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简述AA0工艺及其优缺点一、概念A2/O工艺（AAO工艺、AAO法），是英文Anaerobic-Anoxic-Oxic第一个字母的简称（厌氧-缺氧-好氧），是一种常用的生化污水处理工艺，具有同步脱氮除磷的作用，多用于二级污水处理，也可用于三级污水处理，后续增加深度处理（如砂滤、RO、混床等）后，产水可作为中水回用。
该法是20世纪70年代，由美国的一些专家在AO法脱氮工艺基础上开发的。
二、简介1、厌氧段（DO<0.2mg/L）：原污水与从沉淀池排出的含磷回流污泥同步进入，在配水槽内完成混合，经一定时间（1~2h）的厌氧分解，回流污泥中的聚磷微生物（聚磷菌等）释放出磷，满足细菌对磷的需求，同时去除部分BOD，部分有机物进行氨化；（1）氨化作用（ammonification）又叫脱氨作用，微生物分解有机氮化物产生氨的过程。
很多细菌、真菌和放线菌都能分泌蛋白酶，在细胞外将蛋白质分解为多肽、氨基酸和氨（NH3）。
其中分解能力强并释放出NH3的微生物称为氨化微生物。
氨化微生物在有氧（O2）或无氧条件下，均可分解蛋白质和各种含氮有机物，分解作用较强的主要是细菌。
2、缺氧段（DO≤0.5mg/L）：前端污水流入缺氧池，池中的反硝化细菌以污水中未分解的含碳有机物为碳源，将好氧池内通过内循环（流量一般为2倍的原污水流量）回流进来的硝酸根还原为N2而释放。
（1）还原反应，放热，在无氧或缺氧条件下进行。
①硝酸盐（NO3－）还原为亚硝酸盐（NO2－）NO3－+ 4 H+ + 4 e－→ 2 NO2－+ 2 H2O②亚硝酸盐（NO2－）还原为一氧化氮（NO）：2 NO2－+ 4 H+ + 2 e－→ 2 NO + 2 H2O③一氧化氮（NO）还原为一氧化二氮（N2O）：2 NO + 2 H+ + 2 e－→ N2O + H2O④一氧化二氮（N2O）还原为氮气（N2）：N2O + 2 H+ + 2 e－→ N2 + H2O（2）大部分反硝化细菌是异养菌，例如脱氮小球菌、反硝化假单胞菌等，它们以有机物为氮源和能源，进行无氧呼吸。
改良型aao工艺原理改良型AAO工艺原理AAO（Anodic Aluminum Oxide）工艺是一种通过阳极氧化铝制备纳米结构的方法。
该工艺可以在铝材表面形成规则的纳米孔阵列，这些孔道具有高度有序性、高密度和可调控的特点，因此在许多领域具有广泛的应用前景，例如电子器件、光学器件和能源储存等。
然而，传统的AAO工艺存在一些局限性，如制备过程复杂、时间长、设备成本高等问题。
为了克服这些问题，研究人员进行了改良型AAO工艺的研究和开发。
改良型AAO工艺在保持原有工艺优点的基础上，增加了新的功能和改进。
下面将从四个方面介绍改良型AAO 工艺的原理和应用。
一、改良型AAO工艺的原理改良型AAO工艺的核心原理是通过调控阳极氧化过程中的电流密度和电解液成分，控制铝材表面氧化速率和孔洞形貌。
传统AAO工艺中，电流密度是均匀分布的，而改良型AAO工艺通过改变电极结构或施加外加电场，使得电流密度在铝表面分布不均匀，从而在制备过程中形成不同形状和尺寸的孔洞。
二、改良型AAO工艺的功能和应用1. 超疏水表面制备改良型AAO工艺可以制备出具有超疏水性能的表面，这种表面具有高度有序的纳米结构，可在其上形成微纳米级别的特殊几何形貌和化学成分，使其具有独特的润湿性能。
这种超疏水表面可以应用于自洁涂层、防污涂层和抗腐蚀涂层等领域。
2. 柔性电子器件制备改良型AAO工艺可以制备出具有高度有序孔洞结构的柔性基底，这些孔洞可以用于制备柔性电子器件，如柔性晶体管、柔性太阳能电池和柔性传感器等。
