若干半导体纳米线生长机理及发光特性的研究
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单晶MgO纳米带的生长特性和发光性能李明吉;王秀锋;李红姬;吴小国;曲长庆;杨保和【摘要】本文采用直流电弧等离子体喷射化学气相沉积法(DC Arc Plasma Jet CVD),在氢气和氩气的高温等离子体作用下直接分解硝酸镁,在Mo衬底上制备了单晶MgO纳米带,并采用SEM、TEM及XRD等测试手段进行了形貌与结构表征,研究了生长时间对MgO纳米带形貌的影响.结果表明,生长时间为0.5 min时,生长出顶部带有Mo纳米颗粒的“蝌蚪状”MgO纳米带,而整个纳米结构被较多的非晶MgO覆盖;当生长时间增加到2min时,顶部的Mo纳米颗粒几乎脱落,同时长出若干个纳米带,形成“树枝状”;生长时间进一步增加到5 min时,形成完整的“带状”,其宽度约30~50 nm;而生长时间达到12 min时,纳米带又转变为“棒状”.机理分析表明,Mo催化VLS生长模式和VS生长模式共同作用下生长了MgO纳米带.另外,通过FFIR谱结合PL谱分析了缺陷及其引起的光致发光性能.由于MgO 纳米带存在低配位氧离子(OLC2-)空位等结构缺陷,具有紫蓝发光特性,而随着生长时间的增加,结构缺陷变少,随之紫蓝发射峰强度变弱.本文首次采用该方法制备了单晶MgO纳米带,该方法工艺简单,生长速率快,是非常经济、有效和环境友好的方法.【期刊名称】《无机化学学报》【年(卷),期】2013(029)006【总页数】7页(P1199-1205)【关键词】直流电弧等离子体喷射CVD;MgO;纳米带;光致发光【作者】李明吉;王秀锋;李红姬;吴小国;曲长庆;杨保和【作者单位】天津理工大学电子信息工程学院薄膜电子与通信器件天津市重点实验室,天津 300384;天津理工大学电子信息工程学院薄膜电子与通信器件天津市重点实验室,天津 300384;天津理工大学化学化工学院,天津300384;天津理工大学电子信息工程学院薄膜电子与通信器件天津市重点实验室,天津 300384;天津理工大学电子信息工程学院薄膜电子与通信器件天津市重点实验室,天津 300384;天津理工大学电子信息工程学院薄膜电子与通信器件天津市重点实验室,天津 300384【正文语种】中文【中图分类】O614.220 引言氧化镁(MgO)纳米材料作为一种新型高功能精细无机材料,具有不同于本体材料的光、电、磁、化学特性,在杀菌剂[1]、催化剂载体[2-5]、耐火材料[6]、陶瓷材料[7]、燃料电池[8]、等离子体显示板[9]、超导器件[10]、微纳电子器件[11-12]、电化学生物传感器[13-14]等研究领域有着广阔的应用前景。
一种水热生长的ZnO纳米线特性研究沈耀国【摘要】水热生长ZnO纳米线一般分为两步,制备合适的衬底并生长纳米线.系统介绍了ZnO籽晶衬底以及无籽晶衬底制备过程,并讨论制备过程各步骤的功能.深入研究硝酸锌和六次甲基四胺混合液生长纳米线的反应过程,分别调节溶液浓度、水浴反应温度、PH值以及聚乙稀亚胺质量寻求最佳的生长条件.室温下ZnO纳米线的光致发光谱表明,存在紫外,蓝光和绿光发射峰.最后对水热法掺杂纳米线进行了介绍,掺杂材料和掺杂浓度决定纳米线的发光特性以及磁性.【期刊名称】《聊城大学学报(自然科学版)》【年(卷),期】2014(027)003【总页数】6页(P80-85)【关键词】纳米线;水浴法;籽晶;掺杂【作者】沈耀国【作者单位】闽江学院物理学与电子信息工程系,福建福州350108【正文语种】中文【中图分类】O78直接带隙半导体ZnO是II-VI族化合物,具有六角纤维矿结构,晶格常数a为0.325 nm,c为0.521 nm.在300 K的温度下,禁带宽度[1]为3.3 eV,并且有60 meV的激子束缚能[2].氧化锌熔点高达1975℃,结合能达到1.89eV,这种材料具有很高的热以及机械稳定性[3].一维纳米材料具有显著的量子效应以及电子传导效应,是纳米器件系统的主要基元.因此,氧化锌纳米线在构造电子器件,光电器件,电化学器件等领域具有良好的应用前景,利用它已经制备出太阳能电池、紫外线激光器、纳米发电机、光电二极管等.在这些应用中,最关键的一步是合成整齐排列的ZnO纳米线阵列.为了大规模生产,寻求一种省时、低成本的制备方法是人们研究的方向.很多方法被用来制备氧化锌纳米线,包括气-液-固生长法(VLS)[4],化学气相沉积法(CVD)[5],电化学沉积法(ED)以及水浴方法[6].前三种方法需要精密的仪器以及苛刻的生长条件,比如VLS中需要单晶衬底以及890℃以上的高温,相比较而言,水浴法更经济.通过一种简单低温的水浴法,Keis et al合成了高度取向的氧化锌微纳米管和微纳米棒[7].降低反应液的浓度,保持锌盐和氨等比例混合[6],纳米棒的直径从1-2 um降低到100-200 nm.Boyle, et al发展[8]了两步法,包括预涂阶段形成氧化锌模板层和随后的溶液沉积过程,长出亚微米级垂直取向氧化锌纳米棒.Imai and Yamabi改变[9]水溶液的PH值以及溶液的浓度,研究了纤维锌矿氧化锌薄膜生长的关键条件,并且在改进的衬底上成功合成了氧化锌纳米棒阵列.Greene, et al报道[10]了不同培养基上生长的氧化锌纳米棒,深入研究了温度对材料光电性能的影响.虽然水浴法制备的氧化锌纳米棒比较经济、简单,但是生长的纳米棒质量不如通过其他方法制备的高,最大的困难是无法控制纳米线结构的生长.