第二节PN结
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PN结无论是本征半导体,还是单一杂质半导体是不能构成电子器件的。
只有将两种杂质半导体进行有机结合,才能制造出电子器件。
采用不同的掺杂工艺,通过扩散作用,将P型半导体与N型半导体制作在同一块半导体基片上,在它们的交界面将形成PN结。
PN结具有单向导电性。
它是构成电子器件的最小结构。
在半导体器件和集成电路中具有重要的作用。
1.2 PN结及其单向导电性1.2.1 PN结的形成在一块本征半导体在两侧通过扩散不同的杂质,分别形成P型半导体和N型半导体。
P型半导体和N型半导体的交界面形成一个特殊的薄层,称为PN结。
NP+++---+++++++++++++-------------PN结(1)PN结形成的物理过程:交界面两侧载流子存在浓度差空穴和电子在交界面产生复合多子浓度骤然下降不移动带电离子形成空间电荷区耗尽层、PN 结多子的扩散运动N 区的电子(多子)向P 区扩散P 区的空穴(多子)→N 区空间电荷区(PN 结)PN耗尽层内电场+_PN 结内:N 区失去电子→显正电性P 区得到电子→显负电性在空间电荷区内形成了N 区→P 区的电场,称为内电场1.2 PN结及其单向导电性(2)PN结内存在两种载流子的运动:空间电荷区形成内电场促进少子漂移运动阻止多子扩散运动形成PN 结宽度相对稳定②少子的漂移运动:N 区的空穴→P 区P 区的电子→N 区空间电荷区变窄空间电荷区加宽①多子的扩散运动:N 区的电子→P 区P 区的空穴→N 区扩散和漂移达到动态平衡1.2 PN结及其单向导电性NP ++++++++++++++++----------------E 多子的扩散运动浓度差少子的漂移运动内电场越强,漂移运动越强,而漂移使空间电荷区变薄。
扩散的结果使空间电荷区变宽。
RUN P ++++++++++++++++----------------U φUi D++__1.2.2PN 结的单向导电性(1)PN结加正向电压(正偏):P 区接电源正极,N 区接负极外电场与内电场方向相反外电场削弱内电场耗尽层变窄破坏PN 结动态平衡扩散运动>漂移运动多子扩散形成较大的正向电流PN结呈现低阻导通状态1.2 PN结及其单向导电性RUU i RU φN P ++++++++++++++++----------------++__(2)PN结加反向电压(反偏):P 区接负电源,N 区接正外电场与内电场方向相同外电场加强内电场耗尽层变宽破坏PN 结动态平衡漂移运动>扩散运动少子漂移形成极小的电流PN结呈现高阻截止状态1.2 PN结及其单向导电性1.2 PN结及其单向导电性PN结加反向电压时,具有很小的反向漂移电流,呈现高电阻,PN结截止。
2-1.P N +结空间电荷区边界分别为p x -和n x ,利用2T V V i np n e =导出)(n n x p 表达式。
给出N 区空穴为小注入和大注入两种情况下的)(n n x p 表达式。
解:在n x x =处 ()()⎪⎪⎩⎪⎪⎨⎧⎪⎭⎫ ⎝⎛-=⎪⎭⎫⎝⎛-=KT E E n x n KT E E n x p i Fn in n FP i i nn exp exp()()VT V i Fp Fn i n n n n e n KT E E n x n x p 22exp =⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛-= 而()()()000n n n n nn n n n n n n p x p p p n x n n n p x =+∆≈∆=+∆=+ (n n n p ∆=∆)()()TTV Vin n n V V in n n en p n p e n n n p 2020=∆+⇒=∆+2001TV V n i n n n p n p e n n ⎛⎫⇒+=⎪⎝⎭ T V V 22n n0n i p +n p -n e =0n p =(此为一般结果) 小注入:(0n n n p <<∆)T T V V n V V n i n e p e n n p 002== ()002n n i p n n =大注入: 0n n n p >>∆ 且 n n p p ∆= 所以 TV V inen p 22=或 TV Vi n en p 2=2-2.热平衡时净电子电流或净空穴电流为零,用此方法推导方程20lni ad T p n n N N V =-=ψψψ。
解:净电子电流为()n nn nI qA D n xμε∂=+∂ 处于热平衡时,I n =0 ,又因为 d dxψε=-所以nn d n n D dx x ψμ∂=∂,又因为n T nDV μ=(爱因斯坦关系) 所以dn nV d T=ψ, 从n p x x →-作积分,则2002ln ln ln ln ln i a d n p T n T po T d T T a in N NV n V n V N V V N n ψψψ=-=-=-=2-3.根据修正欧姆定律和空穴扩散电流公式证明,在外加正向偏压V 作用下,PN 结N 侧空穴扩散区准费米能级的改变量为qV E FP =∆。