这些柔性器件可以应用于可穿戴设备、柔性显示和柔性电子皮肤等领域。
3. 纳米阵列模板制备改良型AAO工艺可以制备出具有高度有序孔洞结构的铝基底，并通过将其他材料填充到孔洞中，制备出具有特殊功能的纳米阵列模板。
这些模板可以用于制备纳米线、纳米颗粒和纳米结构等，广泛应用于纳米电子学、纳米光学和纳米生物学等领域。
4. 能源存储材料制备改良型AAO工艺可以制备出具有高比表面积和孔隙度的纳米结构材料，这些材料可以用于制备超级电容器、锂离子电池和储氢材料等能源存储器件。
aao工艺说明好的呀，那咱就开始说说这个Aao工艺吧。
Aao工艺呢，其实是一种特别有趣的工艺哦。
它有好多独特的地方呢。
一、Aao工艺的基本原理。
这工艺啊，就像是一场精心编排的小舞蹈。
它主要是通过不同的处理步骤来达到特定的目的。
比如说，它有好几个不同的反应区域。
在这些区域里呢，各种物质就像小演员一样，各自发挥着自己的作用。
污水或者其他需要处理的物质进入到这个工艺系统里，就开始了它们的奇妙之旅。
这里面有微生物的参与哦，这些微生物就像是小小的魔法师。
它们能够分解那些不好的东西，把它们转化成其他相对无害的物质。
而且这个工艺很巧妙的一点是，它能够按照一定的顺序，逐步地对物质进行处理，就像我们做事情一步一步来一样。
二、Aao工艺的设备构成。
Aao工艺的设备也是很有讲究的呢。
首先就是那些反应池啦，反应池就像是一个个小房间，不同的反应在不同的房间里进行。
反应池的大小啊、形状啊都是根据实际的需求来设计的。
然后就是那些管道系统，管道就像是连接各个小房间的小走廊，让物质能够顺利地在各个反应池之间流动。
还有一些搅拌设备，这些搅拌设备就像是小厨师手里的搅拌棒，把反应池里的物质搅拌均匀，这样微生物就能更好地和需要处理的物质接触啦。
另外，还有一些监测设备呢，这些监测设备就像是小卫士，时刻盯着工艺过程中的各种参数，比如温度、酸碱度之类的，一旦有什么不对劲，就能及时发现。
三、Aao工艺的优点。
这个工艺的优点可多啦。
其一呢，它的处理效果特别好。
就像一个超级清洁小能手，能够把污水或者其他物质处理得很干净。
很多时候，经过Aao工艺处理后的水，能够达到很高的标准，可以重新利用呢，这对于水资源的节约可太重要了。
其二，它比较稳定。
不像有些工艺，动不动就出点小毛病。
Aao工艺就像是一个稳重的老大哥，一直稳稳地运行着。
而且它还很灵活哦，可以根据不同的处理要求进行调整。
比如说，如果要处理的物质成分有点变化，我们可以对工艺的一些参数进行调整，它就能很好地适应啦。
AAO及SBR工艺流程AAO（Anodic Aluminum Oxide）工艺是一种以铝为原材料，在适当的电解液中通过阳极氧化制备铝基多孔陶瓷材料的方法。
具体步骤如下：1. 准备铝基材料：首先，需要准备一定尺寸的铝基材料，例如铝板或铝箔。
2. 清洗处理：将铝基材料进行清洗处理，去除表面的杂质和油污，确保表面干净。
3. 阳极氧化：将清洁的铝基材料作为阳极，在适当的电解液中进行电解，利用外加电流，通过阳极氧化生成铝氧化物层。
4. 形成多孔结构：通过控制电解条件和时间，可以在铝氧化物层上形成均匀的多孔结构。
5. 清洗和处理：将产生的多孔铝氧化物材料进行清洗处理，去除电解液和杂质。
6. 进一步处理：根据需要，可以对多孔铝氧化物材料进行进一步处理，例如染色、涂层或热处理，以改变其表面性质或增强其特定功能。
SBR（sequential batch reactor）工艺是一种生物处理废水的方法，采用逐批进行的生化反应和沉淀过程来去除水中的有机物和氮、磷等污染物。