比如,通过VLS,CVD和ED制备材料的X射线衍射(XRD)图仅有002和004衍射峰,表明纳米棒的取向完全垂直于培养基.相比较而言,水浴路线制备的氧化锌纳米棒,还有100,101和102等其它的杂相衍射峰.而且,水浴法明显比其它方法获得的纳米棒直径粗.本文介绍一种简单的湿化学法制备 ZnO纳米线.该方法采用硝酸锌和六次甲基四胺(C6H12N4)的混合水溶液,在不同的衬底上生长出了高度取向的ZnO薄膜.为了长出质量良好的氧化锌纳米线,在生长纳米线之前,首先要对衬底进行预处理.1.1 衬底预处理水浴法制备制备ZnO纳米线过程中,可以直接在衬底上生长ZnO纳米线,但大多数都是借助籽晶衬底生长纳米线,一般使用ITO玻璃、硅或者二氧化硅作为衬底.考虑到溶液中生长的ZnO纳米线与衬底晶格存在晶格失配,有必要在这些衬底上涂一层籽晶,以利于纳米线的生长.1.1.1 制备籽晶.籽晶制备有溅射法和溶胶凝胶法.前者耗时多但效果好,需要昂贵的溅射仪;后者使用旋涂机在短时间内可以完成,并取得了良好的效果.图1以ITO玻璃作为衬底[11],简单展示了纳米线生长的整个过程:制备ZnO籽晶完成后,用水浴法合成ZnO纳米线.制备籽晶过程大体分成三步,首先配置二水合醋酸锌(Zn(AC)2·2H2O,纯度为99.9%)胶体溶液;然后用旋涂机镀膜;再者适当温度分解得到ZnO籽晶.随后用高倍显微镜观察ZnO籽晶情况,再用XRD进一步分析所制备籽晶[12],结晶质量良好的籽晶可以观察到ZnO(100)面.下面介绍三种溶胶凝胶制备籽晶衬底的过程. (1) 二水合醋酸锌(Zn(AC)2·2H2O,分析纯)溶解于乙二醇甲醚(2-Methoxyethanol) 单乙醇胺(monoethanolamine)作为稳定剂,Zn2+浓度是0.5 M,胶体中的锌离子浓度和乙醇胺的摩尔比为1:1,混合后的溶液在60℃条件下搅拌2 h,得到澄清透明的溶液,以之为镀膜用.滴3-5滴于玻璃衬底上,基本覆盖整个表面.3 000r/min,旋转时间30 s,重复三次.200℃加热2 h,随炉冷却到室温.得到的籽晶颗粒尺寸约为50 nm.(2) 二水合醋酸锌(Zn(AC)2·2H2O,分析纯)0.004 M,乙醇(ethanol):250 mL,90℃下加热,得到胶体溶液.然后滴溶液于衬底上[11],等到基本覆盖整个表面,开始旋涂.参数为:1 500 r/min,旋转时间60 s,重复四次.最后在90℃烤炉中烘干.最后生长的ZnO纳米线约为2 um.(3) 称0.8 g聚乙烯醇(polyvinyl alcohol,PVA,MW-90000)放于10 mL去离子水中,在70℃-80℃下搅拌1 h;然后称取0.1 g的二水合醋酸锌(Zn(AC)2·2H2O,纯度为99.9%)溶解于上述溶液.在室温下搅拌2 h,再者在室温下老化24 h,得到胶体.单乙醇胺(monoethanolamine)作为稳定剂,Zn2+浓度是0.5 M,胶体中的锌离子浓度和乙醇胺的摩尔比为1:1,混合后的溶液在60℃条件下搅拌2 h,得到澄清透明的溶液,以之为镀膜用.旋涂机参数:3 000 r/min,旋转时间60 s.PVA作用:形成多聚物母体,利于醋酸锌分子的扩散.500℃退火3 h,去除有机物分子,并且使醋酸锌分解为氧化锌[13].1.1.2 无籽晶衬底.Jing hua tian, et al采用无籽晶层的处理过的硅(Si)衬底制备纳米线[14],生长过程如图2.具体过程如下:首先在Si(100)基片上溅射50 nm厚的Au层作为中间层,帮助纳米线的生长;然后沉积20 nm后的Ti 作为粘合层防止晶格失配.该种方法制备出的纳米线长度超过22 um,线密度接近100%,并且改善了底部融合.1.2 生长机理配置一定比例的Zn(NO3)2和(CH2)6N4的混合液,两者的物理的量之比为1:1,把长有籽晶的基片放置在上述溶液中,在某一温度(20℃-90℃)的水浴锅磁力搅拌,静置一段时间(1-6 h).用去离子水冲洗反应后的样品,直到样品表面的沉积物去掉为止.待样品干燥后,用XRD,SEM等仪器对样品进行表征.可以用以下方程式[5]表述溶液中的反应.在水解方程(1)、(2)中,六次甲基四胺水解为氨和甲醛,氨溶于水后生成氨水,进一步水解为羟基(OH-)和铵根).方程(3)提供了ZnO的前驱物Zn(OH)2,最终通过脱水得到的氧化锌长在籽晶层上.用六次甲基四胺作为反应物,是为了提供可控的羟基源,动态控制水溶液中Zn2+的浓度,防止溶液中ZnO沉淀的生成.调整反应物的参数,比如改变反应物的浓度,以及反应时间和反应温度,可以决定反应进行的方向.研究发现,当引入氨水时,溶液的PH只就发生变化.纳米线的长度,直径和纵横比都会增加.氨水的引入抑制了匀相成核,与自由锌离子形成如下的复合反应.其中n=1,2,3,4.使得溶液中的自由的Zn2+浓度降低,会从而降低了溶液的过饱和度,防止了沉淀的产生.当溶液的PH值为8-10时,纳米线变成圆锥形状.这是由于溶液中过多的OH-除了生长纳米线外,还会腐蚀已生成的ZnO.可用下面的方程式解释随着氨水的继续增加,当PH值超过11时,纳米线的生长速度及其缓慢,甚至没有发现纳米线.为了解决这个问题,引入聚乙稀亚胺(PEI)进一步抑制匀相成核.结果表明,氨水和PEI的引入,有效的避免了溶液中的ZnO沉淀,另一方面还能保持ZnO纳米线以较高的速率生长.一个合理的解释是:PEI优先吸附了氧化锌的特定表面[15]并且抑制了沿该晶面的生长.适量的PEI促进纳米线的轴向生长,而抑制径向生长.