样品厚度对薄膜法X射线荧光光谱测量的影响研究

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薄膜样 品厚度对 X RF光谱 测量的影响方面研究报道却较少 。
引 言
X射线荧光 ( X R F ) 光 谱分析 法是 通过 产生 高 能 X射 线 来激发待测样品 , 使其产生特征次 级 x射线 ( 也叫 x射线 荧 光) , 根据 特征 X射线荧光 的波长 或能量 及荧光强 度来对 待
关键词 光谱学 ; X射 线荧 光 ; 薄膜法 ;重金属 ; 样 品厚度 文献标识码 :A D OI :1 0 . 3 9 6 4 / j . i s s n . 1 0 0 0 — 0 5 9 3 ( 2 0 1 6 ) 1 2 — 4 0 3 9 — 0 6
中图分类号 : 06 5 7 . 3
X R F光谱仪测得不 同样 品厚 度下薄 膜样 品的 X RF光谱 , 根
据尼龙薄膜样 品中 C r ,P b ,C d元素及 玻璃 纤维 滤 膜 中 c a ,
As 和S r 元素特征 X R F性质 的变化 , 研究 薄膜样品的样品厚 度对 X R F光谱测 量的影响 ,进而选择 出 X R F光谱 法对薄膜
测样 品进行定性 和定 量分析的一种 方法_ 1 ] 。由于该方法具 有
本文 以富集 有 C r ,P b和 C d三种元 素 的尼龙 薄膜 样 品
( 以下简称 C r , P b和 C d混合尼龙薄膜样 品或 昆 合 薄膜 样品) 及玻璃纤维 滤膜 为研 究 对 象 ,采 用 滤膜 叠 加 的方 式 ,通 过
样 品制 样 简 单L 2 ] 、分 析 速 度 快_ 3 ] 、对 待 测 样 品 无 损 测
量[ 、 多种元素可 同时检测_ 2 ] 、 谱 线干扰少[ 7 ] 等优点 , 近 年
样 品测量的最佳样品厚度 。 该 研究为大气及水 体重金 属薄膜 法X R F光谱分析 中薄样 制备及 富集 技术 r , P b和 C d 三种元 素的尼龙 薄膜样 品及 玻璃纤维 滤膜为研究 对象 ,采用 滤膜叠 加
的方式 ,通过 X R F光谱仪测量不 同样品厚度下薄膜样品 的 XR F光谱 , 根据测得 的尼龙 薄膜样 品中 c r , P h , C d元素及玻璃纤维滤膜 中 c a , As 和s r 元素特征 X RF性质 的变化 , 研究样 品厚度对 薄膜法 X R F光谱测 量 的影 响。结果表明 : 薄膜样 品厚度对不 同能量 区间上元素特征谱线荧 光性 质的影响并不相同 。元素特征谱线
1 实验部分
1 . 1 仪 器 及 测 量 条 件
点, 已被广泛应用于 大气及 水体 中重金 属 X R F的分 析与 检 测_ 9 _ 1 3 l 】 。在薄膜法 X R F光谱分析中 , 被分析物 的富集量与 薄 膜样 品的厚度有直接关系 , 但是 近年来 在该研究 领域 中关 于
第3 6 卷, 第1 2 期
2 0 1 6年 1 2月

S p e c t r o s c o p y a n d S p e c t r a l An a l y s i s







V0 L 3 6 , No . 1 2 。 p p 4 0 3 9 — 4 0 4 4
依据。
来 已被广泛应用 于冶金 、 地质 、 煤炭 、 医疗 和环境 保护_ 8 等
领域 。X R F光谱分析 中的薄膜法 , 是将待分析样 品富集 于滤
膜 或者滤纸 上制 成薄样 进行 X R F光 谱测量 和分 析 。由于该 方 法具 有制样简 单、试样用量少 、 基 体效应小 并可忽 略等 优
De c e mb e r ,2 0 1 6
样 品厚 度对 薄 膜 法 x射 线 荧 光光 谱 测 量 的影 响研 究
甘婷婷 , 张玉钧¨ , 赵 南京 , 殷高方 ,肖 雪 , 章 炜。 , 刘建 国 , 刘 文清
1 .中国科学 院安徽光学精 密机械研究所 ,环境 光学与技术重点实验室 ,安徽省环境光学监 测技术 重点实验 室,安徽 合肥 2 .皖江新兴产业技术发展中心 , 安徽 铜 陵 3 .中国人 民解放军陆军军官学 院,安徽 合肥 2 4 4 0 0 0 2 3 0 0 3 1 2 3 0 0 3 1
收稿 日期 : 2 0 1 5 — 0 8 — 1 8 。修订 日期 : 2 0 1 5 - 1 2 — 1 0 基金项 目:皖江 新兴 产业 技 术发 展 中心企 业 合作 项 目( Z NJ X - 1 5 一 l O ) ,国家 ( 8 6 3 ) 计 划 项 目( 2 O 1 3 AAO 6 5 5 O 2 ) ,国 家 自然 科学 基 金 项 目 ( 6 1 4 0 5 2 5 7 ) , 安徽省 自然科学基金项 目( 1 5 0 8 0 8 5 MF 1 3 8 ) ,安徽省 自主创新专项( 1 2 Z O L O 4 O 7 4 ) 资助 作者简介 : 甘婷婷 ,女 ,1 9 8 6年生 ,中国科学 院安徽光学精密机械研究 所助理研究 员
能量越大 , 元 素特征 x射线荧光穿透滤膜到达探测器 的过程 中损 失越少 ;但 由薄膜样 品厚度 增加 引起 的基
体效应却越强 ,相应特征谱 线位置处 的背景荧光强度 就越 大 ,因此样 品厚度增 加所 引起 的基 体效应 对薄膜 法 XR F光谱测量 的灵敏度影 响就越大 。对于特征谱线能量较 低 ( 能量小 于 7 k e V) 的元素 ,以增加 薄膜样 品 厚度的方式来增加待测组分的质量厚度浓度 , 并不 能有效地 提高薄膜 法 X R F光谱 测量 的灵 敏度 ; 对 于特征 谱线能量较高的元素 ( 能量> 7 k e V) , 可 以通过适 当增加样 品厚度 以增 加被 测组 分的质量厚度浓度 的方式来 提高 X RF光谱测量 的灵敏度 , 薄膜样 品厚度在 0 . 9 6 ~2 . 2 4 I T l l n内 , 更有利于 XR F光谱的测量与分析 。 该研 究为大气及水体重金属薄膜法 XR F光谱分析 中薄样 制备及 富集技术 提供了重要的理论依据 。