第二章PN结1. PN结:由P型半导体和N型半导体实现冶金学接触(原子级接触)所形成的结构。
任何两种物质(绝缘体除外)的冶金学接触都称为结(junction),有时也叫做接触(contact)。
2. PN结是几乎所有半导体器件的基本单元。
除金属-半导体接触器件外,所有结型器件都由PN结构成。
3. 按照杂质浓度分布,PN 结分为突变结和线性缓变结.突变结杂质分布线性缓变结杂质分布4. 空间电荷区:PN结中,电子由N区转移至P区,空穴由P区转移至N区。
电子和空穴的转移分别在N区和P区留下了未被补偿的施主离子和受主离子。
它们是荷电的、固定不动的,称为空间电荷。
空间电荷存在的区域称为空间电荷区。
5. 内建电场:P区和N区的空间电荷之间建立了一个电场——空间电荷区电场,也叫内建电场。
PN结自建电场:在空间电荷区产生缓变基区自建电场:基区掺杂是不均匀的,产生出一个加速少数载流子运动的电场,电场沿杂质浓度增加的方向,有助于电子在大部分基区范围内输运。
大注入内建电场:在空穴扩散区(这有利于提高BJT的电流增益和频率、速度性能)。
6. 内建电势差:由于内建电场,空间电荷区两侧存在电势差,这个电势差叫做内建电势差(用表示)。
7. 费米能级:平衡PN结有统一的费米能级。
准费米能级:当pn结加上外加电压V后,在扩散区和势垒区范围内,电子和空穴没有统一的费米能级,分别用准费米能级。
8. PN结能带图热平衡能带图平衡能带图非平衡能带图正偏压:P正N负反偏压:P负N正9. 空间电荷区、耗尽区、势垒区、中性区势垒区:N区电子进入P区需要克服势垒,P区空穴进入N区也需要克服势垒。
于是空间电荷区又叫做势垒区。
耗尽区:空间电荷区内的载流子完全扩散掉,即完全耗尽,空间电荷仅由电离杂质提供。
这时空间电荷区又可称为“耗尽区”。
中性区:PN结空间电荷区以外的区域(P区和N区)。
耗尽区主要分布在低掺杂一侧,重掺杂一边的空间电荷层的厚度可以忽略。
采用不同的掺杂工艺,通过扩散作用,将P型半导体与N型半导体制作在同一块半导体(通常是硅或锗)基片上,在它们的交界面就形成空间电荷区称PN结。
PN结具有单向导电性。
P是positive的缩写,N是negative的缩写,表明正荷子与负荷子起作用的特点。
PN结(PN junction)一块单晶半导体中,一部分掺有受主杂质是P型半导体,另一部分掺有施主杂质是N型半导体时,P 型半导体和N型半导体的交界面附近的过渡区称为PN结。
PN结有同质结和异质结两种。
用同一种半导体材料制成的PN 结叫同质结,由禁带宽度不同的两种半导体材料制成的PN结叫异质结。
制造PN结的方法有合金法、扩散法、离子注入法和外延生长法等。
制造异质结通常采用外延生长法。
P型半导体(P指positive,带正电的):由单晶硅通过特殊工艺掺入少量的三价元素组成,会在半导体内部形成带正电的空穴;N型半导体(N指negtive,带负电的):由单晶硅通过特殊工艺掺入少量的五价元素组成,会在半导体内部形成带负电的自由电子。
在P 型半导体中有许多带正电荷的空穴和带负电荷的电离杂质。
在电场的作用下,空穴是可以移动的,而电离杂质(离子)是固定不动的。
N 型半导体中有许多可动的负电子和固定的正离子。
当P型和N型半导体接触时,在界面附近空穴从P 型半导体向N型半导体扩散,电子从N型半导体向P型半导体扩散。
空穴和电子相遇而复合,载流子消失。
因此在界面附近的结区中有一段距离缺少载流子,却有分布在空间的带电的固定离子,称为空间电荷区。
P 型半导体一边的空间电荷是负离子,N 型半导体一边的空间电荷是正离子。
正负离子在界面附近产生电场,这电场阻止载流子进一步扩散,达到平衡。
在PN结上外加一电压,如果P型一边接正极,N型一边接负极,电流便从P 型一边流向N型一边,空穴和电子都向界面运动,使空间电荷区变窄,电流可以顺利通过。
如果N型一边接外加电压的正极,P型一边接负极,则空穴和电子都向远离界面的方向运动,使空间电荷区变宽,电流不能流过。
1、下列说法正确的是______。
A.P型半导体带正电
B.N型半导体带正电
C.PN结为电的中性体
D.PN结存在内电场,用导线短接时,有电流产生
2、下列PN结两端的电位值,使PN结导通的是______。
A.P端接+5 V,N端通过一电阻接+7 V
B.N端接+2 V,P端通过一电阻接+7 V
C.P端接-3 V,N端通过一电阻接+7 V
D.P端接+1 V,N端通过一电阻接+6 V
3、如果将一个普通的PN结的两端通过一电流表短路,回路中没有其他电源。
当用光线照射该PN结时,电流表的读数______。
A.为零
B.增大
C.减小
D.视光强确定
4、半导体PN结是构成各种半导体器件的工作基础,其主要特性是______。
A.具有放大特性
B.具有单向导电性
C.具有改变电压特性
D.具有增强内电场特性
1-4:CBAB。