综合解堵技术发展与应用
锦州采油厂稀油1979年开始注水开发，稠油1984年开始蒸汽吞吐开发。多数区块进入开发中后期，地层压力、温度下降，原油中胶质、沥青质、石蜡等析出堵塞油层孔隙。钻井、修井、注汽等过程中，都有可能形成油层伤害。从锦45、锦7的新井、侧钻井等投产初期可以看出：地层受泥浆污染，导致部分新井注汽效果差，投产后产量下降快，生产周期短。油层综合处理施工简便、不动管柱、停井时间短、成本较低。经过多年的应用和筛选。目前包括：酸化处理、解堵处理剂。
标签：解堵；新配方；一体化
1 前言
锦州采油厂稀油1979年开始注水开发，稠油1984年开始蒸汽吞吐开发。多数区块进入开发中后期，地层压力、温度下降，原油中胶质、沥青质、石蜡等析出堵塞油层孔隙。钻井、修井、注汽等过程中，都有可能形成油层伤害。
从锦45、锦7的新井、侧钻井等投产初期可以看出：地层受泥浆污染，导致部分新井注汽效果差，投产后产量下降快，生产周期短。
目前油井主要在采油过程，注水过程，钻、修井过程、注蒸汽过程中出现地层堵塞。而油层综合处理施工简便、不动管柱、停井时间短、成本较低。经过多年的应用和筛选，目前包括：酸化处理、解堵处理剂。
2 主要研究内容
2.1 确定新配方体系
酸化解堵原理[1，2]：土酸是一种由盐酸和氢氟酸组成的混合酸，主要用于砂岩储层的酸化，其反应原理主要是氢氟酸和石英、粘土矿物等反应。针对锦99、欢17、锦612等区块分析油层物性，确定新配方体系：锦99块为10%HCI+2%HF+1%缓蚀剂+1%助排剂；欢17为12%HCL+4%HF+1%缓蚀剂+1%助排剂+1%粘土防膨剂；锦612为10%HCL+2%HF+2%缓蚀剂+1%助排剂。
2.2 解堵处理剂改进配方实现解堵增能一体化
解堵处理剂[3]主要有自生气体的化学剂和耐高温表面活性剂、解堵剂等组成，该复合处理剂，注入地层中在地层（温度140℃以上）条件下化学反应并产生大量气体，也能在低温（15-85℃可控制）条件下反应并产生大量气体和具有表面活性的物质，能够有效地改变岩石的润湿性，使岩石变为亲水性，同时加入优选的表面活性剂和解堵剂降低原油的粘度，增加地层的返排能力，从而提高蒸汽吞吐效果。
《物联网技术与运用》考试题库01 单选题 1、物联网的英文名称是（B）B.Internet of Things 2、（D）首次提出了物联网的雏形 D.比尔.盖茨 3、物联网的核心技术是（A） A.射频识别 4、以下哪个不是物联网的应用模式（C） C.行业或企业客户的购买数据分析类应用 5、按照部署方式和服务对象可将云计算划分为（A） A.公有云、私有云和混合云 6、将基础设施作为服务的云计算服务类型是（C） C.PaaS错误：改为B.IaaS 7、2008年，（A）先后在无锡和北京建立了两个云计算中心 A.IBM 8、（A）实施方案拟定了在未来几年将北京建设成为中国云计算研究产业基地的发展思路和 路径 A.祥云工程 9、智慧城市是与相结合的产物（C） C.数字城市物联网 10、可以分析处理空间数据变化的系统是（B） B.GIS 11、智慧革命以（A）为核心 A.互联网 12、迄今为止最经济实用的一种自动识别技术是（A） A.条形码识别技术 13、以下哪一项用于存储被识别物体的标识信息？（B） B.电子标签 14、物联网技术是基于射频识别技术发展起来的新兴产业，射频识别技术主要是基于什么方 式进行信息传输的呢？（B） B.电场和磁场 15、双绞线绞合的目的是（C ） C.减少干扰 16、有几栋建筑物,周围还有其他电力电缆,若需将该几栋建筑物连接起来构成骨干型园区网, 则采用（D ）比较合适? D.光缆 17、下列哪种通信技术部属于低功率短距离的无线通信技术？（A） A.广播 18、关于光纤通信，下列说法正确的是（A ） A.光在光导纤维中多次反射从一端传到另一端 19、无线局域网WLAN传输介质是（A） A.无线电波
信息技术发展展望 [设计意图] 1、信息技术迅速发展和不断更新，引发了社会各个领域的深刻变革，信息文化成了大众参 与和关注的社会要素，信息素养成了衡量每个人综合素质的重要部分。 2、对应课标（四）信息技术与社会（1）探讨 ．．信息技术对社会发展、科技进步以及个人生 活与学习的影响。提升 ．．对信息技术影响及其价值的认识，注意知识的迁移应用 [内容分析] 教学目标分析： 了解信息技术，感受由于信息技术的发展应用从而引发自己身边的变化和影响，同时通过寻本溯源了解信息技术的过去、现在与未来，激发对信息社会生活的关注与向往。 教材内容分析： 1．信息技术的发展历程，主要讨论信息技术发展的五个阶段及各阶段的重要标志；2．针对信息技术的三大方面的发展，分别举例说明； 3．信息技术的发展展望，举例说明； 学生情况分析： 1．高一新生，对信息技术有一定的了解； 2．具备了一定计算机操作能力，会上网； 教学资源分析： 1．教师自制的课件，课程网站； 2．提供必要的网络资源。 3． [策略设计] 1．教学方法设计
问题导入，教师启发 自主探究，分组讨论 2．关于教-学流程和教-学活动的设计思路 信息技术是发展的，信息技术的发展历程； 提问：信息技术的发展过程中有哪些重大发明？（启发学生回忆） 信息技术发展的三个主要方面： ●信息技术的采集技术不断发展 ●信息技术的传递技术不断发展 ●信息技术的处理技术不断发展 （分组网络探究，学生知识的迁移） 计算机技术的发展： 从微电子技术的发展，从应用规模上的发展，引导学生回忆探讨计算机的发展； 信息技术展望： ●虚拟现实技术 ●信息技术的发展带来的问题 思考并选择写设计主题报告，让学生从已知知识进行创新认知。 3、教师应用信息技术的情况和学生上机操作安排等
