2019年溅射靶材行业市场调研分析报告

磁控溅射靶材市场分析报告1.引言1.1 概述磁控溅射是一种常用的薄膜制备技术，广泛应用于电子、光伏、显示器件等领域。

磁控溅射靶材作为磁控溅射技术的核心材料，其市场需求与应用领域直接关联。

本报告旨在对磁控溅射靶材市场进行深入分析，评估其市场现状和发展趋势，为相关企业和投资者提供市场参考。

文章结构部分的内容可以按照以下方式编写："1.2 文章结构":本文将分为引言、正文和结论三个部分进行分析。

首先，在引言部分中，将概述磁控溅射靶材的概念和重要性，并说明本文的目的和结构。

接着，在正文部分，将详细介绍磁控溅射靶材的概述、市场现状分析和发展趋势。

最后，在结论部分，将对磁控溅射靶材市场的前景进行展望，分析竞争态势，并提出相关建议和展望。

通过这样的结构安排，读者可以清晰地了解本文的组织结构和分析内容。

1.3 目的：本报告旨在对磁控溅射靶材市场进行深入分析，以全面了解当前市场现状和发展趋势。

通过对市场的概述、现状分析和发展趋势进行研究，旨在为相关企业提供市场前景展望、竞争态势分析和相关建议，以期能够为行业发展提供有益的参考和指导。

同时，本报告也希望能够为行业内外的相关人士提供了解磁控溅射靶材市场的重要信息，促进行业的良性发展和合作。

1.4 总结总结部分在本文中，我们对磁控溅射靶材市场进行了全面的分析和报道。

通过对磁控溅射靶材的概述，市场现状分析以及市场发展趋势的分析，我们了解到磁控溅射靶材市场具有很大的发展潜力，市场需求持续增长，技术创新和材料品质的提高将成为市场竞争的关键因素。

在结论部分，我们对磁控溅射靶材市场前景展望进行了深入探讨，并对竞争态势进行了分析。

我们还提出了一些建议，包括加强技术研发、提高产品品质和拓展市场渠道等方面的建议，以促进行业健康发展。

综上所述，磁控溅射靶材市场具有广阔的市场前景和发展空间，但也面临着一些挑战和竞争。

我们希望本报告能为相关企业和机构提供参考，促进磁控溅射靶材市场的持续健康发展。

中国ITO靶材市场现状与发展趋势分析一、ITO靶材行业概况ITO（氧化铟锡）靶材是溅射靶材中陶瓷靶材（化合物靶材）的一种，在显示靶材中占比将近50%。

ITO靶材就是将氧化铟和氧化锡粉末按一定比例混合后经过一系列的生产工艺加工成型，再高温气氛烧结（1600度，通氧气烧结）形成的黑灰色陶瓷半导体。

ITO靶材有中低端和高端之分：中低端ITO靶材有玻璃镀膜靶材、发热膜和热反射膜靶材，包括汽车的显示屏、一些仪器仪表的显示。

高端ITO靶材主要用于显示器薄膜靶材、集成电路薄膜靶材以及磁记录和光记录膜靶材，尤其用于大面积、大规格的LED、OLED等领域，具备高密度、高纯度、高均匀性等特点。

ITO靶材分类ITO靶材可应用于以下领域：（1）平板显示器（FPD）产业，如薄膜晶体管显示器（TFT-LCD）、液晶显示器（LCD）、高触摸屏（TouchPanel）、等离子管显示器（PDP）、有机电致发光显示（OLED）等；（2）光伏产业，如薄膜太阳能电池；功能性玻璃，如红外线反射玻璃、抗紫外线玻璃如幕墙玻璃、飞机、汽车上的防雾挡风玻璃、光罩和玻璃型磁盘等。

其中，平板显示器及太阳能电池是其主要应用领域。

ITO靶材下游应用领域二、ITO靶材行业相关政策2011年6月，国家发改委、科技部、工信部、商务部、知识产权局《当前优先发展的高技术产业化重点领域指南（2011年度）》，提出要重点发展“TFT-LCD用靶材”；2012年2月，工信部发布的《新材料产业“十二五”发展规划》将ITO靶材、平板显示玻璃（TFT/PDP/OLED）列为发展重点；2013年2月，发改委将“新型显示器件及其关键件”列为《产业结构调整指导目录》鼓励类项目；2017年6月，工信部发布《重点新材料首批次应用示范指导目录（2017年版）》，提出了平板显示用ITO 靶材、平板显示用高纯钼靶材等重点新材料的应用领域。

