碳化硅在聚合物中的应用
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碳化硅结构式
摘要:
1.碳化硅的概述
2.碳化硅的结构式
3.碳化硅的性质与应用
正文:
1.碳化硅的概述
碳化硅(SiC)是一种无机非金属材料,由硅(Si)和碳(C)两种元素组成,具有原子晶体结构。
碳化硅具有很高的熔点、热稳定性、化学稳定性、硬度和热导率等优点,因此在工业领域具有广泛的应用。
2.碳化硅的结构式
碳化硅的结构式为SiC,它是一种空间网状结构,每个碳原子与四个硅原子形成共价键,每个硅原子与四个碳原子形成共价键。
碳化硅晶体中,硅原子构成六角形平面,碳原子位于六角形平面的中心。
多个这样的六角形平面相互连接,形成碳化硅晶体。
3.碳化硅的性质与应用
碳化硅具有以下优良性质:
(1)高熔点:碳化硅的熔点约为2700 摄氏度,在高温环境下具有较好的稳定性。
(2)高硬度:碳化硅的硬度很高,其硬度仅次于金刚石。
(3)高热导率:碳化硅的热导率较高,具有良好的热传导性能。
(4)高化学稳定性:碳化硅具有较好的化学稳定性,不易与酸、碱等化学物质发生反应。
基于以上优良性质,碳化硅在工业领域具有广泛的应用,如:
(1)作为耐火材料:碳化硅的高熔点和高热稳定性使其成为理想的耐火材料。
(2)作为磨料:碳化硅的高硬度使其成为优良的磨料,可用于砂轮、砂纸等研磨材料。
(3)作为半导体材料:碳化硅具有宽禁带、高热导率等优点,被认为是有潜力的半导体材料。
(4)作为光学材料:碳化硅具有良好的光学性能,可作为光学元件和高温光学窗口等。
碳化硅铝基复合材料的成分
碳化硅铝基复合材料由多种材料组成,其中主要成分为碳化硅和铝,而其他成分包括增强物、界面剂和增塑剂等。
碳化硅,也称为SiC,是一种高性能陶瓷材料,具有优异的高温力学和化学稳定性,具有高的抗氧化性能和导热性能,是制备高性能复合材料的关键成分之一。
铝是碳化硅铝基复合材料的另一个主要成分,通过原位反应与碳化硅反应来形成复合材料。
铝具有较高的密度和良好的导电性能,可以显著提高复合材料的导电性能,并可与碳化硅形成化学键,增加材料的稳定性。
增强物,在复合材料中起着强化材料、提高强度和刚度的作用。
常用的增强物包括碳纤维、玻璃纤维、硅carbide纤维等。
在碳化硅铝基复合材料中,通常使用碳纤维作为增强材料,可显著提高材料的强度和刚度。
界面剂,在复合材料制备过程中,界面剂用于增强增强材料和基体的结合强度。
常用的界面剂包括表面活性剂、亲水性聚合物等。
在碳化硅铝基复合材料中,聚丙烯酸酯等亲水性聚合物可增加材料的界面粘结强度。
增塑剂,用于改善复合材料的加工性能和柔韧性。
通常使用的增塑剂包括聚氨酯、聚酯等。
在碳化硅铝基复合材料中,增塑剂可以显著改善材料的断裂伸长和韧性。
C f/SiC陶瓷基复合材料的发展与应用现状Development and A pplication of C f/SiC Ceramic M atrix Com posites张玉娣,周新贵,张长瑞(国防科技大学航天与材料工程学院先进陶瓷纤维及其复合材料重点实验室,长沙410073)ZHANG Yu-di,ZHOU Xin-gui,ZHAN G Chang-rui(Key Laboratory o f Advanced Ceram ic Fibers and Co mposites,Colleg e ofAerospace and M aterials Engineering,National University ofDefense Technolo gy,Changsha410073,China)摘要:介绍了C f/SiC复合材料的制备工艺,分析了各种制备工艺的优、缺点。