Vo.l14,No.16精细与专用化学品第14卷第16期 F i n e and Specialty Che m ica ls2006年8月21日市场资讯 光刻胶的发展及应用 郑金红* (北京化学试剂研究所,北京100022) 摘 要:主要介绍了国内外光刻胶的发展历程及应用情况,分析了国内外光刻胶市场状况及未来走向,并在此基础上阐述了我国光刻胶今后的研发重点及未来的发展方向。 关键词:集成电路;光刻胶;感光剂 D evelop m ent T rends and M arket of Photoresist Z HENG J in hong (Be iji ng Instit u te o f Che m ica l R eagents,Be iji ng100022,Chi na) Abstrac t:The deve l op m ent course and app licati on o f photoresist i n Chi na and abroad we re i ntroduced.The m arket sta t us and head i ng d irec tion o f pho toresist in Ch i na and abroad w ere also analyzed.T he research f o cuses and deve l op m ent trends of pho t o res i st i n Ch i na w ere descri bed. K ey word s:i n teg ra ted c ircuit;photoresist;photosensiti zer 光刻胶(又称光致抗蚀剂)是指通过紫外光、准分子激光、电子束、离子束、X射线等光源的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料。主要用于集成电路和半导体分立器件的微细加工,同时在平板显示、LED、倒扣封装、磁头及精密传感器等制作过程中也有着广泛的应用。由于光刻胶具有光化学敏感性,可利用其进行光化学反应,将光刻胶涂覆半导体、导体和绝缘体上,经曝光、显影后留下的部分对底层起保护作用,然后采用蚀刻剂进行蚀刻就可将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工的衬底上。因此光刻胶是微细加工技术中的关键性化工材料。 现代微电子(集成电路)工业按照摩尔定律在不断发展,即集成电路(I C)的集成度每18个月翻一番;芯片的特征尺寸每3年缩小2倍,芯片面积增加1 5倍,芯片中的晶体管数增加约4倍,即每过3年便有一代新的集成电路产品问世。现在世界集成电路水平已由微米级(1 0 m)、亚微米级(1 0~0 35 m)、深亚微米级(0 35 m以下)进入到纳米级(90~65nm)阶段,对光刻胶分辨率等性能的要求不断提高。因为光刻胶的可分辨线宽 =k /NA,因此缩短曝光波长和提高透镜的开口数(NA)可提高光刻胶的分辨率。光刻技术随着集成电路的发展,也经历了从g线(436nm)光刻,i线(365nm)光刻,到深紫外248nm光刻,及目前的193nm光刻的发展历程,相对应于各曝光波长的光刻胶也应运而生。随着曝光波长变化,光刻胶的组成与结构也不断地变化,使光刻胶的综合性能满足集成工艺制程的要求。 表1为光刻技术与集成电路发展的关系,其中光刻技术的变更决定了光刻胶的发展趋势。 1 国外光刻胶发展历程及应用 光刻胶按曝光波长不同可分为紫外(300~ 450nm)光刻胶、深紫外(160~280n m)光刻胶、电子束光刻胶、离子束光刻胶、X射线光刻胶等。根据曝 24 *收稿日期:2006 07 19 作者简介:郑金红(1967 ),女,北京化学试剂研究所有机室主任,教授级高工,主要从事微电子化学品光刻胶的研究工作。
物联网的应用领域与发展前景 姚程宽张新华詹喆 （安庆医药高等专科学校公共基础部安徽安庆246003） 摘要：物联网是互联网发展到今天的高级产物，目前还没有对物联网权威的定义。从技术的角度说，任何一个互联互通的网络都可以实现，比如电信、移动、联通、广电等，也可以是一个独立局域网。对于普通用户来说，物联网重要的不是网络本身，而是基于这些网络的应用服务。能从这些网络中得到哪些服务，这才是与我们的工作生活相关的。简单的说：服务才应该是物联网的关注点。本文介绍了物联网的概念，并从工业、农业、教育和生活等方面详细介绍了物联网的应用，并分析了物联网在中国的发展前景。 关键词：物联网；感知技术；服务 物联网是近两三年来非常热门的科技词汇之一，他的英文是：“The Internet of things”，简写成IOT。简单的说物联网就是物和物互联的网络，它利用并融合感知技术、识别技术、网络技术、通讯技术和云计算等技术，把控制器、传感器、人和物等连接起来，实现物和物，人与物的连接，最终得到智能化的网络，被广泛认为是信息产业的第三次革命。物联网是互联网发展的高级产物，它利用互联网以及互联网上的所有资源，继承了互联网上的所有应用，同时物联网保留了自身资源和设备的个性化和私有化。
1.物联网的应用领域 1.1物联网在工业中的应用 （1）制造业供应链管理物联网应用于原材料采购、销售和库存领域，通过完善并优化供应链的管理体系，从而提高效率，降低成本。 （2）生产过程工艺优化物联网技术能提高工业生产线上的过程检测、生产设备监控、材料消耗监测、实时参数采集的能力和水平，有助于生产过程智能监控、智能诊断、智能控制、智能维护、智能决策，从而改进生产过程，优化生产工艺，提高产品质量。 （3）安全生产管理把感应器或感知设备安装在矿工设备、矿山设备、油气管道等危险设备中，可以感知在危险环境中的设备机器、工作人员等方面的安全信息，将现有单一、分散、独立的网络监管平台提升为多元、系统、开放的综合监管平台，以实现快捷响应、实时感知、准确辨识和有效控制等。 （4）环保检测及能源管理环保设备融入物联网可以对工业生产过程产生的各类污染源及污染治理关键指标进行实时监控[1]。 1.2物联网在农业中的应用 （1）食品安全溯源系统加强农副产品从生产到销售到最终消费者整个流程的监管，降低食品安全隐患。通过安装电子芯片，物联网技术可以追溯芯片的编码查询产地、生产日期以及检验检疫情况。