具体步骤如下：1. 进水和初次混匀：将废水引入SBR反应器中，与生物污泥混合，并进行适当的搅拌和混匀。
2. 生化反应：在适当的条件下，例如温度和氧气供应，生物污泥将对水中的有机物进行降解和转化，释放出可溶性的氮、磷等化合物。
3. 污泥沉淀：在SBR反应器中停留一段时间，使污泥沉降到底部，水质上清。
4. 除水：将上清液排出，以去除已沉积的污泥和已处理的水。
5. 污泥处理：对沉淀于SBR反应器底部的污泥进行处理，例如浓缩、干燥或焚烧，以减少污泥体积和对环境的影响。
以上就是AAO及SBR工艺的基本流程，这两种工艺分别用于制备多孔陶瓷材料和生物处理废水，具有很多实际应用价值。
AAO及SBR工艺流程AAO及SBR工艺在工业生产和环境保护领域中有着广泛的应用，下面将分别详细介绍这两种工艺的特点及相关应用。
AAO工艺的特点及应用AAO工艺是一种制备多孔陶瓷材料的方法，具有以下几个显著特点：首先，AAO工艺制备的多孔铝氧化物材料具有均匀的孔径和高孔隙率。
aao深度处理工艺AAO深度处理工艺是一种常用于纳米材料制备和表面改性的技术。
AAO是指阳极氧化铝（Anodic Aluminum Oxide）的缩写，深度处理则是指通过控制阳极氧化工艺参数，使得AAO膜的孔径和孔深达到精确的要求。
AAO深度处理工艺具有许多独特的优点。
首先，它可以制备具有高度有序孔阵列的纳米材料，这些孔阵列可以用作模板来制备各种功能性纳米结构。
其次，AAO膜的孔径和孔深可以通过调节阳极氧化工艺参数来精确控制，从而实现对纳米结构的精确控制。
此外，AAO膜具有良好的化学稳定性和机械强度，可以承载各种化学和物理处理。
AAO深度处理工艺的基本原理是利用铝阳极在适当的电解液中进行阳极氧化处理。
在该过程中，铝表面会形成一层致密的氧化铝膜，膜上会形成一系列均匀分布的微孔。
这些微孔的孔径和深度可以通过调节电解液成分、电压和电解时间等参数来控制。
通过控制阳极氧化工艺参数，可以实现不同尺寸和形状的孔阵列形成。
AAO深度处理工艺的应用非常广泛。
例如，AAO膜可以用作模板来制备纳米线、纳米颗粒、纳米盘、纳米孔板等纳米结构。
这些纳米结构可应用于纳米电子器件、纳米传感器、纳米过滤器等领域。
此外，AAO膜还可以通过填充或沉积其他材料来制备复合功能材料，如AAO/碳纳米管复合材料、AAO/聚合物复合材料等。
AAO深度处理工艺的发展也面临一些挑战和限制。
首先，AAO膜的孔径和孔深的控制需要精确的工艺参数控制，这对设备和操作人员的要求较高。
其次，AAO膜的制备过程较为复杂，需要一定的时间和成本。
此外，AAO膜的孔径和孔深的分布可能存在一定的不均匀性，这对一些应用的要求较高。
AAO深度处理工艺是一种重要的纳米材料制备和表面改性技术。
通过精确控制阳极氧化工艺参数，可以制备具有高度有序孔阵列的AAO膜，并进一步应用于各种纳米结构的制备。
随着对纳米材料的需求不断增加，AAO深度处理工艺将在纳米科学和纳米技术领域发挥重要作用。
aao工艺原理和作用AA工艺原理和作用简介AA工艺是一种常用的金属焊接技术，它通过电弧的形成和熔化两个金属表面，从而实现焊接。
本文将介绍AA工艺的原理和作用。
原理1.电弧生成：AA工艺使用直流电源，通过电极间的电弧放电产生高温，使金属表面熔化。
电弧在焊接过程中起到熔化和加热金属的作用。
2.金属熔化：电弧产生的高温使金属表面熔化，形成熔池。
熔化的金属在电弧的作用下融合在一起，实现焊接。
3.气体保护：AA工艺中常使用惰性气体（如氩气）作为保护气体，形成气雾带走熔池中的杂质，防止氧气和其他气体对焊接区域的污染，保证焊缝质量。
