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第三章 二次根式 3.1 二次根式Ⅰ.核心知识点扫描1．二次根式的定义：形如a （a ≥0）的式子叫做二次根式. 2．二次根式的性质： （1）非负性：)0(0≥≥a a（2）平方关系：)0()(2≥=a a a（3）与绝对值结合：⎩⎨⎧<-≥==)0()0(2a a a a a aⅡ.知识点全面突破知识点1：二次根式的概念（重点）一般地，我们把形如a （a ≥0）的式子叫做二次根式，“”称为二次根号，二次根号下的a 叫做被开方数.【拓展延伸】（1）二次根式都含有二次根号“”.（2）在二次根式中，被开方数a 必须满足a ≥0，当a<0时，根式无意义.（3）在二次根式中，被开方数a 既可以是具体的数，也可以是单项式或多项式. （4）二次根式a （a ≥0）是a 的算术平方根，所以0≥a . 例：不论x 取何值，下列式子一定是二次根式的是（ ）A.2--xB.xC.22+x D.22-x解：根据定义，形如)0≥a a （的式子为二次根式. 因为22+x 一定为正数，所以22+x 一定是二次根式，故选C .点拨：判断一个式子是否是二次根式，要看它是否具备两个特征：□C （1）带二次根号“”；(2) 被开方数为非负数.知识点2：二次根式的性质（难点）性质1：二次根式的双重非负性：（1）a 是非负数；（2）a 的被开方数a 是非负数.性质2：2()a a =（a ≥0），即一个非负数的算术平方根的平方等于它本身；性质3：⎩⎨⎧<-≥==)0()0(2a a a a a a .例1：计算：(1)23()5，(2)2(22)- ，(3))0()2(2≥x x ，(4)222)(y x +. 解：(1) 23()5=35. (2)2(22)-= 2(22)=8.(3))0(2)2(2≥=x x x .(4) 222)(y x +=22y x +.点拨：二次根式a 是一个非负数，2()a a =（a ≥0），这个性质是逆用平方根的意义得出结论，要注意结论成立的条件是a ≥0.例2：对下列各式进行化简.（1）2)6(-；（2）26；（3）22)4(+a ；（4）)1(122≥+-x x x解：（1）2)6(-=6-=6. (2) 26=6.(3) 22)4(+a =42+a . (4))1(1)1(1222≥-=-=+-x x x x x .点拨：□C 化简二次根式的结果一定要符合非负性.Ⅲ.提升点全面突破提升点1：二次根式有意义的条件例：当x 是多少时，23x +＋11x +在实数范围内有意义？ 解：依题意，得23010x x +≥⎧⎨+≠⎩由①得：x ≥-32由②得：x ≠-1当x ≥－32且x ≠－1时，23x +＋11x +在实数范围内有意义． 点拨：求函数自变量的取值范围或使一个代数式有意义的未知数的取值范围通常有□C 三种情况：一是分母不为零，二是偶次方根的被开方数是非负数，三是零次幂的底数不为零.提升点2：利用二次根式的非负性化简例1：实数a b ，在数轴上的对应点如图所示，化简2244a ab b a b -+++的结果为 ．解：由数轴可知 0b a <<，所以20a b ->，0a b +<，所以bb a b a b a b a b a b a b a b ab a 322)2(44222-=---=++-=++-=+++-点拨：解决本题的关键是灵活运用数轴与实数的关系、二次根式的性质和绝对值的意义.例2：若y x 、为实数，且,22112+-+-<x x y 化简22--y y .解：∵21122y x x <-+-+，∴210,120.x x -≥⎧⎨-≥⎩故210x -=，∴12x =， 代入原不等式得2,y <∴22 1.22y yy y --==--- 点拨：要化简22y y --关键是确定y 的取值范围，从而去掉绝对值符号。
SOLIDWORKS_2012中文版从入门到精通第三章基础特征建模在SW中，特征建模一般分为基础特征建模和附加特征建模两类。
基础特征建模是三维实体最基本的绘制方式，可以构成三维实体的基本造型，基础特征建模相当于二维草图中的基本图元，是最基本的三维实体绘制方式。
基础特征建模主要包括拉伸特征、拉伸切除特征、旋转特征、旋转切除特征、扫描特征与放样特征等。
一、特征建模基础SW提供了专用的“特征”工具栏，如下图所示，单击工具栏中的相应图标就可以对草图实体进行相应的操作，生成需要的特征模型。
二、参考几何体参考几何体主要包括基准面、基准轴、坐标系与点4个部分。
参考几何体操控板如下图：1、基准面基准面主要用于零件图和装配图中，可以利用基准面来绘制草图，生成模型的剖面视图，用于拔模特征中的中性面等。
SW提供了前视基准面、上视基准面和右视基准面3个默认的相互垂直的基准面。
创建基准面有6种方式，分别是：通过直线/点方式、点和平行面方式、夹角方式、等距距离方式、垂直于曲线方式与曲面切平面方式。