光刻技术及其应用的状况和未来发展 光刻技术及其应用的状况和未来发展1 引言 光刻技术作为半导体及其相关产业发展和进步的关键技术之一，一方面在过去的几十年中发挥了重大作用；另一方面，随着光刻技术在应用中技术问题的增多、用户对应用本身需求的提高和光刻技术进步滞后于其他技术的进步凸显等等，寻找解决技术障碍的新方案、寻找COO更加低的技术和找到下一俩代可行的技术路径，去支持产业的进步也显得非常紧迫，备受人们的关注。就像ITRS对未来技术路径的修订一样，上世纪基本上3～5年修正一次，而进入本世纪后，基本上每年都有修正和新的版本出现，这充分说明了光刻技术的重要性和对产业进步的影响。如图1所示，是基于2005年ITRS对未来几种可能光刻技术方案的预测。也正是基于这一点，新一轮技术和市场的竞争正在如火如荼的展开，大量的研发和开发资金投入到了这场竞赛中。因此，正确把握光刻技术发展的主流十分重要，不仅可以节省时间和金钱，同时可以缩短和用户使用之间的周期、缩短开发投入的回报时间，因为光刻技术开发的投入比较庞大。 2 光刻技术的纷争及其应用状况 众说周知，电子产业发展的主流和不可阻挡的趋势是"轻、薄、短、小"，这给光刻技术提出的技术方向是不断提高其分辨率，即提高可以完成转印图形或者加工图形的最小间距或者宽度，以满足产业发展的需求；另一方面，光刻工艺在整个工艺过程中的多次性使得光刻技术的稳定性、可靠性和工艺成品率对产品的质量、良率和成本有着重要的影响，这也要求光刻技术在满足技术需求的前提下，具有较低的COO和COC。因此，光刻技术的纷争主要是厂家可以提供给用户什么样分辨率和产能的设备及其相关的技术。 以Photons为光源的光刻技术 2.1 以Photons为光源的光刻技术 在光刻技术的研究和开发中，以光子为基础的光刻技术种类很多，但产业化前景较好的主要是紫外(UV)光刻技术、深紫外(DUV)光刻技术、极紫外(EUV)光刻技术和X射线(X-ray)光刻技术。不但取得了很大成就，而且是目前产业中使用最多的技术，特别是前两种技术，在半导体工业的进步中，起到了重要作用。 紫外光刻技术是以高压和超高压汞(Hg)或者汞-氙(Hg-Xe)弧灯在近紫外(350～450nm)的3条光强很强的光谱(g、h、i线)线，特别是波长为365nm的i线为光源，配合使用像离轴照明技术(OAI)、移相掩模技术(PSM)、光学接近矫正技术(OPC)等等，可为0.35～0.25μm的大生产提供成熟的技术支持和设备保障，在目前任何一家FAB中，此类设备和技术会占整个光刻技术至少50％的份额；同时，还覆盖了低端和特殊领域对光刻技术的要求。光学系统的结构方面，有全反射式(Catoptrics)投影光学系统、折反射式(Catadioptrics)系统和折射式(Dioptrics)系统等，如图2所示。主要供应商是众所周知的ASML、NIKON、CANON、ULTRATECH 和SUSS MICROTECH等等。系统的类型方面，ASML以提供前工程的l:4步进扫描系统为主，分辨率覆盖0.5～0.25μm：NIKON以提供前工程的1：5步进重复系统和LCD的1：1步进重复系统为主，分辨率覆盖0.8～0.35μm和2～0.8μm；CANON以提供前工程的1：4步进重复系统和LCD的1：1步进重复系统为主，分辨率也覆盖0.8～0.35μm和1～0.8μm；ULTRATECH以提供低端前工程的1：5步进重复系统和特殊用途(先进封装／MEMS／，薄膜磁头等等)的1：1步进重复系统为主；而SUSS MICTOTECH以提供低端前工程的l：1接触／接近式系统和特殊用途(先进封装／MEMS／HDI等等)的1：1接触／接近式系为主。另外，在这个领域的系统供应商还有USHlO、TAMARACK和EV Group等。 深紫外技术
氟硼酸深部酸化解堵工艺技术 1、概述： 氟硼酸，无色液体，有强烈的腐蚀性。工业氟硼酸浓度一般为50％，密度1.43g/cm3。氟硼酸在地层条件下可缓慢水解产生氢氟酸，由于其氢氟酸是缓慢产生且边消耗边产生，故其与地层堵塞物或矿物的反应速度较之常规土酸要慢得多，因而可对地层起到深部酸化作用。 2、技术特点： 氟硼酸溶液进入地层后，可缓慢水解产生HF，在地层深部起反应，溶蚀地层粘土和其它硅质成分，从而实现对地层的深部酸化处理。此外，氟硼酸还可以使未溶蚀的地层粘土微粒产生化学熔化作用，原地胶结粘土微粒，使得处理后因流量加大而引起的微粒运移受到限制。试验还表明，用氟硼酸处理过的地层岩心，其地层敏感性大幅下降，证明氟硼酸还具有抑制地层粘土膨胀的能力。 3、选井条件： 在具有可靠的试井资料时，应以试井资料为准进行选井选层工作。若无试井资料，可以从以下几个方面考虑： 1）、要求油井早期有过高产史； 2）、地层压力变化不大，最大地层压降不大于5Mpa； 3）、在上述条件下目前油井产量降低较多； 4）、要求油井含水不大于50％，越低越好； 5）、地层温度不大于80℃，地层厚度小于20m。 XK防砂解堵新工艺 1、概述： KL防砂解堵是一种集防砂与解堵为一体的新工艺，它解决了以往防砂过程中出现堵塞、解读过程中出现的矛盾，使二者有机的统一在一起，即解堵又防砂。