实验发现,过量的PEI会阻止纳米线的生长.这可能有由于过量的PEI完全覆盖了ZnO籽晶,而且溶液的过饱和度过低所致.Jing hua tian, et al认为PEI对生长纳米线没有什么帮助[14],引入适量的氨水达到生长纳米线的最佳条件,得到长度接近22 um的纳米线,克服了更换本体液的缺点.除了氨水和PEI会影响纳米线生长以外,还有溶液的浓度、反应温度以及反应时间.在有ZnO籽晶层的情况下,溶液浓度越高,纳米线直径约大[11].在无籽晶层时,基片上生长的纳米线密度受初始的锌盐和六次甲基四胺的浓度决定.随着锌盐浓度的增加,纳米线的基片面生长密度急剧增加.锌盐浓度的增加,导致其化学势增加,为了平衡增加的化学势,更多的成核点产生了,因此纳米线的密度增加了.当锌盐浓度进一步增加,成核点的密度趋于稳定,稳定的成核密度可通过纳米线的成核与生长过程来理解.纳米线生长分两步,首先成核,然后在成核点长出纳米线.在成核的最后阶段,过量锌离子不会产生新的成核点.一方面由于生成纳米线的成核点需要达到临界尺寸,小于临界尺寸的成核点不会形成纳米线;另外,生长的纳米线比成核点更容易吸收达基片的锌离子.考虑到以上两因素,随着纳米线的生长,那些未达到临界尺寸的成核点会逐渐溶解在溶液中.温度是对纳米线纵横比影响重要的一个因素.为了保持氧化锌纳米线的六棱形,必须选择合适的温度,因为极性面和非极性面对温度的响应是不一样的.另外,氧化锌纳米线形成的过程是个吸热反应[16],温度过低,反应速度比较慢,不会形成纳米线.水浴温度升高时,纳米线的长度和线径都会增大.1.3 表征一般通过X射线衍射(XRD)确定样品的成分或者原子力(AFM)观察ZnO籽晶层的情况,扫描电子显微镜(SEM)的形貌图分析生长纳米线的质量,室温下光致发光谱(RTPL)确定光电材料的具体应用场合.室温测量某种水浴生长的氧化锌纳米薄膜PL 谱,在可见光区域,除了紫外线发射峰外,还可以观察到一个或者两个缺陷发射峰带[17].由于ZnO激子波尔半径尺寸较小(2.34 nm),当纳米线半径较小时(~1.1 nm),从RTPL谱上还可以观察到量子限域效应[18].在399 nm处,ZnO纳米线薄膜具有较强的紫外发射宽峰.469 nm处同时有比较弱的蓝光反射窄峰,同时在569 nm附近发现更加微弱的绿光发射峰.通常认为,本征ZnO半导体纳米线的紫外发射峰来源于带边的激子跃迁,即399 nm是近带边(NBE)的激子发射,来自于导带中的电子和价带中的空位形成的激子复合,并且紫带的发光强度随激子浓度增加呈超线性增加[19];469 nm左右的蓝光发射峰至今没有很好的解释;而绿光发射峰主要来源于深能级的缺陷发光,是和ZnO晶格中的O空位和Zn填隙有关.虽然低温PL谱[20]中可以观察到施主束缚激子或者表面缺陷的舒服激子发光,但是在室温下的束缚激子仍然会离解为自由激子,因此室温下的带边发射峰仍来源于自由激子发射.较强的带边发射峰说明纳米线样品的结晶质量很好,深能级缺陷发光得到了抑制,但是仍然可以看到,随着纳米线长径比的变小,深能级缺陷发射变的更强.1.4 应用为了发展ZnO纳米材料在纳米电子器件方面的应用,有必要对一维ZnO纳米结构电特性进行研究.有人已报道单根ZnO纳米线或棒的电输运特性,在SiO2/Si(001)培养基上生长的氧化锌纳米线,然后利用它制造了场效应晶体管(FET).通常情况下,未掺杂的ZnO纳米线具有n型载流子导电特性,这是由于O空位和Zn填隙等本征缺陷造成的.为了得到更低的电阻率,使纳米线有更广的应用范围,可以对ZnO纳米线进行p型掺杂,比如Ga和Co掺杂[21].并且由p型和n型纳米线构造出p-n结和LED.另外经过等离子体处理过的纳米线,其电导率会有不同的变化.比如,氢或氧分别处理后的纳米线[22],其电导率变高或降低.在固态传感器中,金属氧化物半导体薄膜应用最广泛.一维的ZnO纳米结构已被用来制作气敏传感器、可见光传感器、压力传感器、紫外线探测器等[23].掺杂可以有效的改进半导体的光电特性,下面主要介绍水热法掺杂的ZnO纳米线或者薄膜.比如,用溶胶凝胶法制备Li掺杂的氧化锌薄膜,同样可以观察到发光峰,对应光子能量为2.34 eV,与纯ZnO中导带低到氧错位缺陷能级(2.38 eV)很接近.由此可知,绿光峰与这两个能级跃迁有关.杂质掺杂造成氧错位能级的加强,能级中形成了杂质带,出现带边能级与深能级的复合所导致的[24].为了得到性能良好的透明导电薄膜,适当的退火温度可以改善结晶度、表面形貌、透过率和导电性.在550℃退火温度下,薄膜透过率达到95%,电阻率为2.49×103Ω·cm,比本征ZnO提高了两个数量级[25].提高退火温度,还可以制备p型薄膜,这是由于Li代替了部分的Zn,减少了自由电子的相对量.掺杂过渡金属元素,可以有效地调节一维ZnO的电子能态结构,比如Co,Ni,Mn元素的掺杂可以制备出磁性材料.在水热法制备的ZnO薄膜中掺入适量的Co元素,由于Co2+和Zn2+半径相差不大,Co2+离子将会替代ZnO纳米晶体中Zn2+的位置,产生晶格缺陷;此外CoO的禁带宽度为2.8 eV,比ZnO宽度低,在ZnO带隙中形成许多杂质能级[26].这些分离的杂质能级形成了一个能带与ZnO导带重迭,减小了禁带宽度,更利于光子跃迁.掺杂后的薄膜不但磁性发生了改变,其紫外发光峰较纯ZnO发生了红移,可见光的发光强度也有明显的增强[27].在玻璃衬底上制备的Zn1-xCoxO(x=0,0.01,0.03,0.05,0.08,0.12) 薄膜具有室温铁磁性[28],当掺杂浓度为12%时,薄膜c轴择优生长最显著.