描述了C f/SiC复合材料近年来在航空涡轮发动机、热保护系统、光学结构及光学反射镜以及刹车片系统等领域的应用发展状况。
对当前C f/SiC复合材料研究存在的问题进行了分析,指出提高C f/SiC陶瓷基复合材料抗氧化性仍是未来发展的一个重要研究方向。
关键词:陶瓷基复合材料;C f/SiC;工艺;应用中图分类号:T Q342.742 文献标识码:A 文章编号:1001-4381(2005)04-0060-04Abstract:The several fabrication pro cesses of C f/SiC ceramic matrix composite(CMC)w ere intr o-duced.T he advantag e and disadvantag e o f ever y pro cess was analyzed.T he discussio n w as put em-phasis on development and application o f C f/SiC composite,such as aero nautic turbine engine,ther-m al protectiv e sy stem,optical structur e and mirr or,brake sy stem and so on.Some current pro blems that lie in study of C f/SiC composites were analyzed,it w as put forw ard that how to im prov e the o xy genation r esistance of C f/SiC composites is still an impo rtant research and dev elo pm ent direction in the future.Key words:CM C;C f/SiC;pro cess;application 陶瓷材料作为一种结构材料,因其具有高强度、高硬度、耐磨损、耐高温和抗腐蚀等优异性能,且能应用于某些高温和苛刻环境中,被誉为“面向21世纪的新材料”[1],受到了越来越多的关注。
碳化硅粉用途
碳化硅粉是一种重要的无机材料,具有许多优异的性能和广泛的应用。
本文将从以下几个方面介绍碳化硅粉的用途。
一、电子行业
碳化硅粉在电子行业中应用广泛。
它具有优异的导热性能和高温稳定性,可以作为半导体器件、集成电路等高温电子元器件中的散热材料。
此外,碳化硅粉还可以制备高效LED照明器件、太阳能电池等光电器件。
二、新能源领域
随着全球对环保和可持续发展的重视,新能源领域逐渐成为人们关注
的焦点。
碳化硅粉在新能源领域中也有广泛应用。
例如,在太阳能电
池制造中,碳化硅粉可以作为太阳能电池背反射层材料,提高太阳能
转换效率;在锂离子电池制造中,碳化硅粉可以作为负极材料,提高
锂离子电池的循环寿命和容量。
三、陶瓷工业
由于碳化硅粉具有优异的机械性能和高温稳定性,因此在陶瓷工业中
也有广泛应用。
碳化硅粉可以用于制备高强度、高硬度的陶瓷材料,
如陶瓷刀具、陶瓷轴承等。
四、金属加工
碳化硅粉还可以作为金属加工中的切削液添加剂。
由于碳化硅粉具有
优异的耐磨性和抗腐蚀性,可以有效地减少金属加工过程中的摩擦和
磨损,提高切削效率和加工质量。
五、防护材料
碳化硅粉还可以用于制备防弹材料。
由于碳化硅粉具有极高的硬度和
优异的抗冲击性能,可以有效地抵御弹道攻击,并保护人身安全。
综上所述,碳化硅粉具有广泛的应用前景,在电子行业、新能源领域、陶瓷工业、金属加工以及防护材料等领域都有着重要的应用价值。