其主要精髓：远解返推、远吸近聚、建场建网、场网挡砂；精选药剂、优化配方，先浓后淡、防膨为主线；酸化不排液，防砂不填砂，防砂中包含解堵，解堵中又包含防砂。 2、防砂解堵机理： XK解堵防砂是将三种不同浓度不同用量的解堵防砂工作液，按顺序一次施工泵人，首先可将井筒附近2.5m半径范围内的泥质、钙质、胶质、有力悬浮砂和绿色粘糊污物溶蚀清除掉，使其成为渗透性好的干净砂柱体；进入油层深处的解堵防砂工作液可改变岩石表面的电性，形成有吸附能力的正电位和高分子吸附网，那些在近井地带为被溶蚀掉的砂粒、脏物被返推到油层深部，它与生产过程中从远处运移来的游离砂，都在这个地带被吸附拦住，在半径为2.5－3.5 m 之间建起一个挡砂带，起到良好的稳砂和防砂的综合作用。三种不同浓度工作液最终形成解堵防砂的综合作用。 XK防砂解堵工艺，创造性的提出“远解返推、远吸近聚”新理论,研制出I#、II#、III#解堵防砂工作液，按顺序可一次施工泵人，并能够同时解除油层严重污染堵塞、防止非胶结砂岩大量出砂，达到用一种工作液、一种工艺施工，同时起到防砂和解堵的双重作用。使原来常用的先涂料防砂或机械防砂后，再酸化解堵的繁琐工艺合二为一。既大大缩短了防砂解堵周期，又不产生任何不良作用。施工工艺配套、实用、成本低、效果好、经济效益高。 3、技术特点： 1）、现场施工工序简便实用，不需要象常规防砂那样进行管外、管内充填； 2）、也不需要象普通酸化施工那样进行大量及时排残酸，而是按设计顺序注入I－III#工作液后关井平衡地层就可同时达到解堵防砂的双重量目的。这是因为大量不同作用的高压低温化学液体快速流入地层，打乱了原始地层的液体，温度、压力电流，地层结构，特别是由可运移的固相等各种平衡，而要达到我们预想的远接返推、远吸近聚、吸附、建网，解堵防砂的目的，必须有足够的时间来建立和达到一个新平衡，而这种新平衡的需要既稳固了油层又省去了一般酸化所要求的排液过程。 4、应用范围及选井条件： 1）、泥质含量高（10％－45％），水敏、盐敏、速敏、碱敏性强，污染堵塞严重的砂岩油层； 2）、细泵粉细砂岩胶结疏松，出沙严重的油井； 3）、油井含水在70％以下效果最佳；
光电技术应用及发展前景 43年前，世界上第一台红宝石激光器诞生。那是的人们可能还没有意识到，由这台激光器引发、孕育出的光电技术将会给人类的生活带来翻天覆地的变化。随着光电子技术的发展，当今社会正在从工业社会向信息社会过渡，国民经济和人们生活对信息的需求和依赖急剧增长，不仅要求信息的时效好、数量大，并且要求质量高、成本低。在这个社会大变革时期，光电子技术已经渗透到国民经济的每个方面，成为信息社会的支柱技术之一。总之，光电子技术具有许多优异的性能特征，这使得它具有很大的实用价值。而今天，光电子产业已经成为了21世纪的主导产业之一，光电子产业的参天大树上也结出了丰富的果实，它们包括但不限于光通信、光显示、光存储、影像、光信号、太阳能电池等，也可以简单地把现在的光电子产业分为信息光电子（光纤光缆、光通讯设备等）、能量光电子（激光器、激光加工成套设备、测控仪表、激光医疗设备等）和娱乐光电子（VCD、DVD等）等方面。而本文将介绍光电子技术在以下几个领域的应用前景： 光通信： 目前，光通信网络行业进入高速发展期，以光纤为技术基础的网络通信现在已经覆盖了许多地区，我国的光通信技术也走在世界前沿。2011年，武汉邮科院在北京宣布完成“单光源1-Tbit/s LDPC 码相干光OFDM 1040公里传输技术与系统实验”，这一传输速率是目前国内商用最快速率（40Gb/s）的25倍。十年发展，光通信商用水平的最高单通道速率增长16倍，最大传输容量增长160倍。2005年，邮科院实现了全球率先实现在一对光纤上4000万对人同时双向通话。2011年7月29日，该院在全球率先实现一根光纤承载30.7Tb/s信号的传输，可供5亿人同时在一根光纤上通话，再次刷新了世界纪录。而正在研制中的科技开发项目，有望在2014年实现12.5亿对人同时通话。这一技术打破了美国在该领域保持的单光源传输世界纪录。在2012年的中国光博会上，新技术新产品层出不穷。随着“宽带中国”上升为国家战略，中国得天独厚的优势将使光通信制造企业信心十足。通过对各技术分支专利的分析看出，光传输物理层PHY和光核心网OCN已相对成熟和大规模商用，PHY作为各类网络传输技术的基础，既有相对成熟、淡出主流研究视野的部分，也有业界正致力于寻求最佳方案的技术点；无光源网络PON技术作为世界普遍应用的接入网技术，在“光纤到户”、“三网融合”等概念家喻户晓的今天，已成为各国基础设施建设投资中不可或缺的一部分；分组传输网PTN既是新兴技术，又得到了相对广泛的商用，其在移动回传中的应用使其成为下一代移动通信网络建设中的一种较优的可选方案，同时相应技术标准正在争议中发展，其技术发展将带来难以估量的商机；智能交换光网络ASON技术和全光网AON技术是光通信网络技术中的前沿技术，目前处于研发的活跃期。 此外，复旦大学近期研发的可见光通讯技术也是光通信的发展前景之一，通过给普通的LED 灯泡加装微芯片，使灯泡以极快的速度闪烁，就可以利用灯泡发送数据。而灯泡的闪烁频率达到每秒数百万次。通过这种方式，LED灯泡可以快速传输二进制编码。但对裸眼来说，这样的闪烁是不可见的，只有光敏接收器才能探测。这类似于通过火炬发送莫尔斯码，但速度更快，并使用了计算机能理解的字母表。使用标准的LED照明灯，哈斯与他的同事戈登·波维创建的研究小组已经达到了两米距离的130兆比特每秒的传输速度。随着白炽灯、荧光灯逐渐退出市场并被LED取代，未来任何有光的地方都可以成为潜在的LiFi数据传输源。想象一下这样的场景：在街头，利用路灯就可以下载电影；在家里，打开台灯就可以下载歌曲；在餐厅，坐在有[4]灯光的地方就可以发微博；即便是在水下，只要有灯光照射就可以上网。LiFi另一个巨大的好处是在任何对无线电敏感的场合都可以使用，比如飞机上、手术室里等。光显示：