此外,不同的Co元素掺杂比例的PL谱发光峰强度有所差别,这是由于掺杂量改变了禁带宽度,以及薄膜中的氧位错缺陷浓度和锌填隙缺陷浓度也发生了变化,进而影响力薄膜的发光强度.改变水热时间,同样也可以调控Co掺杂薄膜的磁性,当水热时间为2h时显示弱铁磁性,合成时间为3h时具有最强的铁磁特性,当水热时间提高到6 h时则表现顺磁性.究其原因,当Co离子存在于ZnO晶格的间隙位置时趋向形成铁磁性,此时O离子充当媒介作用促使Co2+的间接交换作用.当Co2+取代Zn2+进入四配位的晶体场后,Co2+的3d电子之间的直接耦合交换作用易形成顺磁性[29].采用水热法制备了稀土铈(Ce)掺杂的ZnO纳米棒[30],PL光谱表明紫外峰强度减弱并有微小的红移,还可以观察到强的缺陷峰.这是因为Ce离子的引入,一方面氧空位逐渐增多引起杂质峰的增强.另外,Ce4+离子进入ZnO晶格形成了位于导带边缘的Ce离子杂质能级,使得带隙变窄,从而引起了紫外峰红移.丁琼琼在[31]SiO2基片上制备出Al掺杂的ZnO纳米棒阵列,随Al掺杂量的增加,棒直径减小,顶部形状由六角形逐步趋于圆锥状.透射谱表明样品的吸收边出现明显的红移现象,在黄光和红光波段,出现强的光致发光特性,为长波器件的应用提供了一种思路.本文比较了不同衬底上制备的ZnO纳米线以及溶液反应机理,无论是ZnO籽晶层还是在硅基片上溅射Ti和Au,都是为了减小基片和纳米线的晶格失配,更有利于长出理想的纳米线.通过控制溶液的浓度,可以改变基片上成核点以及纳米线的粗细,浓度越高,成核点越多,纳米线越粗.由于纳米线的生长是吸热过程,选择合适的反应温度,可以促进反应以及纳米线的生长.引入氨水,改变溶液的PH值,减少溶液中的ZnO沉淀,有效地节约样品并长出长达22 um的纳米线.引入PEI可以有效的防止氨水过量引起的纳米线生长过缓.PEI作用可能是吸附某些特定的晶面,抑制其生长,利于纳米线沿某一轴向生长,但过量的PEI不会长出纳米线.有些人认为只要引入适量的氨水,PEI对纳米线的生长不起任何作用.最后对长出的样品进行表征,确定生长质量.通过PL可以观察到紫外、蓝光和绿光发射峰,这些都与激子发光有关,可以确定ZnO纳米材料在发光器件上能发挥一定的作用.另外,对Li、Co、Ce掺杂氧化锌纳米线作了简要说明,掺杂量对样品的结晶质量、发光特性以及磁性产生影响.如何选择合适的制备环境,长出质量更好的纳米线,是下一步研究的方向.【相关文献】[1] 高文震,李飞,张大凤,等.硫酸铵对氧化锌生长及形貌的影响[J].聊城大学学报:自然科学版,2012,25(4):53-57.[2] Ryu Y R,Zhu S,Budai J D,et al.Optical and 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硅纳米线的生长与电学性质研究硅纳米线是一种在纳米尺度下具有独特性质的材料,其具有高比表面积、优异的电学特性、化学稳定性等特点,因此在纳米电子学、纳米光电子学、纳米生物学等领域具有广泛的应用前景。
目前,生长硅纳米线的方法主要有热化学气相沉积法、电化学沉积法、溶胶凝胶法等。
本文将着重讨论硅纳米线的生长与电学性质研究。
一、硅纳米线的生长硅纳米线的生长方法具有多样性,其中以热化学气相沉积法(VLS法)最为常用。
该方法通过控制硅源气体的流量和温度,使硅源气体在金属催化剂表面进行化学反应,从而形成硅纳米线。
金属催化剂通常采用金、银、铜等,其中金是最常用的一种,因为它对硅的触媒作用最好。
硅源气体通常采用硅烷(SiH4)或三甲基硅烷(Si(CH3)3H),在高温条件下分解成硅原子,随后在金属催化剂表面吸附,形成硅纳米线。
之后,硅纳米线在适当的条件下继续生长,形成较长的硅纳米线。
除了VLS法,还有其他方法可以生长硅纳米线,如电化学沉积法(ECS法)。
在该方法中,电极上的金属催化剂首先被沉积,然后在硅源的作用下形成硅纳米线。
溶胶凝胶法(Sol-gel法)是另一种生长硅纳米线的方法,它通过控制溶液中硅前体的浓度和温度等条件,将硅源沉积在基底上,从而形成硅纳米线。
二、硅纳米线的电学性质硅纳米线的电学性质是其被广泛研究的一个方面。
硅纳米线的电学性质主要受到其尺寸和形态等因素的影响。
通常情况下,硅纳米线在氧化处理后表现出的导电性能比未处理的硅纳米线要好。
这是因为氧化处理可以去除硅纳米线表面的有机盖层,从而暴露出更多的硅原子,提高导电性。
另一方面,硅纳米线在不同的外部环境下(如温度、湿度、气压等)表现出不同的电学性质。
例如,在高温和低压下,硅纳米线的电学性能会得到改善。
而当硅纳米线暴露在潮湿环境下时,其表面的导电性会下降。
硅纳米线的导电性表现出很强的尺寸依赖性。
当硅纳米线的直径小于10 nm时,其电学性能表现出了量子尺寸效应。
ZnO纳米线的制备及场发射特性的研究进展
陈伟中;王属霞;贺叶露
【期刊名称】《材料导报》
【年(卷),期】2009(023)019
【摘要】从ZnO纳米线的生长机制出发,重点讨论了催化剂在制备过程中的作用,比较了采用VLS和VS不同机制生长ZnO纳米线的优缺点,并结合二者特点发现采用金属自催化将是制备高质量ZnO纳米线阵列的一种有效方法.分析了几种有利于提高其场发射性能的后处理方法,经过适当的后处理ZnO纳米线晶体的结构将更加完善,场发射开启场、阈值场将进一步降低,电流密度和场增强因子也将随之大大提高.