随
着科技不断进步和市场需求不断增长,相信碳化硅粉的应用范围和市
场前景将会更加广阔。
硅-碳键si-c共聚物
硅-碳键(Si-C)共聚物是一类由硅和碳两种元素组成的聚合物。
这类共聚物通常由含有硅-碳键的单体通过聚合反应而得到。
硅-碳键共聚物具有许多独特的性质,如高热稳定性、良好的耐腐蚀性、低表面能和良好的光学性能等。
这些性质使得硅-碳键共聚物在许多领域中具有广泛的应用,如电子材料、涂料、粘合剂、润滑剂和医用材料等。
常见的硅-碳键共聚物包括聚硅氧烷、聚碳硅烷等。
聚硅氧烷是由硅氧烷单体通过聚合反应得到的,具有良好的耐热性、耐寒性、电绝缘性和低表面张力等特点,常用于制造密封剂、润滑剂、涂料和橡胶等材料。
聚碳硅烷则是由碳硅烷单体通过聚合反应得到的,具有高的热稳定性和化学稳定性,常用于制造高温材料和电子材料等。
硅-碳键共聚物是一类具有独特性能的聚合物,在许多领域中具有重要的应用价值。
随着科学技术的不断发展,硅-碳键共聚物的应用领域还将不断扩大。
sioc碳氧化硅
摘要:
1.SiC 碳氧化硅的概述
2.SiC 碳氧化硅的特性与应用
3.SiC 碳氧化硅的发展前景
正文:
1.SiC 碳氧化硅的概述
SiC 碳氧化硅,又称碳化硅,是一种无机非晶固体材料。
它是由硅和碳两种元素组成的化合物,具有很高的熔点、硬度大、热稳定性好、抗氧化性强等优点。
由于这些特性,SiC 碳氧化硅被广泛应用于工业生产、科研等领域。
2.SiC 碳氧化硅的特性与应用
(1)高熔点:SiC 碳氧化硅的熔点高达2700 摄氏度,这一特性使其在高温环境下具有很好的稳定性。
因此,SiC 碳氧化硅常被用于制造高温炉、窑炉等设备。
(2)硬度大:SiC 碳氧化硅的硬度极高,其硬度仅次于金刚石。
这使得SiC 碳氧化硅可以作为耐磨材料,应用于砂轮、磨料、切割工具等。
(3)热稳定性好:SiC 碳氧化硅在高温下不易发生相变,具有很好的热稳定性。
因此,SiC 碳氧化硅被广泛应用于航空航天、汽车、电子等领域。
(4)抗氧化性强:SiC 碳氧化硅具有很强的抗氧化性,可在氧化性环境中保持其性能不变。
这使得SiC 碳氧化硅在化工、石油、冶金等行业具有广泛的应用。
(5)电学性能:SiC 碳氧化硅具有优良的电学性能,其击穿电场高、耐电压强度大。
因此,SiC 碳氧化硅被广泛应用于高压绝缘子、电弧炉等设备。
3.SiC 碳氧化硅的发展前景
随着科技的发展,SiC 碳氧化硅在各个领域的应用将越来越广泛。
未来,SiC 碳氧化硅的生产技术和应用领域将不断拓展,为社会经济发展提供有力支持。
acs芳碳硅晶须复合材料材料
芳碳硅晶须复合材料(Acs)是一种高性能复合材料,由碳化硅(SiC)晶须和聚合物基体组成。
这种材料具有高强度、高刚度、耐高温、抗氧化、耐腐蚀等优异性能,因此在航空航天、汽车、能源等领域得到广泛应用。
芳碳硅晶须复合材料的制备方法主要有两种:湿法成型和干法成型。
湿法成型是将聚合物基体和SiC晶须混合,然后通过热压、注射成型等方式制备成复合材料。
干法成型则是将SiC晶须分散在聚合物溶液中,然后通过涂布、纺丝等方式制备成复合材料。
芳碳硅晶须复合材料的主要应用领域包括:
1. 航空航天领域:用于制造飞机、卫星、火箭等航空航天器的结构件、蒙皮、隔热罩等部件,提高航空航天器的性能和寿命。
2. 汽车领域:用于制造汽车发动机罩、车身面板、汽车底盘等部件,提高汽车的安全性、耐久性和轻量化。
3. 能源领域:用于制造风力发电机叶片、太阳能电池板支架等部件,提高能源设备的效率和可靠性。
4. 其他领域:用于制造体育器材、医疗器械、电子设备等领域的部件,满足不同领域对高性能复合材料的需求。
