FF-510酸性光亮镀铜工艺

  • 格式:doc
  • 大小:20.50 KB
  • 文档页数:3

下载文档原格式

  / 3
  1. 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
  2. 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
  3. 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。

FF-510 酸性光亮镀铜工艺

•用途和特点:

•快速光亮和特高的填平度、光亮度。

•广泛的电流密度范围都可得到镜面光亮镀层,低电流密度区也可得到极高的填平性和光亮度的镀。

•工作温度范围宽,18 -40 摄氏度都可得到较好镀层。

•杂质容忍生气勃勃高,镀层不易起针孔、麻点、白雾。

•操作简便,光亮剂消耗电少。

•光亮剂稳定性特高,兼容性能好,能与任何光亮剂混用,转缸易。

•操作简单,维护方便。材料来源广泛,成本较低。

•工艺配方及操作条件:

范围标准

硫酸铜120 -200g /L 180g /L

硫酸40 -90g /L 70g /L

氯离子50-90mg/L 60mg/L

FF-510 开缸剂2-8mg/L 4ml/L

FF -510A 剂0.3~0.6ml/L 0.5ml/L

FF-510B 剂0.4~0.8ml/L 0.5ml/L

温度18~ 40 摄氏度28 摄氏度

阴极电流密度 1.5~ 8A /dm2

阳极( 磷铜板) 含磷0.1~0.3%

搅拌阴极移动或空气搅拌

电压2~10V

•溶液的配制:

•在备用槽内,将谁知盘中餐量的硫酸铜用总体积1/2 的热水(已用硫酸调PH 为1 左右)溶解。

•加入2g /L 活性炭,搅拌 1 小时,静置后用过滤机过滤溶液到镀槽内。

•将计算量中余下的浓硫酸在搅拌条件下慢慢加到上述溶液内,加水到规定体积,搅拌并冷却到室。

•通过分析,补加盐酸,使氯离子达到标准。

•用小电流将镀液电解3~5 小时。

•在搅拌条件下,加入FF-510 添加剂,再电解数小时后,投入正式生产。

•槽液的维护管理:

•槽液浓度:25 摄氏度时约25Be

•镀液温度10 -40 摄氏度。( 取中间温度20 -28 摄氏度为宜)

•阳极含磷量0.1~0.3%( 其它铜阳极会导致泥渣产生,这些泥渣很细微,难过滤,易引起镀层粗糙及麻点。)

•搅拌最好用空气搅拌,同时配合阴极摇摆。

•镀液成分及添加剂的作用及管理。

硫酸铜:是铜离子的主要来源,过量及温度低时,易在阳极结晶沉淀出来,使电阴增大,电流下跌,低电流区光亮度及填平度下隆,含量过低,高区易烧焦,光亮剂消耗量增大。硫酸:能提高镀液导电率。但浓度太高,会使硫酸铜溶解度下降,在阳极结晶沉淀出来,光亮剂消耗大,填平度下降。硫酸太小,低电流区光亮度及填平度差,阴极溶解不良,电阴大。

氯离子:做催化剂用,开缸时添加,平时一般不加( 因为有自来水的氯离子补充,但应保持在30~120mg/L) ,如不足,高电流会有一块不亮,出现树状条纹。太高,镀层光亮及填平度差。

•添加剂的作用和控制:

添加剂的消耗以每千安培小时计:

FF-510 开缸剂:开缸、黑心缸或加硫酸铜时使用,支持光亮剂,A 、B 做出高填平光亮镀层,并消除针孔。

FF -510A :使低电流区施镀良好,A 剂过多会造成麻砂及针孔,高区烧焦,可加入B 剂抵消。

FF-510B :高区获得高填平光亮镀层。•常见故障及故障原因