【总页数】5页(P20-23,27)
【作者】陈伟中;王属霞;贺叶露
【作者单位】重庆大学数理学院应用物理系,重庆400044;重庆大学数理学院应用物理系,重庆400044;重庆大学数理学院应用物理系,重庆400044
【正文语种】中文
【中图分类】TB3
【相关文献】
1.氧化钨纳米线定域制备及其场发射特性研究 [J], 陈道坤;许卓;刘飞;邓少芝;许宁生;陈军
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李力;李立方;甘海波;陈军;邓少芝;许宁生
3.液相法制备取向ZnO纳米线阵列的场发射特性 [J], 张欢;李梦轲;张竞;于丽媛;刘玲玲;杨志
4.ZnO纳米线的气相沉积制备及场发射特性 [J], 张琦锋;戎懿;陈贤祥;张耿民;张兆祥;薛增泉;陈长琦;吴锦雷
5.MWCNT/ZnO纳米线复合阴极薄膜的场发射特性 [J], 李昕;于湛武;贺永宁;刘卫华;朱长纯
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实验3 半导体二极管伏安特性的研究世界上的物质种类繁多,但就其导电性能来说,大体上可分为导体、绝缘体和半导体三类。
某些物质,如硅、锗等,它们的导电性能介于导体和绝缘体之间,被称为半导体。
半导体之所以引起人们极大的兴趣,原因并不在于它具有一定的导电能力,而在于它具有许多独特的性质。
同一块半导体材料,它的导电能力在不同的条件下会有非常大的差别,比如,在很纯的半导体中掺入微量的其他杂质,它的导电性能将有成千上万倍地增加,并且可以根据掺入杂质的多少来控制半导体的导电性能。
人们正是利用半导体的这种独特的性质做出了各种各样的半导体器件。
本实验通过对常用的半导体器件—二极管特性的研究,了解PN结的特性、结构和工作原理,并测量二极管的部分参数。
【实验目的】1、了解PN结产生的机理和它的作用。
2、学习测量二极管伏安特性曲线的方法。
3、通过实验,加深对二极管单向导电特性的理解。
【仪器用具】HG61303型数字直流稳压电源、GDM-8145型数字万用表、滑线变阻器、FBZX21型电阻箱、C31-V型电压表、C31-A型电流表、FB715型物理设计性实验装置、可调电阻及导线若干、普通二极管、发光二极管、稳压二极管等【实验原理】1.电学元件的伏安特性在某一电学元件两端加上直流电压,在元件内就会有电流通过,通过元件的电流与其两端电压之间的关系称为电学元件的伏安特性。
一般以电压为横坐标,电流为纵坐标作出元件的电压-电流关系曲线,称为该元件的伏安特性曲线。
对于碳膜电阻、金属膜电阻、线绕电阻等电学元件,在通常情况下,通过元件的电流与加在元件两端的电压成正比,即其伏安特性曲线为一通过原点的直线,这类元件称为线性元件,如图3-1的直线a。
至于半导体二极管、稳压管、三极管、光敏电阻、热敏电阻等元件,通过元件的电流与加在元件两端的电压不成线性关系变化,其伏安特性为一曲线,这类元件称为非线性元件,如图3-1的曲线b、c。
伏安法的主要用途是测量研究非线性元件的特性。
随机生长型氧化锌纳米线的受激辐射和激射我们报道了室温下紫外受激辐射和以高质量的氧化锌纳米线为泵浦的激光器。
由于粒子散射而产生的辐射显示出典型的受激辐射的特性。
在高强度泵浦的作用下,能看到与随机激光有关的几个尖峰。
激光发射的机理是随机生长型纳米线之间的相干多散射。
腔长的特性是由激光光谱的傅里叶变换决定的。
1.引言一维半导体因为其基本的物理特性和广泛的用在纳米电子和纳米光子器件中而成为重要的基础单元。
氧化锌纳米线因为表现出大的离子结合能(60meV),宽禁带(3.37eV)和低的紫外激光阈值而尤为重要。
最近在激光方面的发展或者受激辐射已经在多种低维的氧化锌装置如微腔、纳米线、纳米棒和纳米带中实现。
对于大直径比如氧化锌微腔,回音壁模式产生的激光机理(WGMs)。
由于全内反射使光线聚集在微纳米线周围。
当氧化锌微纳米线的直径小于光纤波长时,WGMs会因为衍射而产生很大的散射损耗。
F-P腔用来分析个别单一纳米结构和长须中的激光模式,两个纳米线作为F-P腔的端面。
然而在随机导向的纳米线混乱系统中,在这些混乱的纳米线中,光子相干期间会存在多重衍射。
与传统的激光器不同,在多晶氧化锌薄膜的介质和粉末中的随机激光辐射是相干散射产生的,并不包括任何F-P腔的信息。
随机激光的一个重要因素是存在高增益介质和样本高效率散射来提供有效地相干反馈。
因为氧化锌微纳米线的高增益特性,随机激光分布在高密度垂直定向氧化锌纳米棒阵列。
由于多重散射形成的不同共振空洞会产生不同的激光方向。
在本文中,我们研究受激辐射和随机生长型氧化锌纳米线的激光和讨论他们的机理。
通过对激光光谱的傅里叶变换,我们得到随机激光腔特定回路的长度。
2.实验步骤在一个简单的蒸汽,气液固转换的方法生长的形成合成的氧化锌纳米线。
详细的生长步骤在别的文献中介绍。
对于连续波光致发光的检测,我们应用He-Cd 激光器作为激励源;对于脉冲泵浦,我们使用三次谐波的Nd:YVO4激光器其脉冲宽度为500 ps,重复率为1 kHz。
化学气相沉积生长纳米线的原理与控制方法纳米线近年来在许多领域中得到越来越广泛的应用,例如电子学、能源学、生命科学等。
其中,基于化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,简称CVD)技术的纳米线制备成为一种较为成熟的方法,并且因其简单易行、制备周期短等优点被广泛应用。
本文旨在介绍化学气相沉积生长纳米线的原理及其控制方法。
一、化学气相沉积生长纳米线的原理化学气相沉积(CVD)生长纳米线是以一定温度、压力、气体流量、沉积时间等为条件,通过化学乃至物理反应,在金属、半导体表面上沉积一定的原子或化学物种,从而使原始的基底材料表面开始长出具有中空圆柱型结构的纳米线。
CVD法可以根据底物的形式、组成和性质等多种因素进行调整以改变纳米线的生长速度、直径、形状和输运特性等。
生长方法分为三类,分别为金属有机化合物CVD法、物理气相沉积法和气相化学沉积法,其中气相化学沉积法是化学气相沉积生长纳米线的主要方法。
二、控制化学气相沉积生长纳米线的方法2.1、温度控制温度控制是影响化学气相沉积生长纳米线的重要参数。
高温可以增加反应速度、腐蚀程度和热裂解程度。
然而,高温可能导致材料的自聚集现象,从而形成非理性输运。
同时,高温制备的纳米线有可能由于其热力学稳定性的缺陷而使其不能维持其原子位置的稳定性。
因此,如何制备纳米线需要对温度进行适当的控制。
2.2、气体流量控制气体流量控制是化学气相沉积生长纳米线的另一个重要参数。
气体流量会影响纳米线生长速度、纳米线直径、外形等特征,不同的气体流量会产生不同的生长特征。
针对不同的材料和底物,需要调整气体流量以得到最佳的生长效果。
2.3、催化剂控制催化剂在化学气相沉积生长纳米线中具有重要作用,其对于化学反应的起始和结束起着重要的作用。
不同的催化剂会影响纳米线的形貌、生长速率、长径比等方面。
因此,催化剂的选择和控制也是制备高质量纳米线的重要方法。
2.4、压力控制压力控制是指控制沉积反应区域内的气体压力。
SnO2纳米线的制备及其光致发光特性
倪自丰
【期刊名称】《机械工程材料》
【年(卷),期】2011(035)010