总之,芳碳硅晶须复合材料作为一种高性能复合材料,具有广泛的应用前景和市场前景。
随着技术的不断进步和应用领域的不断拓展,其性能和应用范围还将得到进一步提升和拓展。
聚合物的碳化反应是指通过调控聚合物的降解反应以及降解产物的碳化,从而调控碳材料的结构。
这一过程涉及非成碳聚合物的碳化反应,它为制备阻燃型聚合物纳米复合材料提供了新思路,同时也被用于合成纳米碳材料。
聚合物的碳化反应在提高聚合物阻燃性能和利用聚合物制备碳材料方面有重要应用。
通过这种反应,可以制备出具有特殊功能的碳材料,例如导电性碳材料和光学碳材料,这些材料可以用于电子器件和光电器件等领域。
此外,聚合物的碳化反应也常被用于催化剂载体的制备,这些载体通常具有较大的比表面积和孔结构,可以用于催化剂的负载和反应催化。
在电池和超级电容器应用中,聚合物的碳化反应也发挥了重要作用。
通过碳化反应,可以将聚合物转化为具有高热导率、高电导率和高化学稳定性的碳材料,这些材料可以用于提高电池和超级电容器的性能。
此外,聚合物的碳化反应也被用于环境污染治理、能源存储、催化以及气体吸附等领域。
例如,通过使用聚合物碳化反应制备的碳材料,可以有效地去除空气中的有害气体,或者用于能源存储和催化反应中。
总的来说,聚合物的碳化反应是一种重要的化学过程,它在许多领域都有广泛的应用,包括材料科学、化学工程、环境科学等。
未来,随着科学技术的不断发展和进步,聚合物的碳化反应将会得到更广泛的研究和应用。
碳化硅镀膜工艺一、引言1. 背景介绍:碳化硅在电子器件中的应用2. 碳化硅镀膜的重要性:提高器件性能、降低成本3. 论文目的:详细介绍碳化硅镀膜工艺二、碳化硅材料特性1. 物理性质:晶格结构、离子扩散、能带结构2. 化学性质:化学键、表面反应、腐蚀 resistance三、碳化硅镀膜工艺1. 化学气相沉积(CVD):原理、设备、过程参数2. 物理气相沉积(PVD):原理、设备、过程参数3. 激光喷涂(LSP):原理、设备、过程参数4. 溶胶-凝胶法(SG法):原理、设备、过程参数5. 原子层沉积(ALD):原理、设备、过程参数6. 磁控溅射(MCV):原理、设备、过程参数四、碳化硅镀膜性能评估1. 厚度均匀性:测量方法、评估指标2. 硬度:测量方法、评估指标3. 耐腐蚀性:测量方法、评估指标4. 电子迁移率:测量方法、评估指标5. 热稳定性:测量方法、评估指标五、碳化硅镀膜在电子器件中的应用1. 肖特基二极管2. 场效应晶体管3. 发光二极管4. 太阳能电池5. 功率放大器六、结论与展望1. 碳化硅镀膜工艺的发展趋势2. 面临的挑战与解决方案3. 碳化硅镀膜在电子器件中的未来应用前景1. 背景介绍:碳化硅在电子器件中的应用碳化硅(SiC)是一种宽禁带半导体材料,具有高电子迁移率、高热导率和高抗热冲击能力,因此在电子器件中具有广泛的应用前景。
其中,碳化硅镀膜工艺是一种重要的制备碳化硅薄膜的方法,可以提高碳化硅器件的性能。
碳化硅在电子器件中的应用主要包括高温电力电子器件、功率器件、光电子器件和微电子器件等。
高温电力电子器件需要在高温环境下工作,因此需要使用具有高热导率和耐热冲击能力的材料。
碳化硅具有这些特性,因此被广泛应用于高温电力电子器件中。
功率器件需要具有高电子迁移率和低噪声特性,碳化硅在这方面也表现优异。
光电子器件需要具有高光响应率和低损耗特性,碳化硅在这方面也是优秀的材料。
微电子器件需要具有高精度和高可靠性的特性,碳化硅也在这方面有着广泛的应用。
碳化硅陶瓷的制备及应用简介
21世纪随着科学技术的进步,当今社会生产力的发展集中在信息、能源、材料、生物工程等几个方面。
碳化硅材料由于其化学性能稳定、导热系数高、热膨胀系数小、密度小、耐磨性能好、硬度大、机械强度高、耐化学腐蚀等特点,在材料领域迅速发展起来。
