材料分析方法 第五章(3)
- 格式:ppt
- 大小:5.43 MB
- 文档页数:62
第一章 X 射线物理学基础一、X 射线产生的主要装置和条件 主要装置:阳极靶材、阴极灯丝条件:a. 大量自由电子;b. 定向高速运动;c. 运动路径上遇到障碍(靶材)二、短波限一个电子在与阳极靶撞击时,把全部能量给予一个光子,这就是一个光量子所能获得的最大能量,即:h c/λ=eU ,此时光量子的波长即为短波限λSWL 。
三、连续X 射线(强度公式)大量电子在与靶材碰撞的过程中,能量不断减小,光子所获得的能量也不断减小,形成了一系列由短波限λSWL 向长波方向发展的连续波谱。
连续谱强度21iZU K I四、特征X 射线(莫塞莱定律)当X 射线管两端的电压增高到某一特定值U k 时,在连续谱的特定的波长位置上,会出现一系列强度很高,波长范围很窄的线状光谱,它们的波长对一定材料的阳极靶材有严格恒定的数值,此波长可作为阳极靶材的标志或特征,所以称为特征谱或标识谱。
莫塞莱定律:Z K 21) U - U ( i K I m n 3 (Un 为临界激发电压,原子序数Z 越大,Un 越大)五、X 射线吸收(透射)公式——(质量吸收系数:单质、化合物(固溶体、混合物)) 单质 m tm m e I eI I 00化合物ni i mim w 1六、光电效应、荧光辐射、俄歇效应光电效应:当入射X 射线光量子能量等于或略大于吸收体原子某壳层电子的结合能时,电子易获得能量从内层逸出,成为自由电子,称为光电子,这种光子击出电子的现象称为光电效应。
荧光辐射:因光电效应处于相应的激发态的原子,将随之发生如前所述的外层电子向内层跃迁的过程,同时辐射出特征X 射线,称X 射线激发产生的特征辐射为二次特征辐射,称这种光致发光的现象为荧光效应。
俄歇效应:原子K 层电子被击出后, L 层一个电子跃入 K 层填补空位,而另一个L 层电子获得能量逸出原子成为俄歇电子,称这种一个K 层空位被两个 L 层空位代替的过程为俄歇效应。
光电效应——光电子荧光辐射——荧光X 射线(二次X 射线) 俄歇效应——俄歇电子七、吸收限及其两个应用:滤波片的选择、靶材的选择吸收限:欲激发原子产生K、L、M等线系的荧光辐射,入射X 射线光量子的能量必须大于或至少等于从原子中击出一个K、L、M层电子所需的能量W K、W L、W M,如,W K= h K = hc / K,式中, K、 K是产生K系荧光辐射时,入射X射线须具有的频率和波长的临界值。
第一章X射线物理学基础1.连续X射线:从某一短波限λSWL开始,直至波长等于无穷大λ∞的一系列波长。
(这种谱用于X射线衍射分析的劳埃法)2.特征X射线:具有一定波长的特强X射线,叠加于连续X射线谱上。
(这种谱用于X射线衍射分析的德拜法)3.特征X射线的产生机理: X射线管中高速电子流轰击阳极,若管电压超过某一临界值,电子的动能足以将阳极中原子的____内层电子_____轰击出来。
这种被激发的原子,在电子跃迁时会辐射光子。
它们是一组能量一定的射线,构成___特征X射线__。
这种谱适用于X射线衍射分析的____德拜____法。
4.波长与强度成反比。
5.当U/Uk=(3—5)Uk时,I特/I连获得最大值.(降低连续X射线,提高特征X射线的方法)6.荧光辐射:由入射X射线所激发出来的特征X射线.入射能量束的粒子与和物质原子中电子相互作用碰撞,当粒子能量足够大就能激出的内层电子,同时原子外层向内层空位跃迁,辐射出一定的特征荧光射线,被称为荧光辐射。
7.光电效应:当入射光子的能量等于或略大于吸收体原子某壳层电子的结合能时,此光子就很容易被电子吸收,获得能量的电子从内层溢出,成为自由电子,即光电子,原子则处于相应的激发态,这种原子被入射光子电离的现象即光电效应。
(应用于重元素的成分分析)8.俄歇效应:原子中一个K层电子被入射光子击出后,L层一个电子跃入K层填补空位,此时多余的能量不以辐射X光子的方式放出,而是另一个L层电子获得能量跃出吸收体,这样的一个K层空位被两个L层空位代替的过程称俄歇效应。
(应用于表层轻元素的成分分析)9.相干散射:X射线与物质原子内层电子相撞,入射光子的能量全部转给相撞电子,在X射线电场作用下,产生强迫振动,电子成为新电磁波源,向四周辐射与入射光子等波长的电磁波。
10.非相干散射:入射线与束缚较弱的外层电子或自由电子作用,电子获一部分动能成为反冲电子,入射线失去部分能量,改变了波长,沿与入射方向成一定角度的方向辐射。