(pCu>1000mg/L时更换溶液)
层,甚至整个化学镀镍金工艺至关重要‘61。某个工序处理不当, 通常使用酸性镀液体系,其中包括镍盐(硫酸盐、氯化物),还原剂(次磷酸钠或硼氢化物)[8],配位剂(柠檬酸、乙酸、琥珀酸、丙酸或乙醇酸),稳定剂(重金属盐、硫脲、氟化物)[9]。
(pCu>800mg/L时开新缸)
工艺控制
• 前处理工艺是用以除去铜面氧化物、油脂等污染物,粗化铜表面, 化学镀镍由还原剂提供电子进行还原反应[7],镍首先围绕Pd的活性中心沉积出来,先沉积出来的镍具有自催化作用,随时间延长,镍厚度不断增加。
并在铜面沉钯,形成镍还原的活化中心。前处理对得到均匀的镀 不需要一般电镀所需的直流电机或控制设备。
b化e学ing镀d镍ep由os还ite原d剂”。提供电子进行还原反应[7],镍首G先F围酸绕除Pd的油活剂性中心沉积5出5来~,6先5沉积m出L来的镍具有自催化作用,随时间延长,镍厚度不断增加。 /L
(1)除油工艺
浓硫酸
90~110mL /L
化学镀镍
化学镀又称为无电解镀(Electroless plating),也可以称为自催化电镀 (Autocatalytic plating)[1]。具体过程是指:在一定条件下,水溶液中的金属离 子被还原剂还原,并且沉淀到固态基体表面上的过程。ASTM B374(ASTM,美
国材料与试验协会)中定义为Autocatalytic plating is “deposition of a metallic coating by a controlled chemical reduction that is catalyzed by the metal or alloy being deposited”。这一过程与一般电镀镍不同,其镀层是可以不断增厚的[2],