碳化硅陶瓷起始于20世纪60年代,之前碳化硅主要用于机械磨削材料和耐火材料。
但随着先进陶瓷的发展,人们已经不满足于制备传统碳化硅陶瓷,近几年,各类以碳化硅陶瓷为基的复相陶瓷相继出现,改善了单相材料的各方面性能,使得碳化硅陶瓷得到了更加广泛地应用。
碳化硅陶瓷材料密度低、硬度高、耐高温、热膨胀系数小、耐腐蚀,现普遍用于陶瓷球轴承、阀门、半导体材料、测量仪、航空航天等领域。
1.碳化硅的性质
碳化硅是一种人造材料,分子式为SiC,陨石及地壳上偶然存在碳化硅。
碳化硅分子量为40.07,密度为3.16~3.2g/cm3。
SiC具有α和β两种晶型,当温度低于1600℃时,SiC以β-SiC形式存在,当高于1600℃时,β-SiC转变为α-SiC的形式。
碳化硅以共价键为主,共价键约占88%。
晶格的基本结构是互相穿插的SiC4和CSi4四面体。
由于四面体堆积次序的不同形成不同的结构,至今已发现几百种变体,常见的结构如3C-SiC、4H-SiC、6H-SiC等,堆积规律如图所示。
图1 常见碳化硅多型体的原子排列图[1]
碳化硅的化学稳定性与其氧化特性有密切关系,碳化硅本身很容易氧化,但它氧化之后形成了一层二氧化硅薄膜,氧化进程逐步被阻碍。
在空。
碳化硅二氧化硅碳化硅和二氧化硅是两种常见的无机化合物,它们在工业和科学领域中具有重要的应用价值。
本文将分别介绍碳化硅和二氧化硅的性质、制备方法和应用领域,以及它们在人类生活中的重要性。
一、碳化硅1.性质:碳化硅是一种由碳和硅原子组成的化合物,化学式为SiC。
它具有高熔点、硬度大、抗腐蚀性强等特点,是一种优良的耐火材料。
此外,碳化硅还具有优异的导热性能和耐高温性能,因此被广泛应用于高温领域。
2.制备方法:碳化硅的制备方法主要有烧结法、化学气相沉积法和碳热还原法等。
其中,烧结法是最常用的制备方法之一,通过将碳化硅粉末进行高温烧结,使其形成致密的块状材料。
化学气相沉积法则是通过将硅源和碳源在高温下反应生成碳化硅薄膜。
碳热还原法则是通过将硅酸盐和碳源在高温下反应生成碳化硅。
3.应用领域:碳化硅具有优良的耐高温性能和耐腐蚀性能,因此被广泛应用于高温领域。
例如,碳化硅可用于制造高温炉具、耐火材料、陶瓷材料等。
此外,碳化硅还被应用于电力电子器件、光电器件和半导体器件等领域,因其具有优异的导热性能和耐高温性能。
二、二氧化硅1.性质:二氧化硅是一种由硅和氧原子组成的化合物,化学式为SiO2。
它是一种无色、无味、无毒的固体物质,具有高熔点、高硬度和良好的化学稳定性。
此外,二氧化硅还具有优异的绝缘性能和光学性能,是一种重要的材料。
2.制备方法:二氧化硅的制备方法主要有矿石法、溶胶-凝胶法和气相沉积法等。
矿石法是最常用的制备方法之一,通过将硅矿石进行高温还原或酸处理,得到二氧化硅。
溶胶-凝胶法则是通过将硅源和溶剂进行反应制备溶胶,然后通过热处理得到凝胶,最后将凝胶进行干燥和煅烧得到二氧化硅。
气相沉积法是通过将硅源和氧源在高温下反应生成二氧化硅薄膜。
3.应用领域:二氧化硅具有优异的绝缘性能和光学性能,因此在电子器件、光学器件和玻璃制品等领域具有广泛的应用。
例如,二氧化硅可用于制造集成电路和光纤通信器件中的绝缘层和介质层。
甲基硅烷碳化硅
甲基硅烷和碳化硅是两种不同的物质,具有不同的性质和用途。
甲基硅烷是一种有机硅化合物,其化学式为CH3SiH3。
它是一种无色气体,具有类似氯仿的芳香性气味。
甲基硅烷在常温下可以与空气中的氧气发生反应,生成二氧化硅和甲烷,因此储存和使用时需要严格控制氧含量。
甲基硅烷主要用于生产高纯度硅烷气体和等离子刻蚀气体等,也可用作反应性稀释剂、蚀刻剂、表面处理剂等。
