提高真空度可使膜层的结构得到改善，化学 成分变纯，但一般情况下会增大膜层的应力。
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2.沉积速率（蒸发速率）
沉积速率——单位时间内在被镀基底表面上形成 的膜层厚度，单位为nm/s。
速率是动能的又一表征，它对膜层的折射率、 牢固度、机械强度、应力、附着力有明显影响。
低的沉积速率会导致蒸气分子从基底返回，晶 核生长缓慢，结晶只能在大的聚集体上进行，从而 导致膜层结构疏松；高的沉积速率下会形成颗粒细 小而致密的膜层，膜层散射小，牢固度高。
(1).冷基底：金属膜或光学塑料基底； (2).高基底温度的优点：
①使基底表面的残余气体解吸附，增加基底与沉积分子之间的结合力； ② 增强分子之间的相互作用，使膜层致密，提高附着力；
(3).基底温度过高，也会使膜层结构变化、膜料分解、 不利成膜。
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4.离子轰击的作用
1). 镀前轰击：使基片表面因离子溅射剥离而再清 洁和电活化，提高膜层到的膜层任意光学厚度（n1d1）， 一定存在一个或数个波长的光可用来依极值法原
理监控其厚度。
例如： nd=250nm时, λ01=1000nm, λ02=500nm, λ03=250nm,
(1个极值) (2个极值) (4个极值)
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单层介质薄膜能量反射率随膜层厚度的变化规律
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2. 典型装置
提高沉积速率的方法： ① 提高蒸发源温度； ②增大蒸发源面积。
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3.基底温度
基底温度是膜层生长的重要条件之一。它对 膜层原子或分子提供额外能量补充，对膜层结构、 凝聚系数、膨胀系数和聚集密度起着重要的作用。 宏观反映在膜层折射率、散射、应力、附着力、 硬度和不溶性都会因基片温度的不同而有较大差 异。
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综合分析结果
