗的患者,通过监测其血液中药物的浓度,可以确定治疗是否有效。
此外,CVS分析仪还可以辅助感染性疾病的诊断。
通过对样本中的病原体进行分析,可以快速确定疾病的种类和病原体的耐药性。
CVS分析仪相比传统的手工检测方法具有许多优势。
首先,它的检测速度更快。
传统的实验室检测通常需要几个小时甚至更长时间来完成,而CVS分析仪能够在几分钟内完成分析。
其次,CVS分析仪的结果更加准确可靠。
它可以避免人为误差和实验操作的不一致性,提高了检测结果的可靠性。
此外,CVS分析仪还可以实现大规模并行分析,提高了样本处理的效率和成本效益。
CVS分析仪的未来发展前景非常广阔。
随着技术的不断进步,CVS 分析仪将会更加便携化和智能化。
未来的CVS分析仪可能会集成更多的传感器和功能模块,能够同时对多个生物标志物进行分析,并能够实时监测和跟踪疾病的进展。
此外,CVS分析仪还有望应用于更多的领域,如食品安全、环境监测等。
总之,CVS分析仪作为一种智能化的分析设备,具有广泛应用的潜力。
CVS 分析测试注:5ml/L 的SF-M 中的基本成分相当于SF-BASE 6.7ml/L ;相当于SF-B 1.3ml/L ;相当于SF-A 5ml/L ;根据分析结果,光亮剂浓度不足时补给SF-B ;整平剂浓度不足时补给SF-A。
基本成分一般不会有问题,但严重不足时补给SF-BASE 。
SF-BASE 中含有和SF-M 同量的聚合物。
三.测定条件:四.分析相关试剂:五.分析顺序:①准备:1.1每次测试均需更换参比电极外液;参比电极内液每周更换一次。
更换时白色橡皮圈盖住大孔,露出小孔。
1.2把参比电极和铂金电极安装到测量头上。
②.活化取100ml VMS到100ml烧杯中,放在工作台上点选SF-Base{SHAPE \* MERGEFORMAT |condition勾选Number of scans(扫描次数)并输入所需扫描次数,一般在20-40 次左右;不勾选%StabilityStart Conditioning(开始活化)Exit(退出)③.分析校准因子SF-Base:DT法1. 1#位放置标准液,工作台放置盛纯水的废液杯,清洗1号加液管;1#位放置标准液,工作台放置100mlVMS,点选SF-BaseAnalyze(分析)Calibration(校准)选项选择1#位Calibrate(校准)Proceed(继续)Calibration factor(9~13ul/L)Abort(退出)2.分析标准液的Base浓度1#位放置标准液,工作台放置100mlVMS,点选SF-Base AnalyzeAnalysis选项添加量选择0.05mlAnalyze选择1#位Proceed得到标准液的Base浓度A Abort(退出)3.分析槽液的Base浓度1#位放置槽液,工作台放置盛纯水的废液杯,清洗1号加液管;1#位放置槽液,工作台放置100mlVMS,点选SF-BaseAnalyzeAnalysis选项添加量选择(分析值高则添加量选择小)0.035ml/0.05ml Analyee选择1#位Proceed得到槽液的Base浓度B Abort(退出)4.计算槽液的Base浓度槽液的Base浓度=6.7*B/A④.分析SF-B浓度SF-B:LAT法intercept 0.15~0.25;Contamination(有机污染值):20uA工作台放置100mlVMS+0.5mlSF-Base点选SF-BAnalyzeMeasure new-ralueProceedSave1#位放置SF-B 10倍稀释液,工作台放置盛纯水的废液杯,清洗1#加液管;1#位放置SF-B 10倍稀释液,工作台放置盛90mlVMS+10ml标准液的100ml烧杯点选SF-BAnalyzeAnalyze选择1#位Proceed得到标准液中SF-B的浓度CSaveExit1#位放置SF-B 10倍稀释液,工作台放置盛90mlVMS+10ml槽液的100ml烧杯点选SF-BAnalyze选择1#位Proceed得到槽液中SF-B的浓度DSaveExit计算:槽液中SF-B的浓度=1.3D/C⑤.分析SF-A浓度SF-A:RC法检量线:Calibrate:15.47ml、11.39ml、9.008ml、7.312ml、6.144ml。