碳化硅是一种无机非金属材料,其化学式为SiC。
它是由碳元素和硅元素组成的化合物,具有高硬度、高熔点、抗氧化、耐腐蚀等特性。
碳化硅主要用于生产耐磨、耐高温、耐腐蚀等高性能陶瓷和复合材料,也可用于制造电子元件、催化剂载体、气瓶衬里等。
此外,碳化硅还可以用作研磨材料、切割工具、磨具等。
总之,甲基硅烷和碳化硅是两种不同的物质,具有不同的性质和用途。
在使用时需要注意安全和正确使用方法。
碳化硅在聚合物中的应用2006-12-18 9:12:58 【文章字体:大中小】打印收藏关闭由无机材料和有机高分子所组成的有机-无机杂化材料是近年来国内外研究较多的一种新型复合材料,它同时具有有机高分子和无机材料的优点。
SiC 陶瓷具有硬度高、高温强度大、抗蠕变性能好、耐化学腐蚀、抗氧化性能好、热膨胀系数小及高热导率等优异性能,是一种在高温和高能条件下极具应用前景的材料。
SiC用于制备金属基、陶瓷基和聚合物基复合材料,已经表现出优异的性能。
此外,SiC在隐身吸波材料方面也有重要的应用。
本文综述了SiC在聚合物中的应用。
1 碳化硅基本特性SiC具有α和β两种晶型。
β-Sic的晶体结构是立方晶系,Si和C分别组成面心立方晶格,Si——C的原子间距为0.1888nm,α-SiC存在着4H、15R和6H等100余种多型体,其中,6H多型体在工业上应用最为广泛。
在6H-SiC 中,Si与C交替成层状堆积,Si层间或C层间的距离为0.25nm,si-C的原子间距约为0.19nm。
在SiC的两种晶型之间存在一定的热稳定性关系。
温度低于1 600℃时,SiC 以β-SiC存在;温度高于1600℃时,β-SiC通过再结晶缓慢转变成α-SiC 的各种型体(4H、6H和15R等)。
4H-SiC在2000℃左右容易生成;而15R 和6H多型体均需在2100℃以上才能生成,但15R的热稳定性比6H多型体差,对于6H-SiC,即使温度超过2200℃也非常稳定。
SiC的硬度高、弹性模量大,具有优良的耐磨损性能。
纯的SiC不会被HC1、HNO3、H2SO4和HF等酸溶液以及NaOH等碱溶液所侵蚀,但在空气中加热时会发生氧化反应。
值得指出的是,在干燥的高温环境中,温度超过900℃时,SiC表面会生成一层致密的、缓慢生长的二氧化硅膜,这层膜抑制了氧的进一步扩散,使其具有优异的抗氧化性能。
在电性能方面,SiC是第三代半导体材料的核心之一,具有很多优点,如带隙宽、热导率高、电子饱和漂移速率大、化学稳定性好等,非常适于制作高温、高频、抗辐射、大功率和高密度集成的电子器佣。
此外,SiC还具有优良的导热性和吸波特性。
2 SiC填充改性聚合物用无机物质填充改性有机高分子材料所制备的聚合物基复合材料是一类新型材料,在性能(如耐磨性)提高的同时,还表现出一些新的性能(如吸波性能)。
特别是对纳米无机填料改性高分子材料所制备的复合材料而言,在填料和基体之间形成了松散材料体积分数更大的界面层,所以在填料含量非常低的条件下就可以对材料的性能产生很大影响。
这种特性尤其有利于提高热固性树脂基复合材料的耐磨性。
纪秋龙等用纳米SiC对环氧树脂进行了填充改性并对改性后复合材料的摩擦学性能进行了研究。
由于纳米SiC与环氧树脂之间相容性较差,他们先对纳米SiC进行了表面大分子接枝预处理,在其表面引人聚丙烯酞胺,一方面改善了纳米SiC在环氧树脂基体中的分散性;另一方面也通过引人的酞胺基团与环氧树脂反应,通过化学键紧密联结起来,从而更有效地发挥纳米SiC的作用。
结果表明,经纳米SiC填充的复合材料的耐磨性比未改性的环氧树脂提高了近4倍,摩擦系数降低了36%。