【摘要】采用锡单质直接氧化法在850℃制备了SnO2纳米线,采用X射线衍射仪和X射线能谱仪对SnO2纳米线进行了物相分析,用扫描电子显微镜和透射电子显微镜对其形貌进行了观察,并在荧光光谱仪上研究了其光致发光特性。
结果表明:制备的SnO2纳米线具有正方金红石结构,其尺寸均匀一致,长度为数十到数百微米,有的甚至达到数毫米,直径约为100nm;其生长机理由气一固(VS)生长机制控制;室温下,其光致发光谱在395nm(3.14eV)处有一强峰,在310nm(4eV)处有一弱峰,发光主要是由单离子氧空位引起。
【总页数】3页(P95-97)
【作者】倪自丰
【作者单位】江南大学机械工程学院,无锡214122
【正文语种】中文
【中图分类】TB383
【相关文献】
1.APCVD方法制备SnO2薄膜的结构和光致发光特性 [J], 计峰;马瑾;王玉恒;余旭浒;宗福建;程传福;马洪磊
2.基于硅藻土多孔陶瓷衬底制备SnO2纳米线及其低温H2S气敏性能 [J], 钟祥熙;
沈岩柏;李停停;赵思凯;高淑玲;魏德洲;张云海
3.聚苯胺纳米线/SnO2复合光催化材料的光化学制备与性能 [J], 杨思娴;钟文钰;李超贤;苏秋瑶;许炳佳;何谷平;孙丰强
4.Na_(0.5)Bi_(0.5)TiO_3纳米线的制备及其光致发光特性研究 [J], 张婷;张伟风;巴黎;刘广生;李宗惠;李峰
5.自催化方式制备ZnO纳米线及光致发光特性 [J], 唐斌;邓宏;税正伟;张强;谌贵辉因版权原因,仅展示原文概要,查看原文内容请购买。
半导体纳米线制备及其应用近些年来,半导体纳米线的研究被列为微纳技术研究的重要方向,其在纳米电子学、光电子学等领域有着广泛的应用。
本文将探讨半导体纳米线的制备方法和应用。
一、半导体纳米线的制备方法目前,制备半导体纳米线的方法主要包括溶胶-凝胶法、液相生长法、气相扩散法等。
1.溶胶-凝胶法溶胶-凝胶法是一种通过溶胶化学反应,生成纳米结构的方法。
通过Chemical Vapor Deposition(CVD)技术将化学反应产物沉积在基板表面,制备半导体纳米线。
该方法具有制备多种材料的优点,但是其制备的纳米线质量受到反应可靠性、纳米线间互相交错等因素的限制。
2.液相生长法液相生长法是一种通过化学反应在液相中生长纳米线的方法。
该方法可通过调节反应条件进行半导体纳米线的控制制备。
但是,该方法需使用高质量的金属催化剂,和高纯度的溶液,以保证实验结果的准确性。
3.气相扩散法该方法通过将金属气态化合物沿着基板方向浸泡,产生化学反应形成半导体纳米线。
相对于液相生长法,该方法可以在更短的时间内制备更长更细的纳米线。
但是,该方法目前还存在一些问题,如材料的选择性和晶格锯齿等。
二、半导体纳米线的应用半导体纳米线深入应用于许多领域,尤其是在半导体器件、能源储存和转化以及生物传感等方面具有广泛应用。
以下是一些典型的应用案例。
1.半导体器件通过制备不同半导体材料和不同纳米结构的组合,可以制备不同的组件。
如利用GaAs纳米线和ZnS量子点制备的异质结构的光电传感器,可以获得更高的光量子化效率,提高器件性能。
2.能源储存与转化半导体纳米线在能源储存和转化方面也发挥着重要的作用。
如利用硅纳米线制备的锂离子电池是目前商业化生产的锂离子电池的基本结构之一,且电池的能量密度较高。
3.生物传感半导体纳米线具有优异的识别和检测生物分子的性能。
利用纳米线的高比表面积,可以通过修饰表面,实现对某些生物分子的有选择、高灵敏度检测,具有重要的生物医学应用价值。
摘要诺贝尔奖获得者Feyneman曾经预言:如果我们对物体微小规模上的排列加以某种控制的话,我们就能使物体得到大量的异乎寻常的特性,就会看到材料的性能产生丰富的变化。
他所指的材料就是纳米材料。
在过去的几十年中,纳米材料备受关注,并且逐渐上升为国家战略材料。
目前,纳米材料已经应用于飞机涂层、航天传感器等高端领域,同时也在药物缓释、汽车制造等民用领域得到了发展。
在生物荧光领域,与传统的量子点材料和有机染料相比,上转换氟化物纳米材料具有毒性低、发射带窄、光稳定性良好等优点。
而小尺寸的纳米颗粒更容易进入生物组织中,并在血液中自由移动,因此可以借助此特性扩展其在生物研究领域的应用。
由此可见,尺寸控制成为拓展NaYF4纳米材料的应用范围的关键。
CdSe量子点材料作为近几年的热门研究材料,由于具有荧光发射峰的位置随晶体粒径的减小发生蓝移的特性而得到了广泛应用。
本论文围绕稀土掺杂NaYF4纳米晶的可控制备、生长机理以及与CdSe量子点的结合等研究开展了一系列工作。
主要研究内容如下:(1)为了能够得到形貌均一、粒径均匀、单分散的NaYF4纳米材料,我们研究组结合了化学、电学、机械学等多领域学科知识,历时多年完成了全自动纳米材料合成仪(ANS01/02型合成仪器)的研制、开发与测试工作。
该仪器不仅帮助科研人员简化手工实验操作的过程、节省时间,而且能够更加稳定可靠地合成纳米材料。
通过“使用模板”程序控制反应温度、反应时间、搅拌速度、气体流量、投料速度等因素,进而可重复地合成10 nm左右的NaYF4纳米粒子。
通过“高级模式”程序,操作者可以根据实验条件自主设置实验参数并进行实验,这使得利用该仪器可能完成更多材料的合成实验,也为操作者提供了更便捷的实验平台。
(2)成功制备了NaYF4:18%Yb3+,2%Er3+纳米晶的标准反应溶液。
该标准反应溶液可供ANS01/02型合成仪器进行多次常规反应,实验人员可按照一次实验用量进行抽取。
几种新型半导体发光材料的研究进展摘要:概述了三种新型半导体发光材料氮化镓、碳化硅、氧化锌各自的特性,评述了它们在固态照明中的使用情况,及其研究现状,并对其未来的发展方向做出了预测.关键词:LED发光二极管;发光材料;ZnO,SiC,GaN1引言在信息技术的各个领域中,以半导体材料为基础制作的各种各样的器件,在人们的生活中几乎无所不及,不断地改变着人们的生活方式、思维方式,提高了人们的生活质量,促进了人类社会的文明进步。
它们可用作信息传输,信息存储,信息探测,激光与光学显示,各种控制等等. 半导体照明是一种基于半导体发光二极管新型光源的固态照明,是21世纪最具发展前景的高技术领域之一,已经成为人类照明史上继白炽灯、荧光灯之后的又一次飞跃。
固态照明是一种新型的照明技术,它具有电光转换效率高、体积小、寿命长、安全低电压、节能、环保等优点.发展固态照明产业可以大规模节约能源,对有效地保护环境,有利于实现我国的可持续发展具有重大的战略意义。
从长远来看,新材料的开发是重中之重.发光材料因其优越的物理性能、必需的重要应用及远大的发展前景而在材料行业中备受关注。
本文综述了近几年来对ZnO,SiC,GaN三种新型半导体发光材料的研究进展.2几种新型半导体发光材料的特征及发展现状在半导体的发展历史上,1990年代之前,作为第一代的半导体材料以硅(包括锗)材料为主元素半导体占统治地位。
但随着信息时代的来临,以砷化镓(GaAs)为代表的第二代化合物半导体材料显示了其巨大的优越性.而以氮化物(包括SiC、ZnO等宽禁带半导体)为第三代半导体材料,由于其优越的发光特征正成为最重要的半导体材料之一。
以下对几种很有发展前景的新型发光材料做简要介绍.2.1 氮化镓(GaN)2。
1.1 氮化镓的一般特征GaN 是一种宽禁带半导体(Eg=3.4 ev),自由激子束缚能为25mev,具有宽的直接带隙,Ⅲ族氮化物半导体InN、GaN 和A lN 的能带都是直接跃迁型,在性质上相互接近, 它们的三元合金的带隙可以从1。
