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第九章PHOTO工序PHOTO工序的目的HOTO的基本概念什么是PHOTO?若是从一个液晶厂内部部门来说，PHOTO指的是黄光部。
但是从工艺来说，在半导体和液晶产业，PHOTO指光刻技术。
当然，这两个概念是有实质联系的，因为在液晶厂内负责光刻方面工作的就是黄光部。
HOTO工序的目的PHOTO工序的目的是把膜层电路结构复制到以后要蚀刻的玻璃基板上。
主要过程依次如下面图（一），图（二）和图（三）所示。
图（一）图（二）图（三）PHOTO工序主要包含三大步骤，即上图所示的光阻涂布（PR coating）; 曝光（Exposure）;和显影（Develop）.光阻涂布（如图一），就是在plate（玻璃基板）上涂布光阻。
光阻是一种对特定波长的UV光敏感的有机材质，遇到一定强度的UV光就会发生化学反应，所以PHOTO工序要在黄光下进行。
因为黄光波长大，光子能量低，强度比较弱（不会引起光阻化学反应）并且照明效果不错的光。
光阻涂布制程主要控制光阻的膜厚及其均一性。
曝光（Exposure）是PHOTO的关键，也是ARRAY的关键。
之前说了PHOTO是把膜层电路结构复制到以后要蚀刻的玻璃基板上。
临时电路结构就设计在MASK（光罩）上，光罩上有电路结构区域不透光，没有电路结构区域可以透光。
这样就使上一步骤涂布的光阻经过曝光工序之后，电路结构就从光罩转移到光阻上。
曝光（Exposure）制程的主要参数是CD（线宽）,Total pitch, Overlay。
Develop即显影。
经过Exposure之后在玻璃基板上喷洒显影液，因为显影液为碱性，对正性光阻而言，被紫外光照射过的光阻可以溶解在碱性显影液中，而未紫外光照射到的部分不溶于显影液。
因此，显影之后，在玻璃基板上，只剩下电路部分有光阻，而其它区域无光阻（注：本节所指光阻为正光阻，一般TFT段都使用正光阻）。
显影液浓度的控制是显影工艺的关键，浓度的高低会影响到线宽。
显影后送去蚀刻，这样有光阻保护部分（即需要的电路部分）的膜不会被蚀刻掉，而没有光阻保护部分的膜就被蚀刻掉。
目录印刷行业工艺流程 1 丝网印刷工艺流程 3 热处理行业工业流程 4 熔炼行业工艺流程图 5 蓄电池行业工艺流程 6 有色铸造行业工艺流程 7 铝制品行业工艺流程 8 玩具行业工艺流程 8 铸钢铸造行业工艺流程 9 铜铸件工艺流程10 家具行业（沙发）工艺流程 11 服装行业工艺流程 12 涂装行业工艺流程13电镀行业工艺流程建材行业工艺流程（一） 建材行业工艺流程（二） 建材行业工艺流程（三） 建材行业工艺流程（四） 化工行业部份产品工艺流程 纺织行业工艺流程 玻璃行业工艺流程 汽车修理工艺流程 皮具厂工艺流程 艺术品工艺流程 发电厂工艺流程 造纸厂工艺流程 硫酸制造工艺流程 烧碱制造工艺流程 其它行业生产工艺流程印刷行业工艺流程1 of 31塑料印刷苯系物噪声2 of 31丝网印刷工艺流程丝网印刷3 of 31热处理行业工业流程4 of 315 of 31熔炼行业工艺流程图铝铅尘、铅烟、噪声、高温铅铜注：如熔炼炉为池炉，则会有煤尘和一氧化碳等有害物产生。
以上为钳锅生产工艺。
蓄电池行业工艺流程注：规模小的单位，只有买进阴阳极板后进行最后一条流水线。
6 of 31有色铸造行业工艺流程7 of 31铝制品行业工艺流程玩具行业工艺流程长毛绒玩具8 of 31铸钢铸造行业工艺流程9 of 31铜铸件工艺流程10 of 31家具行业（沙发）工艺流程11 of 31服装行业工艺流程注：一般情况新的工业缝纫机的噪声不会超标12 of 31涂装行业工艺流程油漆类13 of 31油墨类甲苯、二甲苯乙酸乙酯、噪声甲苯、二甲苯、乙酸乙酯水性涂料噪声、粉尘注：涂料中的稀释剂据油漆的要求不同需不同。
14 of 31电镀行业工艺流程氢氧化钠硫酸盐酸15 of 31建材行业工艺流程（一）瓷砖：16 of 31建材行业工艺流程（二）玻璃钢类：塑钢门窗类：噪声17 of 31建材粉：RS色艺石（人造大理石）：18 of 31建材行业工艺流程（三）大理石：多层夹板：19 of 31建材行业工艺流程（四）水泥砖、瓦20 of 31化工行业部份产品工艺流程氯化锰乙酸锰硝酸锌21 of 31纺织行业工艺流程纺织22 of 31玻璃行业工艺流程制瓶23 of 31显象管玻壳24 of 31汽车修理工艺流程皮具厂工艺流程粉尘甲苯、二甲苯、乙酸丁酯25 of 31艺术品工艺流程礼盒水晶艺品26 of 31发电厂工艺流程火力发电：2燃气发电：27 of 31造纸厂工艺流程硫酸制造工艺流程2323328 of 31烧碱制造工艺流程2 3 2 2 3其它行业生产工艺流程绝缘胶带不粘胶注：稀释剂品种较多，据实际情况而定。
一、引言TFT技术是采用新材料和新工艺的大规模半导体集成电路技术。
TFT是在玻璃或塑料基板等非单晶片上制作大规模半导体集成电路，通过溅射、化学沉积工艺形成制造电路必需的各种膜，通过对膜的加工制造集成电路。
采用非单晶基板大幅度地降低了成本。
在大面积的玻璃或塑料基板上制造控制液晶开关性能的TFT是大规模IC技术重大发展。
以分辨率为SXGA（1280×1024）的16.1英寸的TFT-LCD为例，在对角线为300㎜×400㎜玻璃基板上制造近800万个TFT，对生产环境的要求（净化度为100级），对原材料纯度的要求（电子特气的纯度为99.999985%），对生产设备和生产技术的要求都是对现代工业技术的挑战，特别是制造大面积多晶硅TFT的激光退火技术更是对精密控制技术的挑战。
随着九十年代初TFT技术的成熟，彩色液晶平板显示器迅速发展，10年左右的时间，TFT-LCD迅速成长为主流显示器，开创了人类一个新的技术时代。
TFT阵列技术之所以得到迅速发展是因为它具有非常突出的三大优点：1、大面积，规模化生产特性好；九十年代初第一代大面积玻璃基板（300mm×400mm）TFT-LCD生产线投产，到2002年玻璃基板的面积已经扩大到了1100 mm×1250mm，最近一次制造16块20英寸TFT模块的1370mm×1770mm的玻璃基板的第6代生产线也进入了设计阶段。
4代以上的TFT生产线基本上无人操作，全封闭的自动化大生产，成品率达到90%以上。
TFT-LCD的规模化生产特性是其他显示器无法比拟的。
2、高集成度，功能强大；分辨率为SXGA（1280×1024）的16.1英寸的TFT阵列非晶硅的膜厚只有50nm，随着低温多晶硅技术的成熟，现在人们开始把驱动芯片集成到玻璃基板上，也考虑把整个控制系统集成到玻璃基板上，CHIPS ON GLASS，SYSTEM ON GLASS，其IC的集成度，对设备和工艺技术的要求，技术难度都超过传统的LSI。