射电天文及太赫兹技术的应用与发展 目录： 1. 射电天文学的介绍； 2. 太赫兹波段的特点； 3. 太赫兹科学技术与应用发展； 4. 高度灵敏探测技术和超导技术的发展； 5. SMA及ALMA计划，后端频谱处理技术，南极天文台太赫兹望远镜计划介绍。 摘要：射电天文学理论认为由于地球大气的阻拦，从天体来的无线电波只有波长约1毫米到30米左右的才能到达地面，绝大部分的射电天文研究都是在这个波段内进行的。射电天文学以无线电接收技术为观测手段，观测的对象遍及所有天体：从近处的太阳系天体到银河系中的各种对象，直到极其遥远的银河系以外的目标。在宇宙中，大量的物质在发出THz电磁波。炭（C）、水（H2O）、一氧化碳（CO）、氮 （N2）、氧（O2）等大量的分子可以在THz频段进行探测。而这些物质在应用THz 技术以前一部分根本无法探测而另一部分只能在海拔很高或者月球表面才可以探测到。 关键词：射电天文太赫兹超导 正文： 一：射电天文： 对于研究射电天体来说，测到它的无线电波只是一个最基本的要求。人们还可以应用颇为简单的原理，制造出射电频谱仪和射电偏振计，用以测量天体的射电频谱和偏振。研究射电天体的进一步的要求是精测它的位置和描绘它的图像。一般说来，只有把射电天体的位置测准到几角秒，才能够较好地在光学照片上认出它所对应的天体，从而深入了解它的性质。为此，就必须把射电望远镜造得很大，比如说，大到好几公里。这必然会带来机械制造上很大的困难。因此，人们曾认为射电天文在测位和成像上难以与光学天文相比。可是，五十年代以后，射电望远镜的发展，特别是射电干涉仪（由两面射电望远镜放在一定距离上组成的系统）的发展，使测量射电天体位置的精度稳步提高。五十年代到六十年代前期，在英国剑桥，利用许多具射电干涉仪构成了“综合孔径”，系统，并且用这种系统首次有效地描绘了天体的精细射电图像。接着，荷兰、美国、澳大利亚等国也相继发展了这种设备。到七十年代后期，工作在短厘米波段的综合孔径系统所取得的天体射电图像细节精度已达2″，可与地面上的光学望远镜拍摄的照片媲美。射电干涉仪的应用还导致了六十年代末甚长基线干涉仪的发明。这种干涉仪的两面射电望远镜之间，距离长达几千公里，乃至上万公里。用它测量射电天体的位置，已能达到千分之几角秒的精度。七十年代中，在美国完成了多具甚长基线干涉仪的组合观测，不断取得重要的结果。
第二课《信息技术及发展趋势》 一、教材及学情分析 信息技术对信息的获取、加工、表达、发布、交流管理等的现代科学技术。初中主要学习信息科学常识和常用信息技术，学生对信息技术很感兴趣，但信息技术是什么不太明白，本节主要从总体上给学生认识信息技术。为以后学习具体的信息处理技术提供理论基础认识。 二、教学目标 ·知识目标 1.了解信息技术的发展历程和发展趋势 2.了解利用信息技术获取、加工、管理、表达与交流信息。 3.认识信息技术的重要作用与人类社会的关系。 4.激发学生了解、掌握并应用先进技术的热情。 ·技能目标 1.了解信息的发展有关知识。 2.利用网络查找有关信息知识。 3.了解信息的发展趋势 ·情感目标通过利用搜索查找信息发展、信息技术与其它科学，发展方向，让学生感受信息的重要性，体验信息时代发展快速的感受。培养同学们的团结、协作、相互交流的学习精神。 三、重点难点 重点：了解如何对信息进行获取、传递、处理的各种技术 难点：知道信息技术的发展历程(五次革命)。 四、教学准备 1.准备有关信息传输媒介的音像资料。 2.有条件的可用网络教室上网搜索有关知 识。 五、教学建议 建议课时：1课时。 六、教学方法： 任务驱动法、讲授知识、学生相互讨论、交流共同协作完成，教师辅导。 七、教学教程： （一）、温故互查 1．学生你们上过网吗？（同学们大部分回答上过？接着问下面的问题。） 2．你们知道上网是获取了什么？回答：概括起来各种信息 今天我们就一起来学习信息的发展和趋势的知识。 （二）、设问导读 你们是如何感受到信息？(设问导读，学生能说出信息的交流方式、媒介、形式) 在我们现实生活中，我们往往急要交流方便快捷，因此才有了电视，电话，手机。而现在我们可以在因特网上交流，突破了以往人们在信息交流中所受到的时空限制，极大的丰富了信息内容和表现形式。 对信息的获取、加工、存储、表达、管理、交流、发布等处理的信息技术，先后经历了5 次革命。 （三）、自我检测 (学生活动自我检测：分小组讨论完成下面的表格内的内容，特别对发生年代及科学家一栏提示上网查找或通过其它方法获取)
光刻技术新进展 刘泽文李志坚 一、引言 目前，集成电路已经从60年代的每个芯片上仅几十个器件发展到现在的每个芯片上可包含约10亿个器件，其增长过程遵从一个我们称之为摩尔定律的规律，即集成度每3年提高4倍。这一增长速度不仅导致了半导体市场在过去30年中以平均每年约15%的速度增长，而且对现代经济、国防和社会也产生了巨大的影响。集成电路之所以能飞速发展，光刻技术的支持起到了极为关键的作用。因为它直接决定了单个器件的物理尺寸。每个新一代集成电路的出现，总是以光刻所获得的线宽为主要技术标志。光刻技术的不断发展从三个方面为集成电路技术的进步提供了保证：其一是大面积均匀曝光，在同一块硅片上同时作出大量器件和芯片，保证了批量化的生产水平；其二是图形线宽不断缩小，使用权集成度不断提高，生产成本持续下降；其三，由于线宽的缩小，器件的运行速度越来越快，使用权集成电路的性能不断提高。随着集成度的提高，光刻技术所面临的困难也越来越多。 二、当前光刻技术的主要研究领域及进展 1999年初,0.18微米工艺的深紫外线(DUV)光刻机已相继投放市场,用于 1G位DRAM生产。根据当前的技术发展情况，光学光刻用于2003年前后的0.13微米将没有问题。而在2006年用到的0.1微米特征线宽则有可能是光学光刻的一个技术极限，被称为0.1微米难关。如何在光源、材料、物理方法等方面取得突破，攻克这一难关并为0.07，0.05微米工艺开辟道路是光刻技术和相应基础研究领域的共同课题。