Nathaniel chishohn等系统地研究了不同含量(1.5%~3.0%,质量分数,下同)的纳米SiC填充环氧树脂后树脂性能的变化,结果发现,经1.5%的纳米SiC填充改性后,树脂的力学性能比纯树脂的有明显提高,拉伸模量提高了44.9%,拉伸强度提高了15.8%。
还有人将粒径为10nm和30nm的微晶SiC掺人聚乙烯基咔唑和香豆素的共混物中,并测量了得到的复合材料的线性电致发光效应。
在掺人了纳米微晶SiC 后,无论在静态区域还是在光引发区域,测定线性电致发光效应系数的响应都明显增大。
但相对于静态区域而言,光引发区域的线性电致发光效应系数要更大一些。
在这种客体一主体材料中,纳米微晶SiC与其周围聚合物之间的界面层在电致发光效应中起主导作用。
虽然估算出来的线性电致发光效应系数比已知的无机电致发光晶体低,但是在复合材料的均一区域上所得到的测量值却大得多。
李家俊等研究了SiC纤维体积含量小于2%的环氧树脂/碳化硅纤维复合吸波材料不同排布的吸波性能。
结果表明,碳化硅纤维吸波性能与纤维的排布间距和纤维含量密切相关;正交排布试样的吸波效果总体上优于平行排布试样;在频率大于8 GHz、SiC纤维的间距为4mm如和SiC纤维含量为1600根/束时的正交排布方式下获得了-10 dB以下的反射衰减。
K.Kueseng和K.I.Jacoi先将纳米SiC分散在天然橡胶(NR)的聚合物溶液中,然后用蒸发干燥的方法除去溶剂、最终制得了橡胶纳米复合材料。
研究发现,SiC含量为1.5%的橡胶试样的断裂应变比硫化后的纯橡胶试样减少了20%;试样的初始模量随着SiC含量的增加而增大,在SiC含量为1.5%时达到最大值。
1.5%的SiC填充改性的NR的初始模量为1.44MPa极限强度为9MPa,断裂伸长率为64.8%。
而另有报道说40%的碳黑填充改性的NR的初始模量为1.6 MPa;极限强度为10.6MPa,断裂伸长率为434%。
Hassan Mahfuz等利用超声波将纳米SiC均匀地分散在液态的聚氨酯泡沫中,并将这种混合物浇铸到矩形模具中制成了纳米泡沫塑料板。
热重分析发现,纯聚氨酯泡沫塑料的热分解温度为388℃,SiC含量为1%的泡沫塑料的热分解温度为433℃,而SiC含量为3%时热分解温度为379℃。
出现热分解温度降低在宏观上可能是由于杂质在本体溶液中的依数性热力学效应所导致。
通过扫描电镜分析发现,当SiC含量为1%时,晶胞尺寸增大到了535μm,但有一定数量的晶胞坍塌了;当SiC含量增加到3%时,几乎所有的晶胞都坍塌了佘这与热重分析得到的结果一致,说明SiC的填充量应在1%~3%之间,超过这个范围可能起不到有效的增强作用。
3 聚合物表面包覆改性SiC粉体的表面包覆改性是指在原来单一组分的基元物质表面上均匀地引人1种或多种其他物质;以改变原来基元物质基本性质的方法。
它最终使由这些改性原料生产出的材料的性能得到提高,功能和用途得到扩大,同时也使材料制造和成型工艺得到进一步完善和发展。
表面包覆技术是制造此类刁刘刊斗的关键技术。
王苹等先用有机硅烷偶联剂对SiC粉体进行预处理,然后使甲基丙烯酸甲酯在引发剂作用下在SiC粉体表面发生乳液聚合反应,对SiC粉体表面进行了聚电解质包覆改性价改性得到的复合材料粒子表面具有很强的疏水性,有些样品几乎完全不溶于水。
有研究表明,在SiC悬浮水溶液中,以FeCl3为氧化剂,聚吡咯可以发生氧化聚合反应包覆在SiC粒子的表面,形成一种新型SiC/聚吡咯导电复合材料。
这种复合材料电导率的大小主要由聚毗咯在SiC表面的含量所决定。
聚吡咯为35%时复合材料的电导率约为2S/cm,与用向样的氧化剂在向样制备条件不制得的纯聚吡咯粉末的电导率在同一数量级范围内。
4 硅离子注放改性聚合物离子注人聚合物表面改性是当前国际上极为关注的研究课题。
