电子特种气体基础知识
- 格式:pdf
- 大小:159.93 KB
- 文档页数:26
特殊设备安全基础知识一、特殊设备(一)特殊设备的种类和分类,特殊设备安全性工作原理及特点,特殊设备的安全强度概念及承压设备用材料、焊接安全特点,承压设备承载介质安全特点;特殊设备种类和分类:有锅炉、压力容器(含气瓶)、压力管道、电梯、起重机械、客运索道、大型游乐设施等共七类。
其中锅炉、压力容器(含气瓶)、压力管道属于承压类,电梯、起重机械、客运索道、大型游乐设施属于机电类。
特殊设备安全性工作原理及特点:锅炉安全工作特性:(1)爆炸危险。
(2)容易损坏。
(3)使用的普遍性。
(4)连续运行。
压力容器的安全工作特性:和锅炉有相似之处,例如,由于高温和高压,存在爆炸风险和脆弱性。
此外,还可能由于介质易燃、有毒或腐蚀性,当发生泄漏时,可引发火灾、大面积中毒等严重事故。
电梯的安全工作特性:电梯可能存在的危险通常是:人员被挤压、剪切、撞击和发生坠落;人员被电击、轿厢超过极限行程并发生碰撞;轿厢超速或因断绳造成坠落;由于材料失效、强度丧失而造成结构破坏等。
起重机械的安全工作特性:起重机械包括轻型和小型起重设备、起重机、升降机三类,其工作特点可概括为以下7点:(1)起重机械通常具有庞大的结构和相对复杂的机构,能完成一个起升运动、一个或几个水平运动。
(2)有很多种重物需要吊起,载荷是变化的。
(3)大多数起重机械,需要在大范围内操作,活动空间较大。
(4)有些起重机械,需要直接载运人员在导轨、平台或钢丝绳上的提升运动(如电梯、升降平台等),其可靠性直接影响人身安全。
(5)暴露的、活动的零部件较多,经常与起重作业人员直接接触(如吊钩、钢丝绳等),潜在许多偶发的危险因素。
(6)复杂的工作环境。
(7)在手术中经常需要许多人合作,共同进行一个操作。
上述许多风险因素的存在,决定了起重伤害事故较多。
大型娱乐设施和客运索道:由于载人且运动范围较大,任何由电气或机械故障引起的运动状态变化都可能导致人员伤亡。
承压设备用材:钢材,按化学成分可分为碳钢和合金钢,按金相组织分可分成珠光体钢、贝氏体钢、奥氏体钢、铁素体钢。
特种设备安全管理人员理论知识一、 基础知识da1 基础知识 (10分)da1.1 各类特种设备定义(1)锅炉的定义及结构锅炉,是指利用各种燃料、电或者其他能源,将所盛装的液体加热到一定的参数,并通过对外输出介质的形式提供热能的设备,其范围规定为:a)设计正常水位容积大于或者等于30L,且额定蒸汽压力大于或者等于0.1MPa(表压)的承压蒸汽锅炉;b)出口水压大于或者等于0.1MPa(表压),且额定功率大于或者等于0.1MW的承压热水锅炉;c)额定功率大于或者等于0.1MW的有机热载体锅炉。
∩ 设计正常水位容积 额定蒸汽压力/出口水压力额定功率承压蒸汽锅炉 ≥30L ≥0.1MPa(g)承压热水锅炉 ≥0.1MPa(g) ≥0.1MW有机热载体锅炉 ≥0.1MW锅炉的结构形式:水管锅炉、锅壳式锅炉(火管锅炉√,火管式锅炉×)锅炉的结构形式:立式锅炉、卧式锅炉锅壳式锅炉的基本结构单元:锅壳(锅筒)、炉胆、火管(烟管)等。
水管锅炉的基本结构单元:汽包(锅筒)、集箱、受热面管、钢架等。
单锅筒锅炉的基本组成部分:锅筒、集箱、水冷壁、过热器、再热器、省煤器、空气预热器、锅炉范围内的管道、钢架、燃烧系统、各类附件。
热负荷对蒸汽锅炉而言叫蒸发量(t/h),对热水锅炉和有机热载体锅炉而言叫热功率(MW)。
工作压力指锅炉、锅炉受压元件出口处的运行压力。
热效率指锅炉所产生的热量与燃料所储存的热量的比值。
(2)压力容器(含气瓶)的定义及结构组成压力容器,是指盛装气体或者液体,承载一定压力的密闭设备,其范围规定为:a)最高工作压力大于或者等于0.1MPa(表压)的气体、液化气体和最高工作温度高于或者等于标准沸点的液体、容积大于或者等于30L且内直径(非圆形截面指截面内边界最大几何尺寸)大于或者等于150mm的固定式容器和移动式容器;b)盛装公称工作压力大于或者等于0.2MPa(表压),且压力与容积的乘积大于或者等于1.0MPa•L的气体、液化气体和标准沸点等于或者低于60℃液体的气瓶;c)氧舱。
半导体气体特性及系统介绍1.密度:半导体气体的密度通常介于气体和固体之间。
由于半导体气体的分子较大,分子间的距离比较小,因此密度较高。
2.稳定性:半导体气体通常是在常温和常压下稳定存在的,不易挥发或分解。
这使得其在实验室和工业生产中易于操作。
3.电子结构:半导体气体的电子结构决定了它的导电性能。
半导体气体具有禁带宽度,当外加电场或光照作用于半导体气体时,电子可以被激发到导带中,从而导电。
这种特性使半导体气体成为电子器件和光电器件的重要组成部分。
4.光学性质:半导体气体对光的吸收和发射具有特殊的性质。
半导体气体可以对特定波长的光进行选择性吸收和发射,这种特性使其在激光器和光通信器件等领域有广泛应用。
5.化学性质:半导体气体在化学反应中具有较高的活性和选择性。
半导体气体通常可以通过与其他物质反应生成化合物,用于制备新材料或催化剂。
1.气体源:提供半导体气体的容器或气体发生器。
半导体气体可以通过化学反应或其他方法制备得到。
2.气体净化系统:用于除去半导体气体中的杂质和污染物。
由于半导体气体在制备过程中有严格的纯度要求,因此气体净化系统是必不可少的。
3.气体输送系统:将净化后的半导体气体输送到使用点。
气体输送系统通常包括气体管道、阀门、流量控制器等设备,以确保气体的稳定输送。
4.气体处理系统:对半导体气体进行处理,如降温、升温、压缩等操作。
这些处理操作可以使半导体气体达到所需的工艺条件。
5.气体检测系统:用于监测半导体气体的纯度和流量。
气体检测系统通常包括气体纯度分析仪、气体流量计等设备,以确保半导体气体达到要求。
半导体气体系统在半导体制造、光电器件制造、化学合成等领域有广泛的应用。
它们不仅能够提供所需的半导体气体,还可以控制气体纯度和流量,确保所需工艺的顺利进行。
由于半导体气体的特殊性质,半导体气体系统在高科技产业中起着重要的作用。