集成电路工艺与及版图设计

《集成电路工艺与版图设计》课堂作业班级：电子科学与技术01班姓名：曾海学号：201031722、3、4输入异或门版图设计如下：一、二输入异或门：（1）原理图：<2>L-edit中进行设计的如下二输入或非门版图<3>提取后在T-SPICE中进行参数及输入输出设置如下:VA A GND BIT ({1011} pw=20N lt=10N ht=10N on=5 off=0)VB B GND BIT ({0010} pw=20N lt=10N ht=10N on=5 off=0)Vdd Vdd GND 5.tran 10N 100N.print tran v(OUT) v(A) v(B)<4>在W-EDIT中得到仿真波形图：二、三输入或非门<1>三输入异或门版图<3>参数及输入输出设置VA A GND BIT ({1011} pw=20N lt=10N ht=10N on=5 off=0) VB B GND BIT ({0010} pw=20N lt=10N ht=10N on=5 off=0)Vdd Vdd GND 5.tran 10N 100N.print tran v(OUT) v(A) v(B)<3>仿真图三、四输入或非门<1>版图设计<2>参数及输入输设置Vdd Vdd GND 5VA A GND BIT ({1001} pw=20N lt=10N ht=10N o n=5 off=0)VB B GND BIT ({1010} pw=20N lt=10N ht=10N o n=5 off=0)VC C GND BIT ({1011} pw=20N lt=10N ht=10N o n=5 off=0)VD D GND BIT ({1011} pw=20N lt=10N ht=10N o n=5 off=0).tran 20N 100N.print tran v(OUT) v(A) v(B) v(C) v(D)<3>仿真图4、版图设计总结（1）本次设计中，由仿真图可以看出，仿真波形不是标准的方波图形，而是有相应的误差，可能是由于版图的设计中，布线或器件的放置不合理导致的。

DC-DC 变换器中误差放大器AMP 模块版图设计1 DC —DC 变换器中误差放大器AMP 模块电路误差放大器是整个变换器电路的核心，从原理上说，误差放大电路内部实质上是一个具有高放大倍数的多级直接耦合放大电路。

误差放大器的电路结构如下：V I NR40V1DC = 3VR5误差放大器的原理图如下：L = 2u版图是集成电路从设计走向制造的桥梁，它包含了集成电路尺寸，电阻电容大小等器件相关的物理信息数据。

版图设计是创造工程制图（网表）的精确的物理描述过程，即定义各工艺层图形的形状，尺寸以及不同工艺层的相对位置的过程。

其设计目标有以下三方面：1. 满足电路功能，性能指标，质量要求；2. 尽可能节省面积，以提高集成度，降低成本；3. 尽可能缩短连线，以减少复杂度，缩短延时，改善可能性。

下面是我对误差放大器AMP模块版图设计及仿真的过程。

2DC—DC变换器中误差放大器AMP模块版图设计及仿真２.１版图设计的前仿真２.１.１替换及其他基本设置此次版图所用工艺为MOSIS/ORBIT 1.2u SCNA。

（设置替换路径为：C:\program files\Tanner EDA\Tanner Tools v13.1\L-Edit andLVS\Tech\Mosis\morbn12）替换设置后，将设置-设计-technology下的technology to micro map 改为：1 Lambda=microns。

２.１.２版图的基本绘制下面为常用的CMOS工艺版图与工艺的关系：（1）N阱：做N阱的封闭图形处，窗口注入形成P管的衬底（2）．有源区：做晶体管的区域（G,D,S,B区），封闭图形处是氮化硅掩蔽层，该处不会长场氧化层（3）．多晶硅：做硅栅和多晶硅连线。

封闭图形处，保留多晶硅。

（4）．有源区注入：P+,N+区。

做源漏及阱或衬底连接区的注入（5）．接触孔：多晶硅，扩散区和金属线1接触端子。

（6）．金属线1：做金属连线，封闭图形处保留铝（7）．通孔：两层金属连线之间连接的端子（8）．金属线2：做金属连线，封闭图形处保留铝①NMOS与PMOS的绘制绘制NMOS要用到的图层有Active、N Select、Poly、Active Contact、Metal1，而PMOS管的版图绘制需要用到N Well、Active、P Select、Poly、Active Contact、Metal1，其中Poly的长度就是晶体管的L，Active的高度就是晶体管的W。