在0.1微米之后用于替代光学光刻的所谓下一代光刻技术（ＮＧＬ）主要有极紫外、Ｘ射线、电子束的离子束光刻。由于光学光刻的不断突破，它们一直处于"候选者"的地位，并形成竞争态势。这些技术能否在生产中取得应用，取决于它们的技术成熟程度、设备成本、生产效率等。下面我们就各种光刻技术进展情况作进一步介绍。 1．光学光刻 光学光刻是通过光学系统以投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结 构图形"刻"在涂有光刻胶的硅片上，限制光刻所能获得的最小特征尺寸直接与光刻系统所能获得的分辨率直接相关，而减小光源的波长是提高分辨率的最有效途径。因此，开发新型短波长光源光刻机一直是国际上的研究热点。目前，商品化光刻机的光源波长已经从过去的汞灯光源紫外光波段进入到深紫外波段（DUV），如用于0.25微米技术的KrF准分子激光（波长为248纳米）和用于0.18微米技术的ArF准分子激光(波长为193纳米)。 除此之外，利用光的干涉特性，采用各种波前技术优化工艺参数也是提高光刻分辨率的重要手段。这些技术是运用电磁理论结合光刻实际对曝光成像进行深入的分析所取得的突破。其中有移相掩膜、离轴照明技术、邻近效应校正等。运用这些技术，可在目前的技术水平上获得更高分辨率的光刻图形。如1999年初Canon公司推出的FPA-1000ASI扫描步进机，该机的光源为193纳米ArF，通过采用波前技术，可在300毫米硅片上实现0.13微米光刻线宽。 光刻技术包括光刻机、掩模、光刻胶等一系列技术，涉及光、机、电、物理、化学、材料等多个研究领域。目前科学家正在探索更短波长的F2激光（波长为157纳米）光刻技术。由于大量的光吸收，获得用于光刻系统的新型光学及掩模衬底材料是该波段技术的主要困 难。
太赫兹技术及其在研究领域的应用 摘要：简要介绍了太赫兹技术的国内外发展状况，由于太赫兹波在电磁波谱中的特殊位置，其表现出优越的特性，太赫兹科学技术已成为本世纪最为重要的科技问题之一。通过对太赫兹基础研究领域的分析，阐明了太赫兹波的作用机理及相关器件的发展。太赫兹技术在成像、通讯、航空及生物医药等领域有着广阔的应用前景。随着技术理论的不断发展及成熟，太赫兹技术必将对国民经济和国家安全产生重大影响。 关键词：太赫兹；太赫兹技术；基础研究；太赫兹应用 Terahertz technology and its applications in research field Abstract：The development of Terahertz technology at home and abroad is briefly summarized, and the special position of THz wave in electromagnetic spectrum, it shows the superior characteristic. So Terahertz Science and technology has become one of the most important scientific and technological problems in this century. Through the analysis of the THz basic research field, the mechanism of THz wave and the development of the related devices are elucidated. THz technology has broad application in imaging, communications, aviation and biomedical and other fields. With the development of technology theory, THz technology will have a great impact on national economy and national security. Key words：Terahertz; Terahertz technology; basic research; Terahertz application 0 引言 随着现代科学技术的迅猛发展、各国之间科技竞争的加剧及社会信息化进程的不断加快，高新技术越来越成为各个国家之间竞争力水平的标志。太赫兹技术由于其一系列的优点及其广泛的应用价值成为世界各国研究机构关注的焦点，太赫兹技术也成为本世纪重大新兴科学技术领域之一[1]。太赫兹波是指频率范围为0.1~10.0THz的电磁波，波长范围为0.03~3.00mm，介于微波频段与红外之间，兼具二者的优点[2]（如图1所示）。它的长波段与毫米波(亚毫米波)相重合，其发主要依靠电子学科学技术；在短波段与红外线相重合，主要依靠光子学科技术发展，可见太赫兹波是宏观电子学向微观电子学过渡的频段，在电子波频谱中占有很特殊的位置，表现出一系列不同于其他电磁辐射的特殊性能。但长期以来由于缺乏有效的太赫兹辐射产生和检测方法，导致太赫兹频段的电磁波未得到充分的研究和应用，被称为电磁波谱中的“太赫兹空隙(THz gap)”。从过去二十多年前开始，随着太赫兹辐射源和太赫兹探测器的相继问世，太赫兹技术的研究和应用才有了较快发展，在医疗诊断、雷达通讯、物体成像、宽带移动通信、军事航空等领域显示了重大的科学价值及实用前景，与此同时，其他方面的工程应用潜力也受到关注。