用CVS分析仪监控酸性电镀铜溶液胡文强;易家香;周仲承;王克军;杨盟辉;黄革【摘要】循环伏安剥离分析是目前印制线路板业界广泛采用的一种分析技术,其结果可以作为离线或在线添加有机添加剂的依据,保障镀液的品质.本文对电镀铜中的有机添加剂和CVS技术的电化学原理进行了介绍,对运用CVS分析仪测试电镀添加剂浓度的方法和步骤进行了介绍,介绍了两则运用CVS分析仪分析调整电镀铜镀液的实例.【期刊名称】《印制电路信息》【年(卷),期】2013(000)001【总页数】3页(P27-29)【关键词】循环伏安剥离分析仪;有机添加剂;酸性镀铜液;抑制剂;光亮剂【作者】胡文强;易家香;周仲承;王克军;杨盟辉;黄革【作者单位】中南电子化学材料所,湖北武汉430070;中南电子化学材料所,湖北武汉430070;中南电子化学材料所,湖北武汉430070;中南电子化学材料所,湖北武汉430070;中南电子化学材料所,湖北武汉430070;中南电子化学材料所,湖北武汉430070【正文语种】中文【中图分类】T-1;TN41酸性电镀铜镀液的基本成分包括H2SO4、Cu2+、Cl-和有机添加剂等:前三种物质可以通过化学分析的方法对其含量进行监测和管控;而有机添加剂多为聚合物,其含量难以通过简单的化学分析的方法进行确定。
在早先的操作中,一向以一种基于操作经验为主的霍尔槽(Hull)实验的方法,做为管理与添加的工具。
但由于此种方法仅能提供酸性电镀铜镀液中有机添加剂整体效果的定性参考,而不能提供有效的定量信息,且此种方法依赖于操作人员的实践经验,由不同的人员操作,结果可能相差较大,无法准确地对镀铜液中的有机添加剂进行监控和添加。
CVS (Cyclic Voltammetric Stripping,循环伏安剥离)分析仪能够精确地测定镀液中有机添加剂的浓度[1],让操作者可随时监测镀液中各种有机添加剂的浓度,以确保电镀液的使用效果,因此,CVS技术在半导体以及印制电路板行业得到了广泛采用。
CVS技术在监控电镀铜槽液的运用摘要:介绍CVS 技术在监控电镀铜槽液有机添加剂的运用。
本文首先将对电镀铜中的有机添加剂和CVS 技术的电化学原理进行解说,然后对CVS分析仪对有机添加剂浓度进行测量的原理和CVS中有机添加剂程序的创建进行介绍,最后简要介绍CVS在有机添加剂来料查验、镀液污染值、碳处理情况等监控方面的运用,希望此文章能够对CVS化验分析人员对此仪器有更深一步的了解。
关键词: 有机添加剂酸性镀铜液 CVS分析仪电位The application of the CVS technology to monitor copper plating bath——Qiongli Fu BAIKAL CHEMICALS INC. Abstract: To introduce the CVS technology in the monitoring of organic additives of copper plating bath .Firstly, this article will explain the organic additives of copper plating and the electrochemical principle on CVS techniques.Secondly,the principle of CVS analyzer to measure the concentration of organic additives and the creation of procedure in CVS analyzer are introduced.Finally,it will briefly introduce the application of CVS analyzer to monitor the organic additive incoming inspection, bath pollution value, carbon treatment process. I hope this article will help analysiser to understand the equipment more.Key words: organic additives ,Acid copper plating bath , CVS analyzer , Potential一、引言众所周知酸性电镀铜槽液中的基本成分有Cu2+、SO42-、Cl-和有机添加剂,前三种成分可通过化学分析对其进行管控;至于有机添加剂的分析,早先一向以经验导向的HULL-CELL试镀片,做为管理与添加的工具。