伴随ITO技术和产能突破瓶颈，国产ITO靶材凭借成本和性价比优势将逐步占领市场。

万联证券证券研究报告|有色金属国内需求高增、国产替代加速，蓄势待发强于大市（维持）——有色行业专题系列研究之——靶材日期：2021年01月22日[Table_Summary] 行业核心观点：有色行业涉及的金属品种及代表性的金属材料众多，产业链涵盖资源开发、冶炼和加工各个环节，产品广泛用于工业、新能源、电子、军工各个领域，周期各有差异、结构多点开花,且当前处于新一轮景气上行周期，完全具备乘时乘势基础。

系列专题着力能源金属及相关金属材料，本篇聚焦靶材，望有助于诸君！投资要点：⚫ 高纯金属制备，镀膜实现导电或阻挡功能：靶材是制备功能薄膜的原材料，以99.95%以上高纯金属为原料制备，用于面板、半导体、光伏和磁记录媒体等领域，实现导电或阻挡等功能。

其中，半导体领域对纯度和技艺要求最高，5N5以上。

靶材种类繁多，客户需求非标，定制属性明显。

当前趋势是高溅射率、晶粒晶向控制、大尺寸、以及高纯金属。

⚫ 中期较高增长、当前景气上行，国产替代加速：需求端，我们测算，国内靶材市场到2023年接近300亿元，面板和半导体领域受益于全球消费增长和中国份额提升，市场分别达200/50亿元量级，光伏领域则随着HJT 电池降本应用潜在需求可期，3年总需求CAGR 达9.7%较快增长；就目前而言，面板和半导体行业景气度周期上行，在线办公+5G+传统汽车消费复苏等因素持续发力，这一趋势预计未来1-2年可维持，目前相关靶材企业开工率接近满产。

供给端，全球市场依然由霍尼韦尔等企业寡占，但国内企业已经打通半导体靶材国产替代技术基础，有研新材、江丰电子进入全球主流芯片代工企业；国内四五家面板靶材企业进入京东方，国产替代整体从1到N 呈加速态势。

⚫ 国内公司着力面板和半导体领域，纵横向皆有拓展：江丰电子业务领域涉及半导体和平板显示，投资加码市场最大平板显示领域，对高纯金属原料也有拓展；阿石创靶材以平板显示用为主，亦在投资加码显示靶材；有研新材作为国有企业，专注半导体靶材及高纯金属原料，着力攻克国产替代技术难题；隆华科技靶材业务来自收购，目前用于平板显示领域。

常见磁控溅射靶材利用率及其计算方法的探讨
赵嘉学;金凡亚
【期刊名称】《核聚变与等离子体物理》
【年(卷),期】2007(027)001
【摘要】探讨了矩形平面、圆形平面和圆柱管这三种常见磁控溅射源的靶材极限利用率的理论计算方法,推出了利用率的近似计算公式,分析了影响利用率的因素.跑道刻蚀形状(宽度和收缩系数)强烈影响平面类静态靶的极限利用率.旋转磁场圆柱管靶材的极限利用率主要决定于靶的自身几何尺寸(壁厚、长度和管径),与跑道的刻蚀形状(即外界的物理因素)几乎没有关系.
【总页数】7页(P66-72)
【作者】赵嘉学;金凡亚
【作者单位】核工业西南物理研究院,成都,610041;核工业西南物理研究院,成都,610041
【正文语种】中文
【中图分类】TB79
【相关文献】
1.对仓容利用率定额的看法和仓容利用率计算方法的探讨 [J], 曹顺
2.区域供冷供热系统可再生能源利用率计算方法探讨 [J], 张华玲;徐文慧
3.ISO 21106-2019《铁路车辆可再利用率和回收利用率计算方法》探讨 [J], 寇怀江;刘书娟
4.高靶材利用率的新型磁控溅射器 [J], 黄士勇;曲凤钦;苗晔;孟兆坤
5.提高DC平面磁控溅射中靶材利用率的新方法 [J], 周勇
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面板靶材市场：受益于未来我国面板产业的全球化步伐1、我国面板靶材2025年有望达到320亿市场规模面板显示领域，核心靶材为金属钼靶材以及ITO靶材。