作用1.金属焊接：AA工艺适用于焊接多种金属材料，包括铝、铜、镁等。
通过AA工艺，可以将两个金属零件焊接在一起，形成一体化的结构。
2.修补和加固：AA工艺可以修补和加固金属零件，修复零件表面的缺陷或损坏部分，提高零件的强度和耐久性。
3.制造复杂结构：AA工艺可以用于制造复杂的金属结构，例如飞机、汽车等需要高强度和轻量化的产品。
通过AA工艺，可以实现金属的高效连接和成型。
总结AA工艺是一种重要的金属焊接技术，它的原理是通过电弧的形成和熔化金属的方式实现焊接。
AA工艺被广泛应用于金属焊接和制造领域，它可以实现金属的连接、修补和加固，同时也可以制造复杂的金属结构。
应用领域1.汽车制造：AA工艺在汽车制造中被广泛应用，用于焊接车身、底盘和引擎等部件。
它可以提供高强度和可靠的连接，同时减轻车辆的重量。
2.航空航天：AA工艺在航空航天领域中起到至关重要的作用。
它被用于焊接飞机、导弹以及火箭等部件，确保其具备高强度、低重量和耐久性。
3.电子设备：AA工艺可用于焊接电子设备的外壳和连接器。
它提供可靠的电气连接，并提高设备的性能和可靠性。
4.能源行业：AA工艺可用于焊接能源装置，如太阳能电池板和风力发电机。
它可以确保装置的高效能运行和可靠性。
5.制造业：AA工艺广泛应用于制造业中的各个领域，包括电器制造、仪器制造和家具制造等。
aao处理工艺AAO（Anodic Aluminum Oxide）是一种具有非常独特的孔洞结构的纳米材料。
通过在铝金属表面形成一层高质量、均匀的氧化铝膜，并随后在氧化层内部制备出具有纳米级孔洞结构的AＯx膜，用于生物传感、储氢等领域。
AAO处理工艺是制备AØx膜的关键步骤，主要包括以下几个方面：1. 铝片处理：AAO膜的制备需要铝片来作为基底，所以铝片的制备很关键。
铝片应去除所有的氧化物和含铁杂质。
加入少量铜可以提高气氛纯度。
2. 氧化：铝片通过氧化步骤，表面形成一层均匀的氧化层。
基本上有三种氧化方式：化学氧化法、电化学氧化法、阳极氧化法。
其中，阳极氧化法就是最常用的方法，因为它可以产生更加均匀的氧化铝层，并且孔道大小可以通过调整阳极电压控制。
3. 蚀刻：在形成均匀氧化铝层后，铝金属在氧化层上面的部分应该被蚀刻掉，让形成的氧化铝膜暴露在空气中，这是制备AØx膜的第一步。
蚀刻步骤可以通过酸侵蚀或高温甲醇氧化（表面生成一层疏水的覆盖层）来实现，以产生疏水或亲水表面。
4. 清洗：清洗步骤非常重要，因为杂质物质会干扰膜的制备过程，并导致质量问题。
清洗步骤通常包括纯化水、丙酮、异三甲苯等溶液的反复浸泡和超声清洗，以确保基底表面纯净。
5. 躁度控制：这个步骤非常难，但是非常关键。
在制备AØx膜过程中，如果产生的气体泡络在孔壁上，孔洞就会产生变形，从而影响膜孔洞的均匀性和大小。
因此，通过调整阴极电压和控制蚀刻时间可以精确控制进入氧化铝膜的电荷量和电流密度，从而调整孔洞大小和间距，以在保持一定厚度下控制成膜质量。
6. 应用：制备出的AØx膜可以应用于多个领域，例如生物传感、模拟微流体实验、储氢等等。
总之，AAO处理工艺是制备AØx膜的主要步骤。
每个步骤的参数都有很大影响，只有精确控制每一步才能获得高质量的AØx膜。
AAO的工艺流程AAO (Anodic Aluminum Oxide) 工艺流程是一种用于生产多孔铝氧化膜的方法。
这种方法可以通过对铝进行阳极氧化处理，形成具有一定孔径和深度的铝氧化膜。
AAO工艺在纳米科技、电子、光学、生物医学等领域有着广泛的应用，因此其工艺流程有着重要的研究价值和应用前景。
AAO工艺流程主要包含以下步骤：1. 铝基片准备：首先，选择优质纯度的铝材料作为底板，通常使用铝片或铝箔。