CVS分析仪2篇第一篇:CVS分析仪介绍CVS分析仪是一种常用于电化学分析的仪器,可用于测量多种化学物质的浓度、化学反应的速率等。
其主要特点是使用方便、结果准确、检测灵敏度高等。
CVS分析仪有很多不同的型号和品牌,但它们都共享一些基本原理。
其基本工作原理是在电解液中通过电化学反应来得到需要分析的结果。
CVS分析仪的核心部分是工作电极,该电极通过标准电极电位以及测定电流来加以测量。
通常情况下,电解液中的物质会与电极发生化学反应,这些反应所产生的电流可用于计算出物质浓度的值。
CVS分析仪通常需要连接至计算机或控制器才能工作。
计算机会负责控制测量程序和收集数据。
这些数据可用于制作图形或表格,并通过统计作分析及比较不同样品的浓度或反应速率。
CVS分析仪的使用范围很广。
在医疗领域,它可用于测量血液中的葡萄糖、胆固醇、生化制品等。
在环境领域,它被用于测量水、气中的污染物浓度。
在冶金和石油化工行业中,CVS可用于分析金属和燃料等化学物质。
此外,CVS分析仪在食品、化妆品、药品等行业也有广泛的应用,以保证它们的质量和安全性。
总之,CVS分析仪是一种功能强大、易于使用的仪器,具有高检测灵敏度和精度的特点,可用于多种化学物质的分析和测量。
它在科学研究及产业领域有着广泛的应用。
第二篇:CVS分析仪的应用及发展趋势CVS分析仪具有广泛的应用领域,特别是在化工、环境工程、医疗保健和食品科学等产业领域中,CVS分析仪不仅能够提供准确的检测结果,还能够提高检测效率,减少人为的误差以及时间成本等。
CVS分析仪的一个重要应用是在环境领域。
在环境保护和污染控制中,CVS分析仪可用于测量大气中的有害气体浓度、地表水和海洋中的有毒物质浓度等。
此外,在食品科学中,CVS分析仪可用于检测食品中的添加物和化学成分,以保证食品的质量和安全性。
CVS分析仪的发展趋势主要体现在技术上的升级和功能的完善。
随着科技的不断进步和理论的完善,CVS分析仪的准确性和灵敏度也得到了极大的提高。
循环伏安剥离法 CVS 的应用随着镶嵌制程在大量IC制造中逐渐获得重视,更可靠的铜电镀槽分析技术也变得越来越重要。
循环式伏安剥离法(Cyclic VoltammetricStripping,CVS)已经被证明是一种正确且精准的有机添加剂控制技术;最新一代的系统将会是更可靠、更简单、更快速、且其价格更能被接受的产品。
在铜电镀制程中,其关键技术在于如何在晶圆表面上沉积出均匀铜薄膜,使其具有特定的薄膜机械特性,并在沟槽与引洞内产生超填充(super-filling) 特性。
这些重要的制程特性通常都是利用多成份有机与无机电镀溶液来达成;所以我们需要更精确、更敏感、更容易使用与更具成本优势的线上监控量测技术。
一般铜电镀槽都含有高稳定的硫酸铜与硫酸电解质溶液。
在这些电解质溶液中的铜浓度为14~60克/升,而其硫酸浓度则为1~240克/升;相对地,其他加入到电镀槽内的化学成份比例则为极少量。
这些添加剂的成份为有机材料与氯离子,其主要功用在于改变电镀铜的均匀度、硬度、延展性、与张力应力等特性,所以精确控制添加剂对于维持电镀物的特定性质是非常重要的。
添加到铜电镀槽内的有机成份可区分为下列3种。
(1)包含pendantsulfur原子的加速剂成份,该加速剂会在其吸附处产生局部加速沉积;(2)由聚乙二醇(polyethyleneglycols,PEGs)等聚合物所组成的抑制剂成份,该抑制剂可以在整个晶圆表面形成电流抑制薄膜,特别是当氯离子存在时(氯离子会加强抑制效应);(3)为二次抑制剂的轧平剂(leveler),此作用只会在质量转换机制最显著的突出表面发生。
由于各个有机成份在电镀制程中的消耗速率都不同,因此我们需要对个别成份进行监控。