采用离子注人可以有效地改善聚合物表面物理和化学特性,例如提高其表面强度,增强抗磨损性,改善导电性和光学性能。
吴瑜光等采用离子注人的方法将Si离子注人到聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜中。
红外吸收测量结果表明了SiC和C颗粒的形成。
这些颗粒的形成增强了注入层表面强化效果,改善了PEF薄膜的表面导电性能。
PET薄膜的表面电阻率随着Si离子注人量的增加而明显不降。
当Si离子的注人量为2x1017cm-2时,PET薄膜的表面电阻率小于7.9Ω·m。
表面硬度和弹性模量分别比未注入时提高了12.5倍和2.45倍。
此外,Si离子注人的薄膜表面划痕比未注入的划痕窄而浅,说明薄膜的表面抗磨损性能得到了极大的增强。
5 聚合物接技改性SiC超细粉体研磨粉碎后,在其新生表面产生一系列的变化,如孪晶、位错裂缝或杂质等缺陷,使粒子表面具有可以发生自由基反应的活性点,在适当的条件下,聚合物活胜单体可以在这些活性点上反应接枝于粒子表面,再引发聚合反应而得到包覆性固体颗粒。
在接枝共聚反应中,人们常常采用偶联剂(钛酸酯类、有机硅烷类、铝酸酯类及磷酸酯类)先对粉体进行预处理。
以有机硅烷类偶联剂为例,它是一种具有双亲结构基团的物质,它水解后可以和无机粉体表面的-OH反应、形成牢固的化学键;而经偶联剂处理后的粉体中因含有偶联剂的另一部分亲和性基团,也能产生活性中心,从而可以引发接枝共聚反应)。
一般来说,聚合物接枝改性也会对粒子产生表面包覆作用。
魏明坤等先将SiC粉体用偶联剂KH-550处理,然后再将已经处理过的SiC 粉体和聚甲基丙烯酸甲酯发生接枝共聚反应。
结果表明,用聚甲基丙烯酸甲酯接枝改性SiC粉体,掩盖了粉体原有的性质,有效地防止了粉体的团聚。
而用这种改性后的SiC粉体制备的料浆,Zeta电位增大,流动性变好,且在保证成型流动性的条件下,将浆料的固相含量从40%(体积分数)提高到了50%。
吉晓莉等研究发现,丙烯酰胺与经过偶联剂KH-550预处理的SiC粉体可以发生接枝共聚反应,并在粉体表面形成偶联剂和丙烯酞胺的双包覆层。
测试分析结果表明,偶联剂处理的SiC粉体经共聚反应后,透射电镜照片不但反映出粉体表面包覆上了一层有机物,还显示出这层有机物非常完整地覆盖了粉体原有的表面。
而红外吸收光谱则显示出偶联剂与粉体表面的羟基发生了反应,形成了第一包覆层;而丙烯酞胺与改性SiC的接枝共聚反应产物以及它自身的聚合产物聚丙烯酞胺则形成了第二包覆层。
正是这第二层包覆物质有效地改善了SiC粉体水基分散时的稳定性,同时也提高了粉体的分散性能。
为了克服纳米粒子在高分子材料中分散时容易团聚结块的缺点,Ron9 Min Zhi等采用接枝共聚的方法在纳米SiC粒子表面引人了聚丙烯酞胺,并对改性粒子填充环氧树脂的摩擦性能进行了研究。
从未改性和接枝改性SiC粒子的扫描电镜照片中可以看出,未改性的SiC粒子的直径比厂家给出的大得多,这说明未改性的纳米粒子出现了严重的结块现象。
而经接枝改性之后,在结块区域周围出现了一层薄膜和很多微小的粒子。
这说明接枝单体穿透了纳米粒子的结块区域,并且在该区域内外同时聚合。
接枝改性SiC粒子填充环氧树脂比未改性SiC粒子填充改性环氧树脂的摩擦因数和比磨损率都小得多。
此外,他们还发现,在环氧树脂中加人少量纳米粒子后树脂耐磨性的提高不仅与纳米粒子本身有关,还与粒子的掺入所引起的基体的增强作用有关。
6 结语近年来研究发现,聚合物基复合材料用少量坚硬的无机物改性就可以显著地提高其力学性能和热学性能。
SiC有机-无机复合材料就是一类用SiC陶瓷改性的聚合物基复合材料。
现在这类复合材料被厂泛地应用在包装工业、涂料工业电子工业、汽车工业及舫空航天等工业。