然后，将铝基片进行机械抛光和清洗处理，以去除表面的杂质和氧化物。
2. 阳极氧化：将准备好的铝基片浸入含有适当电解质的酸性溶液中，并将其作为阳极放入电解槽中。
通过施加直流电流，将阳极氧化反应限制在铝表面，使铝与电解液中的氧化剂发生氧化反应。
在电解液中的氧气发生还原反应，形成氧化铝薄膜。
电流密度和氧化时间的控制可以调节氧化膜的孔径和厚度。
3. 孔径调控：通过改变电解液中的温度、电流密度和氧化时间等参数，可以调控AAO膜的孔径。
一般来说，较高的电流密度和较长的氧化时间可以得到具有较大孔径的AAO膜。
4. 模板去除：在完成阳极氧化后，将AAO膜从电解槽中取出，用溶剂或酸性溶液将铝基片腐蚀去除，从而留下只有氧化铝的孔洞结构。
这样得到的AAO膜具有平整的孔径分布和高度有序的结构。
5. 表面处理：在获得的AAO膜上，可以进行进一步的表面处理，例如陶瓷或金属的镀覆，以提高AAO膜的机械强度和化学稳定性。
6. 应用开发：制备得到的AAO膜可以进一步利用于各种应用领域。
例如，可以将其用作模板，制备纳米材料，如纳米线、纳米颗粒等；也可以用于电子器件中的隔离层、电容器和光学薄膜等。
总结来说，AAO工艺流程是一种制备多孔铝氧化膜的方法，通过阳极氧化和模板去除等步骤，可以得到具有孔径调控、高度有序和平整表面的AAO膜。
AAO膜具有广泛的应用前景，在纳米科技、电子、光学和生物医学等领域有着重要的应用价值。
A2/O工艺
A2/O工艺的发展1932年开发的Wuhrmann工艺是最早的脱氮工艺(见图1),流程遵循硝化、反硝化的顺序而设置。
1962年,Ludzack和Ettinger首次提出利用进水中可生物降解的物质作为脱氮能源的前置反硝化工艺,解决了碳源不足的问题。
1973年,Barnard在开发Bardenpho工艺时提出改良型Ludzack-Ettinger脱氮工艺,即广泛应用的A/O工艺(见图2)。
A/O工艺中,回流液中的大量硝酸盐到缺氧池后,可以从原污水得到充足的有机物,使反硝化脱氮得以充分进行。
A/O工艺不能达到完全脱氮,因为好氧反应器总流量的一部分没有回流到缺氧反应器而是直接随出水排放了。
1980年,Rabinowitz和Marais对Phoredox工艺的研究中,选择3阶段的Phoredox工艺,即所谓的传统A2/O工艺(见图5)。
传统的A2O工艺工艺流程是：污水首先进入厌氧池，兼性厌氧菌将污水中的易降解有机物转化成VFAs（挥发性脂肪酸）。
回流污泥带入的聚磷菌将体内的聚磷分解，此为释磷，所释放的能量一部分可供好氧的聚磷菌在厌氧环境下维持生存，另一部分供聚磷菌主动吸收
VFAs（挥发性脂肪酸），并在体内储存PHB（聚羟基丁酸酯）。
进入缺氧区，反硝化细菌就利用混合液回流带入的硝酸盐及进水中的有机物进行反硝化脱氮，接着进入好氧区，聚磷菌除了吸收利用污水中残留的易降解BOD外，主要分解体内储存的PHB产生能量供自身声场繁殖，并主动吸收环境中的溶解磷，此为吸磷，以聚磷的形式在体内储存。
污水经厌氧，缺氧区，有机物分别被聚磷菌和反硝化细菌利用后浓度已很低，有利于自养的硝化菌的生长繁殖。
最后，混合液进入沉淀池，进行泥水分离，上清液作为处理水排放，沉淀污泥的一部风回流厌氧池，另一部分作为剩余污泥排放。
本工艺在系统上可以称为最简单的同步脱氮除磷工艺，总的水力停留时间少于其他同类工艺。
而且在厌氧-缺氧-好养交替运行条件下，不易发生污泥膨胀。
改良A2O的特点就是在厌氧池的前面加上了一个预缺氧池，以更好的达到脱氮除磷的效果，从而达到国家一级A的标准。
对于含磷较高的污水，该工艺是一个不错的选择。
