微纳光学 PPT

微纳光学加工及应用孙奇一、微纳光学结构光是一种电磁波，是由同相相互垂直的电场与磁场在空间中以波的形式移动而形成的，其传播方向垂直于电场与磁场所构成的平面，电磁波能有效的传递能量和动量[1]。从低频到高频，电磁波可以分为：无线电波、微波、红外线、可见光、紫外光、X射线和γ射线等，人眼可见波长在380nm至780nm之间，如图1所示。(a)(b)图1. (a)

微纳光学

光学微腔特性研究及其应用.ppt

第四章 微光学元件与应用(白底)

微纳光学与SPR技术SC12009006 王启蒙摘要：表面等离子体共振（Surface plasmon resonance，SPR），又称表面等离子体子共振，表面等离激元共振，是一种物理光学现象，有关仪器和应用技术已经成为物理学、化学和生物学研究的重要工具。1 SPR简介SPR是一种物理光学现象。当一束平面单色偏振光在一定的角度范围内照射到镀在玻璃表面的金属

• 对于微系统的关键技术-微制造技术来说，微电子工程中的微细加工 技术只是一个重要的基础部分，并不是全部，这是由微系统与微电 子电路结构方面的差异决定的。• 微系统可能包含一些可动

参数。★由式可见，若要曝光成像与掩模设计图形尽可能一致，只有 减小间隙和缩短照明波长。102.2.2投影式曝光★投影式曝光既有接触式曝光的高分辨率，而又避免了接触式 曝光容易产生缺

第二届微纳光学技术与应用交流会交流节目单——整体日程交流节目单——大会报告地点：钻石厅，4F交流节目单——分专题报告专题一：微纳光子器件技术及应用专题九：纳异质结构与量子光电子学地点：钻石A厅，4F专题二：微纳制造专题六：先进显示地点：水晶A厅，4F专题三：微纳传感专题四：先进成像专题十：能源光电子地点：清江厅，5F专题五：微纳材料专题八：柔性器件地点：贵宾

1引言微纳光学主要指微纳米尺度的光学效应，以及利用微纳米尺度的光学效应开发出的光学器件、系统及装置。微纳光学不仅是光电子产业的重要发展方向之一，也是目前光学领域的前沿研究方向。微纳光学的发展是由大规模集成电路工艺水平的进步所推动的。早在20世纪50年代，德国著名教授A.W.Lohmann [1]就考虑到利用光栅的整体相移技术对光场相位编码，以实现对光波的人工

微纳光学与S P R技术-CAL-FENGHAI-(2020YEAR-YICAI)_JINGBIAN微纳光学与SPR技术SC12009006 王启蒙摘要：表面等离子体共振（Surface plasmon resonance，SPR），又称表面等离子体子共振，表面等离激元共振，是一种物理光学现象，有关仪器和应用技术已经成为物理学、化学和生物学研究的重要工具。1

互作用规律、相关的操控及其应用技术等。通过它我们希望实现在微纳尺度上，光波的发射、传播、变换和接收。微纳光学不仅是光电子产业的重要发展方向之一，也是目前光学领域的前沿研究方向。微纳

科研实践文献综述学院物理与信息工程学院专业应用物理学学号*********姓名指导教师题目光学微腔的原理及制作研究光学微腔的原理及制作研究一、光学微腔发展背景光学微腔是一种尺寸在微米量级或者亚微米量级的光学谐振腔，它利用在折射率不连续的界面上的反射、全反射、散射或者衍射等效应，将光限制在一个很小的区域。基于回音壁模式( Whispering Gallery

光学微腔研究进展前言基于回音壁模式(Whispering Gallery Mode，简称WGM[1])的光学微腔成为了近年来研究的热点。首先它作为一种尺寸可与光波长相比拟的光学谐振腔，使得凝聚态中的一些量子电动力学现象得以研究[2]；其次作为一种低阈值激光微腔，在集成光学、信息光学等诸多应用领域有很好的应用前景。目前光学介质微腔的形状也多种多样，主要有微球腔

SC 王启蒙摘要：表面等离子体共振（Surface plasmon resonance，SPR），又称表面等离子体子共振，表面等离激元共振，是一种物理光学现象，有关仪器和应用技术已经成为物理学、化学和生物学研究的重要工具。1 SPR简介SPR是一种物理光学现象。当一束平面单色偏振光在一定的角度范围内照射到镀在玻璃表面的金属银或金的薄膜上发生全反射时，当入射光

Silicon,silic a Silicon, silica, 反应离子刻蚀 (RIE) polymer 激光直写 微喷墨 微模制 PR Liquid polymer Polym

三、微光学元件加工技术1、二元光学技术 用二元光学技术制作一个4位相级微透镜的步骤衍射效率随位相级数的变化2、连续浮雕微光学元件加工技术（1）直写法 一种直角坐标方式 的激光直写系

连续面型衍射光学元件二元光学元件6四、微光学的主要研究机构国外：美国：加利福尼亚大学、林肯实验室、JPL喷气动力实验室、 杜邦公司等加拿大：国家光学实验室(NOL)德国：爱 尔兰根

二元光学技术设 计光学功能 解析法： 数值法：复杂微结构元件Fresnel微透镜光学元件的位相函数 薄型连续面浮雕分布 台阶型衍射浮雕微结构 制造理论： 几何光学、标量衍射理论、矢

★曝光宽容度大的胶受曝光能量 浮动或不均匀的影响较小。图2.13 两种胶形成的线宽随曝光 剂量的变化 (曝光宽容度定义为偏离标准线 宽±10％的曝光剂量范围)11六、光刻胶的工艺宽