例如,加速剂的消耗速率会比其他有机成份要快许多;此外,有机添加剂与无机成份彼此间也会在电镀制程中进行反应,因而分解或改变其初始有机成份。
这些副产物将会影响整个沉积制程,有时候还会比初始有机成份造成更大的影响。
CVS使用流程
一、电极维护
电极轴维护每周洗耳球吹扫两面通气孔
参比电极-RE
6.0728.030
填充3mol/L KCL 每周更换2~3次6. 1245.010
填充1mol/L硝酸钾每天更换
避免气泡,会造成意外镀铜
更换内参比需要1小时左右稳定时间
二、打开系统
打开仪器电源
电源
30s左右完成自检
打开软件
双击桌面软件图标
点击进入软件主窗口
三、Condition活化电极
加入VMS
Prep Dosino1#
点击
点击Prep on清洗
Dosing unit/ 两次
调入方法
点击
打开调入方法Conditioning in Cu VMS
点击Monitor--Start
活化电极
扫描重复性达到0.5%自动完成
清洗干净电极和测量杯
记录Condition 值,
单位mC ,相对稳定
四、抑制剂分析
抑制剂分析原理
DT –Dilution Titration
DT –Dilution Titration
•测量抑制剂suppressors
•分为两个过程
1.用抑制剂标样做校正曲线
2.样品测定
•只能采用CVS模式
0.5
DT –抑制剂suppressor校正
Z:校正因子,记
录每次相对稳定
DT –槽液中Suppressor测定
C:结果
操作过程---校正曲线
调入方法
点击
打开调入方法
校正曲线:Cupracid UC Calibration Curve
放置VMS 和抑制剂标样
Dosino 1Dosino 2Dosino
3
MSB port
#1#2#3
溶液VMS 抑制剂
标样
Prep Dosino1#、3#
点击
点击Prep on清洗
Dosing unit/ 两次
查看Dosino设置
激活Dosino加液
查看Dosino加液设置
查看Dosino设置
点击Monitor—Start
Dosino1#自动加入100mL VMS
电极活化得到稳定的AR0
纯VMS Cu 溶出峰的电量值被记录用作100%值(Q0) Dosino3将自动加入几次预设体积电镀液样品,至Q/Q(0)的比低于0.45。
建议10到15次加液达到评估值软件自动计算校正因子Z
操作过程---样品测试
调入方法
点击
打开调入方法
样品测试:Cupracid UC leveller sample
放置VMS 和抑制剂样品
Dosino 1Dosino 2Dosino 3MSB port
#1#2#3溶液VMS 抑制剂
样品
Prep Dosino1#、3#
点击
点击Prep on清洗
Dosing unit/ 两次
Edit Parameters
编辑具体参数
修改添加量
调用校正曲线
做校正曲线时不得修改样品名
点击Monitor—Start
Dosino1#自动加入100mL VMS
电极活化得到稳定的AR0
纯VMS Cu 溶出峰的电量值被记录用作100%值(Q0) Dosino3将自动加入几次预设体积电镀液样品,至Q/Q(0)的比低于0.45。
建议5到10次加液达到评估值软件自动计算结果
五、光亮剂分析
光亮剂分析原理MLAT 方式
Determination
光亮剂影响
c(brightener)
Q -Q (I n t e r c e p t )
线性范围
Determination of Brightener
结果
浓度计算
-c(sample)
Q [C] c [mL/L]
Q(bath)
Q(2)
Q(intercept)Q(1)
Q-Q(intercept) [C]
c [mL/L]
-c(sample)
Q(bath)Q(2)
Q(1)
浓度计算
操作过程
放置VMS 和方法要求抑制剂光亮剂溶液
Dosino 1Dosino 2Dosino
3
MSB port
#1#2#3
溶液VMS 光亮剂抑制剂
调入方法
点击
Prep Dosino1#、2#、3#
点击
点击Prep on清洗
Dosing unit/ 两次
查看Dosino设置
激活Dosino加液
查看Dosino设置。