平板显示器主要在显示面板和触控屏面板两个产品生产环节使用溅射靶材，使用到的靶材主要品种有：钼靶、铝靶、铝合金靶、铬靶、铜靶、铜合金靶、硅靶、钛靶、铌靶和氧化铟锡（ITO）靶材等，其中以金属钼靶材、ITO靶材为主。

表：不同材质靶材在平板显示的应用材质应用ITO（In2O3SnO2）透明导电膜IGZO（铟镓锌氧）新一代薄膜晶体管技术中的沟道层材料M o（钼），W（钨），Cr（铬），Ta，Ti，Al，A lT i，电极布线膜AlTaZnSMn，ZnSTb，CaSEu 电致发光薄膜Y2O3，Ta2O5，BaTiO3 电致发光薄膜平板显示用高纯钼靶材、ITO靶材被定位我国核心战略新材料。

溅射靶材行业为我国重点扶持的战略性新兴产业，近年来国家出台了一系列产业政策引导溅射靶材工业健康稳定发展。

2017年6月，工信部发布《重点新材料首批次应用示范指导目录（2017年版）》，提出平板显示用ITO靶材、平板显示用高纯钼靶材等重点新材料的应用领域。

受益于国内面板产业全球市占率的不断提升，国内靶材市场有望维持快速增长。

当前面板显示领域的主要技术，主要为TFT-LCD和OLED两种。

LCD占据着市场的主要份额，OLED的占比未来有望得到持续提升。

根据IHS数据预测，未来2022年至2025年LCD面板产能将有10%左右增幅。

我国面板产业为未来全球面板产业发展的主要动力，京东方、华星光电、惠科股份等高世代线相继上线，国内LCD面板市场占有率有望由当前的57%增至2025年的75%。

因此，国内面板靶材市场有望充分受益，2025年国内靶材市场规模有望达到320亿元。

图：国内面板显示领域靶材总体市场规模及全球占比面板靶材供应商至少需要下游客户2-3年的认证过程，具备极高的客户认证壁垒。

高纯度铜溅射靶材生产建设项目可行性研究报告编制单位：北京中投信德国际信息咨询有限公司工程师：高建高纯度铜溅射靶材生产建设项目可行性研究报告核心提示：高纯度铜溅射靶材项目投资环境分析，高纯度铜溅射靶材项目背景和发展概况，高纯度铜溅射靶材项目建设的必要性，高纯度铜溅射靶材行业竞争格局分析，高纯度铜溅射靶材行业财务指标分析参考，高纯度铜溅射靶材行业市场分析与建设规模，高纯度铜溅射靶材项目建设条件与选址方案，高纯度铜溅射靶材项目不确定性及风险分析，高纯度铜溅射靶材行业发展趋势分析专业编写：高纯度铜溅射靶材项目建议书高纯度铜溅射靶材项目申请报告高纯度铜溅射靶材项目环评报告高纯度铜溅射靶材项目商业计划书高纯度铜溅射靶材项目资金申请报告高纯度铜溅射靶材项目节能评估报告高纯度铜溅射靶材项目规划设计咨询高纯度铜溅射靶材项目可行性研究报告【主要用途】发改委立项，政府批地，融资，贷款，申请国家补助资金等【关键词】高纯度铜溅射靶材项目可行性研究报告、申请报告【交付方式】特快专递、E-mail【交付时间】3-5个工作日【报告格式】Word格式；PDF格式【报告订制】客户通过第三方(百度文库平台)，担保下单，可安心订制，下单后，我公司研究员会给您电话沟通。

【报告说明】本报告是针对项目投资可行性研究咨询服务的专项研究报告，此报告为个性化定制服务报告，我们将根据不同类型及不同行业的项目提出的具体要求，修订报告目录，并在此目录的基础上重新完善行业数据及分析内容，为企业项目立项、上马、融资提供全程指引服务。

可行性研究报告是在制定某一建设或科研项目之前，对该项目实施的可能性、有效性、技术方案及技术政策进行具体、深入、细致的技术论证和经济评价，以求确定一个在技术上合理、经济上合算的最优方案和最佳时机而写的书面报告。

可行性研究报告主要内容是要求以全面、系统的分析为主要方法，经济效益为核心，围绕影响项目的各种因素，运用大量的数据资料论证拟建项目是否可行。