物联网技术的 现状 与 发展语：随着经济的迅速发展和科学技术的日新月异，人们的生活也愈 加便利，有了智能手机、电脑、iphone 、ipad 等高科技产品。其中，最重要的且具有划时代意义的就是互联网的出现与应用了。互联网导、管路敷设技术通过管线敷设技术不仅可以解决吊顶层配置不规范高中资料试卷问题，而且可保障各类管路习题到位。在管路敷设过程中，要加强看护关于管路高中资料试卷连接管口处理高中资料试卷弯扁度固定盒位置保护层防腐跨接地线弯曲半径标高等，要求技术交底。管线敷设技术中包含线槽、管架等多项方式，为解决高中语文电气课件中管壁薄、接口不严等问题，合理利用管线敷设技术。线缆敷设原则：在分线盒处，当不同电压回路交叉时，应采用金属隔板进行隔开处理；同一线槽内，强电回路须同时切断习题电源，线缆敷设完毕，要进行检查和检测处理。、电气课件中调试对全部高中资料试卷电气设备，在安装过程中以及安装结束后进行高中资料试卷调整试验；通电检查所有设备高中资料试卷相互作用与相互关系，根据生产工艺高中资料试卷要求，对电气设备进行空载与带负荷下高中资料试卷调控试验；对设备进行调整使其在正常工况下与过度工作下都可以正常工作；对于继电保护进行整核对定值，审核与校对图纸，编写复杂设备与装置高中资料试卷调试方案，编写重要设备高中资料试卷试验方案以及系统启动方案；对整套启动过程中高中资料试卷电气设备进行调试工作并且进行过关运行高中资料试卷技术指导。对于调试过程中高中资料试卷技术问题，作为调试人员，需要在事前掌握图纸资料、设备制造厂家出具高中资料试卷试验报告与相关技术资料，并且了解现场设备高中资料试卷布置情况与有关高中资料试卷电气系统接线等情况，然后根据规范与规程规定，制定设备调试高中资料试卷方案。 、电气设备调试高中资料试卷技术电力保护装置调试技术，电力保护高中资料试卷配置技术是指机组在进行继电保护高中资料试卷总体配置时，需要在最大限度内来确保机组高中资料试卷安全，并且尽可能地缩小故障高中资料试卷破坏范围，或者对某些异常高中资料试卷工况进行自动处理，尤其要避免错误高中资料试卷保护装置动作，并且拒绝动作，来避免不必要高中资料试卷突然停机。因此，电力高中资料试卷保护装置调试技术，要求电力保护装置做到准确灵活。对于差动保护装置高中资料试卷调试技术是指发电机一变压器组在发生内部故障时，需要进行外部电源高中资料试卷切除从而采用高中资料试卷主要保护装置。
太赫兹技术发展展望 1 太赫兹波简介 1.1 太赫兹波发现 按传统的分类形式，电磁波分成无线电波、红外线、可见光、紫外线、α射线、γ射线等。随着对电磁波的深入研究，人们发现在电磁波谱中还有一个很特 殊的位置，如图 1.1所示。 这就是太赫兹波即THz波（太赫兹波）或称为THz射线（太赫兹射线），是从上个世纪80年代中后期，才被正式命名的，在此以前科学家们将统称为远 红外射线。太赫兹波是指频率在0.1THz到10THz范围的电磁波，波长大概在0.03到3mm范围，介于微波与红外之间。实际上，早在一百年前，就有科学工作者 涉及过这一波段。在1896年和1897年，Rubens和Nichols就涉及到这一波段，红外光谱到达9um（0.009mm）和20um（0.02mm），之后又有到达50um的记载。之后的近百年时间，远红外技术取得了许多成果，并且已经产业化。但是涉及太赫兹波段的研究结果和数据非常少，主要是受到有效太赫兹产生源和灵敏探测器 的限制，因此这一波段也被称为THz间隙。随着80年代一系列新技术、新材料的发展，特别是超快技术的发展，使得获得宽带稳定的脉冲THz源成为一种准常规技术，THz技术得以迅速发展，并在实际范围内掀起一股THz研究热潮。 1.2 太赫兹波的特点 目前，国际上对太赫兹辐射已达成如下共识，即太赫兹是一种新的、有很多
独特优点的辐射源；太赫兹技术是一个非常重要的交叉前沿领域，给技术创新、国民经济发展和国家安全提供了一个非常诱人的机遇。 （1）量子能量和黑体温度很低： Wave number Wavelength Frequency Energy Blackbody Temp. 1cm-110mm30GHz120μeV 1.5K 10cm-11mm300GHz 1.2meV15K 33cm-1300μm1THz 4.1meV48K 100cm-1100μm3THz12meV140K 200cm-150μm6THz25meV290K 670cm-115μm20THz83meV960K （2）许多生物大分子，如有机分子的振动和旋转频率都在THz波段，所以在THz波段表现出很强的吸收和谐振。 （3）THz辐射能以很小的衰减穿透物质如陶瓷、脂肪、碳板、布料、塑料等，因此可用其探测低浓度极化气体，适用于控制污染。THz辐射可无损穿透墙壁、布料，使得其能在某些特殊领域发挥作用。 （4）THz的时域频谱信噪比很高，这使得THz非常适用于成像应用 （5）带宽很宽（0.1—10T）Hz。 （6）很短的THz脉冲却有着非常宽的带宽和不同寻常的特点。 在我国未来的太空研究和探月计划中, THz波也可以提供包括星球表面特性和极区辐射特性的诸多重要信息。综上所述, THz科学不仅是科学技术发展中的重要基础问题,又是国家新一代信息产业、国家安全以及基础科学发展的重 大需求,对国民经济以及国防建设具有重大的意义。与此相适应,世界各国都对THz波的研究给予极大的关注,并部署了多个重大的国家级以及国际合作研究 计划,取得了一些突破性的成果,有些已具有实用价值。另一方面,国内在THz 研究的理论和实验方面也取得了一些重要成果,在国际上产生了一定的影响,为我国THz技术的研究和发展打下了扎实的基础。
物联网技术与应用论文 Revised as of 23 November 2020
一．引言 物联网的发展将彻底改变人们的生活方式，大大提高人们的生活质量和效率。物流关系着现代人生活的衣食住行，其发展关系着社会经济的方方面面。广泛推广和应用物联网技术，不仅可以完善和优化物流供应链管理体系，实现物流管理的合理化，而且在提高物流效率、降低物流成本、优化资源配置等方面具有积极的推动作用。为带动物流行业的全面发展，研究物联网技术在物流行业的应用势在必行。二．物联网以及国内外发展现状及存在问题 物联网的概念 物联网的概念起源于由RFID（射频识别）对所有物品进行标识并利用网络进行数据交换，进而实现智能识别和管理。经过不断扩充、延展、完善，现在人们普遍接受的物联网概念是指通过信息传感设备，运用射频识别、红外感应、全球定位系统、激光扫描等技术，按照约定的协议，把任何物品与互联网连接起来，进行信息交换和通讯，以实现智能化识别、定位、跟踪、监控和管理的一种网络。 国内外发展现状及存在问题 从国际上看，欧盟、美国、日本等国都十分重视物联网的工作，并且已作了大量研究开发和应用工作。如美国把它当成重振经济的法宝，所以非常重视物联网和互联网的发展，它的核心是利用信息通信技术(ICT)来改变美国未来产业发展模式和结构(金融、制造、消费和服务等)，改变政府、企业和人们的交互方式以提高效率、灵活性和响应速度。把ICT技术充分用到各行各业，把感应器嵌入到全球每个角落，例如电网、交通(铁路、公路、市内交通)等相关的物体上。并利用网络和设备收集的大量数据通过云计算、数据仓库和人工智能技术作出分析给出解决方案。把