毕业设计题目ZnO纳米线阵列/PVK二极管光电特性研究学生姓名何龙旺学号1210064079所在院(系) 物理与电信工程学院专业班级电子信息科学与技术1203班指导教师袁兆林完成地点博学楼1192016年5月ZnO纳米线阵列/PVK二极管光电特性研究何龙旺(陕西理工学院物理与电信工程学院电子信息科学与技术专业电信1203班,陕西汉中 723000)指导教师:袁兆林[摘要] 为了发展低成本、大面积和高性能光电二极管,采用水热方法,低温下,在氧化铟锡(ITO)涂覆的玻璃基底上生长出良好取向排列的氧化锌(ZnO)纳米线阵列,然后在生长的氧化锌(ZnO)纳米线阵列上旋涂p型聚乙烯咔唑(PVK)层,形成结构为ITO/ZnO/PVK/Ag的光电二极管。
采用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、X射线衍射仪(XRD)分别表征制备的ZnO纳米线阵列的形貌、晶相结构。
测试结果表明:ZnO 纳米线形成致密良好取向排列阵列,纳米线的直径为20~30nm,长度在200~300nm,具有六方纤锌矿结构。
进一步,系统研究了此光电二极管在暗态和太阳光模拟器的光照下的电流-电压(I-V)特性。
结果显示:该器件在暗态和光照下都表现出良好的二极管特性,在暗态和光照下的整流率分别为352和160。
[关键词] ZnO纳米线阵列;水热法;光电二极管;整流率Photoelectric characteristics of the ZnO nanowirearray/PVK diodeHe Long-wang(Grade12,Class3,Major Electronic Information Science and Technology,Physics Dept.,Shaanxi Universityof Technology,Hanzhong 723000,Shaanxi)Tutor:Yuan Zhao-linAbstract:In order to develop low-cost ,large-area and high-quality photodiodes ,in this paper, well-aligned ZnO nanowire arrays were grown on indium tin oxide (ITO)-coated glass substrates by hydrothermal technique at low temperature. A photodiode with a structure of ITO/ZnO/PVK/Ag was fabricated using ZnO and PVK . The morphologies and crystalline structure of as-grown ZnO nanowire arrays were investigated by field-emission scanning-electron microscopy (FESEM) and X-ray diffraction (XRD), respectively. The results of these measurements showed the ZnO nanowire arrays contained densely packed, aligned nanowires with diameters from 20 to 30 nm, lengths from 200 to 300 nm and a wurtzite structure. Moreover, the current-voltage (I-V) characteristics of the photodiode in dark and under illumination with a solar simulator are investigated in detail. The results exhibited that the device shows good diode characteristics in dark and illumination, the rectification ratios (RR) of the device in the dark and under illumination were 352 and 160, respectively.Key words: ZnO nanowire arrays; Hydrothermal technique; Photodiode; Rectification ratio目录1引言 (1)1.1 纳米材料的概述 (1)1.2 氧化锌(ZnO)纳米材料研究现状 (2)1.3 光电二极管的研究进展 (3)1.4 论文研究思路和主要内容 (4)2实验部分 (5)2.1 氧化锌(ZnO)纳米材料的制备与特性研究 (5)2.1.1 试剂和衬底 (5)2.1.2 实验步骤 (5)2.1.3 仪器表征 (5)2.2 ZnO纳米线阵列/PVK光电二极管的制备 (5)2.2.1 材料、溶剂和衬底 (5)2.2.2 实验步骤 (5)2.2.3 仪器表征 (6)3 结果分析与讨论 (6)3.1 ZnO纳米线阵列形貌、结构与光学特性分析 (6)3.1.1 形貌分析 (6)3.1.2 晶相结构分析 (6)3.1.3 光学特性 (7)3.2 ZnO纳米线阵列/PVK光电二极管的性能分析 (8)3.3 光电二极管中的电荷输运过程 (9)4结论 (9)4.1 ZnO纳米线阵列小结 (9)4.2 ZnO纳米线阵列/PVK光电二极管小结 (9)5 结论与展望 (10)5.1 论文结论 (10)5.2 论文展望 (10)6 结束语 (11)致谢 (11)参考文献 (11)1引言1.1 纳米材料的概述纳米科技主要涵盖纳米化学、纳米生物学、纳米材料等几个方面。
中山大学硕士学位论文若干半导体纳米线生长机理及发光特性的研究姓名:骆颖欣申请学位级别:硕士专业:光学工程指导教师:许宁生20100610若干半导体纳米线生长机理及发光特性的研究专业:光学工程硕士生:骆颖欣导师:许宁生教授
摘要
半导体纳米材料由于其特殊的电学、力学以及光学性质,到目前为止已经被科学家们广泛的研究。本硕士论文首先简单介绍了半导体准一维纳米材料的可控生长制备的研究背景,尤其是非模板、无催化的直接氧化制备及其生长理论机理的研究现状。论文还介绍了纳米材料可控制备对其光学、电学等性质的有效调控的研究背景和现状。接下来论文重点讲述了我们关于部分准一维半导体纳米材料的可控制备、生长机理以及其光学性质的主要研究工作以及成果。本论文的主要研究工作和成果概括如下:1.通过热氧化方法制备了大面积氧化铜纳米线,建立了一个热力学模型从理论上解析氧化铜纳米线准一维形貌的形成原因,详细分析了材料各种参数,包括直径、密度和径高比等与制备温度的依赖关系,以及环境气氛对材料生长的影响作用等。我们还从实验上初步验证了这些理论的结果。本论文初步实现了氧化铜准一维纳米材料的参数可控生长,并为其他类似的氧化物一维纳米材料的可控制备奠定理论基础。2.通过对一系列不同形貌的氧化铜材料进行光学测试,包括拉曼光谱、荧光光谱和超快光谱等,从而研究氧化铜材料特殊的发光性质,期望为材料发光性质的有效调控奠定基础。我们首次观察到不同形貌氧化铜材料的特殊紫外发光现象,通过调研氧化铜的电子能带结构我们初步解释了此紫外发光的发光机理。3.测试了氧化锌纳米线阵列的超快发光光谱,并与密集生长的氧化锌纳米线薄膜进行比较分析,发现了阵列结构氧化锌纳米线的特殊紫外发光蓝移现象,通过考虑分析了Band.filling现象和异质结势垒的作用,我们证明了此现象是样品的阵列结构以及其特殊的电接触结所带来的。此工作为以后对该材料的发光性质