1、通过直线/点方式该方式创建的基准面有3种：通过边线、轴；通过草图线及点；通过三点。
2、点和平行面方式该方式用于创建通过点且平行于基准面或者面的基准面。
3、夹角方式该方式用于创建通过一条边线、轴线或者草图线，并与一个面或者基准面成一定角度的基准面。
4、等距距离方式该方式用于创建平行于一个基准面或面，并等距指定距离的基准面。
5、垂直于曲线方式该方式用于创建通过一个点且垂直于一条边线或者曲线的基准面。
6、曲面切平面方式该方式用于创建一个与空间面或圆形曲面相切于一点的基准面。
2、基准轴基准轴通常在草图几何体或者圆周阵列中使用。
每一个圆柱和圆锥面都有一条轴线。
临时轴是由模型中的圆锥和圆柱隐含生成的，可以单击菜单栏中的“视图”→“临时轴”命令来隐藏或显示所有的临时轴。
创建基准轴有5种方式，分别是：直线/边线/轴方式、两平面方式、两点/顶点方式、圆柱/圆锥面方式与点和面/基准面方式。
第三章基本实体特征造型SOLIDWORKS软件具有比较强的实体造型功能，而且操作方便。
在进入SOLIDWORKS 零件设计环境以后，用户可以在“文件”菜单中选择“新建”。
这时出现一个“新建Solidworks 文件”对话框。
在这个对话框中有三个选项，即：零件（Part）、装配（Assembly）、工程图（Drawing），分别对应：零件设计环境、装配设计环境和二维工程图设计环境。
其实SOLIDWORKS软件中还有一个功能模块：钣金设计。
该功能安排在零件设计中的“特征”中。
进入到零件设计环境后，首先要做的是进行草图设计（Sketch），基体特征就是在草图设计的基础上建立的。
基体特征也就是第一个特征，如果将SOLIDWORKS设计过程比喻成雕塑过程，基体特征就是最初的材料，然后根据设计需要进行加操作或减操作。
基体特征和切除特征的类型相同，他们是：拉伸特征（EXTRUDE）、旋转特征（REVOLVE）、扫描特征（SWEEP）、放样特征（LOFT）、加厚度（THICHEN），操作过程基本相同，只是它们所得到的效果一个是加，而一个是减。
3.1 基本体特征3.1.1 拉伸特征（EXTRUDE）所谓拉伸，就是在完成剖面草图设计后，沿着剖面的垂直方向长出体积，如图3-1所视。
图3-11、基本操作过程：1）首先进行剖面草图设计，对剖面草图的要求是不能有不封闭的轮廓，轮廓线也不能自相交。
在进行剖面草图设计时可以进行尺寸约束和关系约束。
2）在完成剖面草图后，直接执行“拉伸特征”功能，就会出现一个“拉伸特征”对话框，在该对话框中完成必要的参数设置。
其实当用户在进行参数设置时，绘图区中的线框模型就在根据参数变化。
3）按“确定”按键即可完成。
2、实例一：拉伸一个螺帽1）进入零件设计环境后，系统自动建立一个名为Part1文件（如果再建立新零件，名称自动为Part2、Part3，依此类推。
）2）画出如图3-2所示的剖面，并标上尺寸，然后将尺寸修改为100和60。
第三章细胞生物学的研究方法归纳起来大体上可划分为四大类：形态观察、生化分析、生理检测、实验性操作技术。
第一节细胞形态结构的观察方法光学显微镜（light microscope ）电子显微镜（electron microscope）扫描隧道显微镜（scanning tunneling microscope）（一）普通显微镜0.2um由聚光器、物镜和目镜三部分组成。
普通显微镜最大放大倍数1000－1500倍，因为它的分辨率有限，再放大也是空放大分辨率（resolution）：能将物体相近两点分辨清楚的距离极限D代表分辨力：D= 0.61λ / N.A.λ代表光波波长；N. A. 为镜口率，也称数值孔径（Numerical aperture)。
N. A. =n·Sin α/2N:物镜与标本间介质的折射率；（1或1.515）α:镜口角（聚光焦点对物镜镜口的张角，<180º）通过公式可知光学显微镜最大分辨率0.2um，减小分辨率需减小λ显微镜的几个光学特点：介质折射率越接近镜头玻璃的（ 1. 7 ）越好。
sinα/2的最大值小于1；普通光线的波长为400~700nm，光镜分辨力约为0.2μm，人眼的分辨力为0.2mm，因此显微镜的最大有效倍数为1000X。
（二）紫外线显微镜（ultraviolet microscope）0.1um根据光学原理，光源光波越短，显微镜的分辨本领越大。
紫外线显微镜以紫外线为光源，分辨率可提高一倍。
可看到在普通光学显微镜下看不到的胶体颗粒。
可用来测定细胞中的核酸含量。
透镜：石英、萤石（CaF2)、碳酸锂等制作。
价格昂贵，使用受限。
（三）荧光显微镜（fluorescent microscope）20世纪40年代在紫外线显微镜基础上发明。
原理：细胞中有些物质，如叶绿素等，受紫外线照射后可发荧光；另有一些物质本身虽不能发荧光，但如果用荧光染料或荧光抗体染色后，经紫外线照射也可发荧光。