未来信息技术的展望 就像其他教育技术的应用一样，信息技术在教育中的应用是由教育和学习发展的内部需求所驱动的，并由不同历史时期的学习理论导引着信息技术的应用方向和应用方式。而信息技术领域的每一项重大革新又会刺激教育系统产生新的应用需求并反作用于学习理论和教育实践的发展。信息技术在教育中应用的发展历程可以微机在教育中的应用和因特网的应用作为两个转折点，20世纪50年代至70年代末为计算机辅助教育的研究试验阶段，20世纪70年代末至90年代为计算机辅助教育的开发应用期，而20世纪90年代后期则揭开了网络时代信技术应用的序幕。 一、信息技术在教育中应用的发展简史 （一）计算机在教育领域的最早应用 1950，年美国麻省理工学院利用计算机驱动飞行模拟器来训练飞行员是计算机在教育领域的最早应用。 1959年，美国纽约城市小学利用IBM650计算机帮助小学习者学习二进制算法被认为是计算机在中小学教育领域的最早应用。 序教育运动。 （二）20世纪60年代末期到70年代，计算机辅助教育系统的开发和研究 1968年，第一台专门用于教育的计算机系统“IBM 1500辅助教育系统”在斯坦福大学研制成功，使用“课程开发器”编制课程，这些课程被称为课件或教育软件，课件和教育软件的概念即起源
于此。 20世纪60年代后期，美国数字设备公司的PDP-1（1960年研制成功）被应用于教育中，标志着小型机在教育中的首次应用。斯坦福大学的帕特里克素帕斯教授对IBM 1500和PDP-1在教育中的应用开展了广泛的研究和开发工作，被誉为计算机辅助教育研究的鼻祖之一。 （三）“柏拉图系统”（PLATO）——计算机技术与教育方式结合的最初尝试 1960年，美国伊利诺大学的唐贝泽和查莫斯谢文合作研制出第一代柏拉图系统（PLATO I）。 （四）微机进入中小学教育以及教师对计算机应用的推动 1977年，第一台微机进入中小学，教育中应用的计算机开始从大型机转向桌面 办公系统。20世纪80年代初，美国的明尼苏达教育计算机科学联盟得到自然科学基金的资助，开始大量生产和提供课件，其他教育软件公司也相继出现，出现了教育软件出版的高-潮。 （五）LOGO及问题解决运动 1968年，西蒙派珀特发明了LOGO编程语言，LOGO和问题解决运动开始。他陆续提出并发展了自己的建构主义观——“在制作中学习” （六）20世纪80-90年代的整合学习系统 20世纪80-90年代，在应用计算机开展教育的过程中，学校和教师认识到在提供计算机辅助教育方面，联网系统比单机效益更高。
注水井酸化解堵工艺技术 二00九年十一月
一、概况 随着油田注水开发不断深入进行，大量注水井都实施了多次作业，部分井由于作业时入井液污染或酸化后返排不彻底，对地层造成二次污染，近井地带岩石骨架受到一定的损害，随着注入水推进，堵塞污染也越来越深入地层，造成地层深部污染。对这类储层的污染，单纯采用常规酸化由于酸液反应速度快，在近井地带很快消耗，难以有效进入地层深部实施解堵，使降压效果不明显，绝大部分井措施有效期短，严重影响了地层能量的补充，制约了油田的正常开发。 我公司在多年试验和应用过程中不断探索完善，逐步形成了综合酸化解堵技术，在中原油田、吉林油田、吐哈油田、长庆油田等大中油田累计推广实施200余井次，取得了较好的现场效果。 二、主要酸化技术 在对砂岩应用土酸酸化，对碳酸盐应用常规盐酸酸化技术的前提下，研究推广了低伤害缓速深部酸化技术、泡沫酸酸化技术、缩膨降压增注技术、CLO2复合解堵技术等具有自身特色的解堵技术。根据不同油田地质、地层、水质、污染状况，研制了缓速酸、稠化酸、低伤害酸、高效缓蚀剂、预处理液、转向暂堵等酸化体系，复配使用可优势互补、相互增效，解堵效果明显。 （一）、砂岩低伤害缓速深部酸化技术 该技术是通过应用依靠水解作用在地下缓慢生成HF体系的氟硼酸体系或通过使酸液中活性离子逐渐释放及在地层表面产生吸附阻碍H+与砂岩接触等措施，延缓酸岩反应速度，实现深部酸化。 通过对该酸液体系的不断优化完善，其综合性能评价结果显示，该酸液体系具有较好的缓速性能，较高的溶蚀能力和防二次伤害能力，且与地层配伍性
好。低伤害缓速酸配方体系具有如下特点： 1、反应速度是常规盐酸的1/2-1/4。 2、可有效的控制酸化沉淀的发生，沉淀控制率在80%以上。 3、酸液活性好，是常规土酸活性的6－8倍。 4、自身粘土防膨效果好，防膨率可达80%以上（对比注水井）。 5、新型增效活性添加剂，可使酸液表面张力降至21×10-3N/m。 6、新型螯合剂1%的浓度可在残酸PH为6时螯合9.0g/L的Fe3+。 7、新型的缓蚀剂完全水溶，对地层的伤害小，防腐蚀效果明显，90℃条件下腐蚀速度为4.8g /m2.h。 （二）碳酸盐深穿透酸化技术 碳酸盐酸化减缓反应速度办法： 提高酸液流速；使用稠化盐酸；使用高浓度盐酸；使用多组分酸；大量使用预冲洗液，降低井底温度等综合技术，有效加大碳酸盐酸化处理半径，达到低伤害、深穿透的处理效果。 （三）泡沫酸酸化技术 开发出了适合高温、高矿化度和深井的泡沫酸解堵工艺配套技术。泡沫流体具有选择性、滤失量小、携带性能好、助排能力强及对地层伤害小等特征，多用于低压、漏失及水敏地层的钻井、完井、修井和油气井增产措施中。