调控奠定了基础。
关键词:半导体纳米材料,可控生长制备,生长机理,超快光谱,紫外发光
IIControllableSynthesisandOpticalPropertiesof
SomeSemiconductorNanomateriais
Major:OpticalEngineering
Name:YingxinLuoSupervisor:NingshengXu,Professor
ABSTRACTSemiconductornano-materialshaveattractedmanyattentionsofscientists
widely
becauseoftheiruniqueelectronic,mechanicalandopticalproperties.In
thisMasterof
Sciencedissertation,theresearchbackgroundsofsynthesizingquasi-onedimensional
semi-conductormaterialscontrollablywereintroducedfirst,especiallythe
non-templateandnon—catalystmethods.Besides,thebackgroundsabouteffective
modulationofopticalandelectronicpropertiesofnanomaterialswerealsointroduced.
Afterthat,wefocusedontheresearchesandresultswehadaccomplishedduring
these
years,whichweremainlyaboutthecontrollablesynthesis,growth
mechanismsand
someopticalpropertiesofsomequasi—onedimensionalsemiconductormaterials.The
mainworkandfindingsofthedissertationarelistedasfollow:
1.Largeareaofcupricoxide(CuO)nanowireswerepreparedbythermal
oxidationmethod,andathermodynamicmodelofgrowthmechanismwasestablished.
ThemodelexplainedhowCuOnanowiregrewintoone-dimensional
shape
theoretically.Italsoanalyzedthetemperaturedependenceofsomeparametersof
nanowiressuchasdiameter,densityand
aspectratioetc.,andthee仃ectsof
environmentalambience.TheexperimentsbasicallyconsistedWiththetheoretical
results.Thisworksmadeitpossibletorealizethecontrollablesynthesisofsome
quasi—onedimensionalsemiconductoroxidematerials.2.OpticalpropertiessuchasRamanspectra,photoluminescent(PL)spectraandIIIultra-fastPLspectraofCuOmaterialswithdifferentmorphologieswerestudied.WediscoveredthenovelultravioletPLcharactersofCuOmaterialsandanalyzedthepossibleluminescentmechanismbystudyingtheelectronicbandstructureof
CuO,
whichmightbeakeywaytolearnandrealizedeffectivemodulmionofoptical
propertiesofmaterials.3.UltrafastPLspectraofZincOxide(ZnO)nanowirepatternswerestudied,
comparing、析tllthespectraofZnOnanowiresfilms.We
discoveredtheluminescent
blue·-shiftoftheZnOpaaemswhichWasconsideredtobetheresultofBand·—filling
effectandheterojunctionbarrier,andweconsideredthatthesephenomenawere
broughtbythepatterningstructureofZnOnanowires.Theseworksmightgive
prospecttotheopticalpropertiesmodulmionbyelectroniccontrolof
materials.
Keywords:semiconductornanomaterial,controllablesynthesis,growthmechanism,ultrafastspectrum,ultraviolet
luminescence
IV原创性声明本人郑重声明:所呈交的学位论文,是本人在导师的指导下,独立进行研究工作取得的成果。除文中已经注明引用的内容外,本论文不包含任何其他个人或集体已经发表或撰写过的作品成果。对本文的研究做出重要贡献的个人和集体,均已在文中以明确的方式注明。本人完全意识到本声明的法律结果由本人承担。
学位论文作者签名:日期:2010年5月28日学位论文使用授权声明本人完全了解中山大学有关保留、使用学位论文的规定,即:学校有权保留学位论文并向国家主管部门或其指定机构送交论文的电子版和纸质版,有权将学位论文用于非赢利目的的少量复制并允许论文进入学校图书馆、院系资料室被查阅,有权将学位论文的内容编入有关数据库进行检索,可以采用复印、缩印或其他方法保存学位论文。
学位论文作者签名:意珈记日期:_Io年‘月.7日导师签名:÷午了生
日期:压J9年多月I9日知识产权保护声明本人郑重声明:我所提交答辩的学位论文,是本人在导师指导下完成的成果,该成果属于中山大学物理科学与工程技术学院,受国家知识产权法保护。在学期间与毕业后以任何形式公开发表论文或申请专利,均须由导师作为通讯联系人,未经导师的书面许可,本人不得以任何方式,以任何其它单位做全部和局部署名公布学位论文成果。本人完全意识到本声明的法律责任由本人承担。
学位论文作者签名:琥尝撕埏日期:矽fD年彭月p日