版图模拟集成电路版图设计工作流程
一、设计准备阶段
1.收集设计需求和规格
2.确定版图设计工具
（1）选择合适的版图设计软件
（2）熟悉工具操作方法
二、布局设计
1.绘制整体版图布局
（1）放置主要功能模块
（2）确定连线路径和间距
2.设计外围器件布局
（1）放置电容、电阻等器件
（2）保证布局紧凑和良好连接
三、器件布线
1.连接器件引脚
（1）确定引脚连接顺序
（2）绘制连线路径
2.优化布线
（1）考虑信号传输和功耗（2）调整布线路径提高性能
四、特殊器件设计
1.设计特殊功能模块
（1）绘制模拟电路部分（2）完成数字逻辑设计
2.验证特殊器件功能
（1）模拟仿真验证
（2）数字仿真测试
五、验证与调试
1.进行版图验证
（1）检查器件连接和间距（2）确保布局符合设计规范2.仿真验证
（1）电气仿真测试
（2）时序分析和功耗测试
六、提交版图
1.准备版图文件
（1）导出版图文件格式
（2）打包必要设计文件2.提交给布局工程师（1）交流设计细节和要求（2）确认后提交版图。

集成电路版图设计
集成电路版图设计是指将电子元器件（如晶体管、电阻、电容等）根据电路图的要求进行布局和连线的过程，实现电路功能并将其制作成一张版图以供电路的制造和生产。

集成电路版图设计主要包括以下几个步骤：
1. 电路分析：根据电路的功能及要求，进行电路分析，确定电路的基本结构和模块。

2. 元件选择：根据电路的功能和性能要求，选择合适的元件进行布局。

不同的元件具有不同的特性，如低噪声、快速开关、高频率等，需根据实际要求进行选择。

3. 布局设计：根据电路的结构和模块，将元件进行合理的布局。

布局的目的是使得电路平衡，减少干扰和噪声，并提高电路的稳定性和可靠性。

4. 连线设计：根据电路的功能要求，将各个元件进行连线，形成完整的电路。

连线的设计需要合理安排电路信号的传输路径，避免信号干扰和交叉干扰。

5. 优化设计：对布局和连线进行优化，以提高电路的性能。

例如，优化连线的长度和宽度，减少信号延迟和功耗。

6. 输出版图：将优化后的电路设计转化成计算机可识别的格式，并输出成版图文件。

版图文件可以用于电路的制造和生产。

集成电路版图设计的目的是在满足电路功能要求的前提下，使电路布局和连线达到最佳性能。

对于大规模集成电路（VLSI）设计，还需要考虑功耗、热量和信号完整性等因素，以实现高集成度和高性能的电路设计。

随着技术的不断发展，集成电路版图设计也在不断演进，从传统的手工设计发展到计算机辅助设计（CAD）和自动化设计（EDA），大大提高了设计效率和准确性。

集成电路版图与⼯艺课程设计之⽤CMOS实现Y=AB+C电路与版图1 绪论1.1 设计背景集成电路设计（Integrated circuit design, IC design），亦可称之为超⼤规模集成电路设计（VLSI design），是指以集成电路、超⼤规模集成电路为⽬标的设计流程。

集成电路设计涉及对电⼦器件（例如晶体管、电阻器、电容器等）、器件间互连线模型的建⽴。

所有的器件和互连线都需安置在⼀块半导体衬底材料之上，这些组件通过半导体器件制造⼯艺（例如光刻等）安置在单⼀的硅衬底上，从⽽形成电路。

近些年来，集成电路技术发展迅猛，促使半导体技术不断地发展，半导体技术正在进⼊将整个系统整合在单⼀晶⽚上的时代。

故对VLSI的版图设计的要求也越来越⾼。

Tanner软件可提供完整的集成电路设计环境，帮助初学者进⼊VLSI设计领域。

本设计采⽤Tanner Tools Pro ⼯具，对逻辑为Y=AB+C进⾏电路设计与仿真、版图设计与仿真，在报告中给出电路图、版图与仿真结果。

1.2 设计⽬标设计⽬标逻辑：Y=AB+C⽤CMOS⼯艺设计逻辑为Y=AB+C的电路和版图。

因为CMOS是天然的反逻辑输出，所以需要先设计出逻辑为/Y=/（AB+C）的电路，再将输出接⼊⼀个CMOS反相器实现逻辑功能。

设计电路图（Schematic）时，N⽹络A与B串联且与C并联，P⽹络A与B并联且与C串联，在N和P⽹络的交界节点接⼊反相器后引出输出Y。

设计版图（Layout）时，在P型衬底（P-Sub）上进⾏制作，所以N-MOS管可以直接掺杂制作，⽽P-MOS管需要先制作⼀个N阱（N-Well），并在N阱⾥制作P-MOS管。

整个设计⽐较简单，仅仅使⽤单层⾦属布线（Meteal）。

导出电路和版图⽹表（spice）⽂件，⽤Tspice软件进⾏仿真波形，分析电路和版图是否设计正确性以及其性能如何。

在LVS验证中匹配电路原理图和版图逻辑和尺⼨匹配性，完成整个设计过程。