影响A2O工艺出水效果的因素有很多，一般有以下一些方面的因素：
1. 污水中生物降解有机物对脱氮除磷的影响
可生物降解有机物对脱氮除磷有着十分重要的影响,它对A2/O工艺中的三种生化过程的影响是复杂的、相互制约甚至是相互矛盾的。
在厌氧池中,聚磷菌本身是好氧菌,其运动能力很弱,增殖缓慢,只能利用低分子的有机物,是竞争能力很差的软弱细菌。
但由于聚磷菌能在细胞内贮存PHB和聚磷酸基,当它处于不利的厌氧环境下,能将贮藏的聚磷酸盐中的磷通过水解而释放出来,并利用其产生的能量吸收低分子有机物而合成PHB,在利用有机物的
竞争中比其它好氧菌占优势,聚磷菌成为厌氧段的优势菌群。
因此,污水中可生物降解有机物对聚磷菌厌氧释磷起着关键性的作用。
在好氧段,当有机物浓度高时污泥负荷也较大,降解有机物的异养型好氧菌超过自养型好氧硝化菌,使氨氮硝化不完全,出水中NH+4-N浓度急剧上升,使氮的去除效率大大降低。
所以要严格控制进入好氧池污水中的有机物浓度,在满足好氧池对有机物需要的情况下,使进入好氧池的有机物浓度较低,以保证硝化细菌在好氧池中占优势生长,使硝化作用完全。
由此可见,在厌氧池,要有较高的有机物浓度;在缺氧池,应有充足的有机物;而在好氧池的有机物浓度应较小。
2. 污泥龄的影响
A2/O工艺污泥系统的污泥龄受二方面的影响。
首先是好氧池,因自养型硝化菌比异养型好氧菌的最小比增殖速度小得多,要使硝化菌存活并成为优势菌群,则污泥龄要长,经实践证明一般为20~30 d为宜。
但另一方面,A2/O工艺中磷的去除主要是通过排出含高磷的剩余污泥而实现的,如ts过长,则每天排出含高磷的剩余污泥量太少,达不到较高的除磷效率。
同时
过高的污泥龄会造成磷从污泥中重新释放,更降低了除磷效果。
所以要权衡上述二方面的影响,A2/O工艺的污泥龄一般宜为15~20 d。
3. DO的影响
在好氧段,DO升高,硝化速度增大,但当DO>2mg/L后其硝化速度增长趋势减缓,高浓度的DO会抑制硝化菌的硝化反应。
同时,好氧池过高的溶解氧会随污泥回流和混合液回流分别带至厌氧段和缺氧段,影响厌氧段聚磷菌的释放和缺氧段的NO-x-N的反硝化,对脱氮除磷均不利。
相反,好氧池的DO浓度太低也限制了硝化菌的生长率,其对DO的忍受极限为0.5~0.7 mg/L,否则将导致硝化菌从污泥系统中淘汰,严重影响脱氮效果。
所以根据实践经验,好氧池的DO为2 mg/L左右为宜,太高太低都不利。
在缺氧池,DO对反硝化脱氮有很大影响。
这是由于溶解氧与硝酸盐竞争电子供体,同时还抑制硝酸盐还原酶的合成和活性,影响反硝化脱氮。
为此,缺氧段DO<0.5 mg/L。
在厌氧池严格的厌氧环境下,聚磷菌才能从体内大量释放出磷而处于饥饿状态,为好氧
段大量吸磷创造了前提,从而才能有效地从污水中去除磷。
但由于回流污泥将溶解氧和NO-x 带入厌氧段,很难保持严格的厌氧状态,所以一般要求DO<0.2 mg/L,这对除磷影响不大。
4. 混合液回流比RN的影响
从好氧池流出的混合液,很大一部分要回流到缺氧段进行反硝化脱氮。
混合液回流比的大小直接影响反硝化脱氮效果,回流比RN大、脱氮率提高,但回流比RN太大时则混合液回流的动力消耗太大,造成运行费用大大提高。
5. 污泥回流比R
回流污泥是从二沉池底流回到厌氧池,靠回流污泥维持各段污泥浓度,使之进行生化反应。
如果污泥回流比R太小,则影响各段的生化反应速率,反之回流比R太高,A2/O工艺系统中硝化作用良好,反硝化效果不佳,导致回流污泥将大量NO-X-N带入厌氧池,引起反硝化菌和聚磷菌产生竞争,因聚磷菌为软弱菌群,所以反硝化速度大于磷的释放速度,反硝化菌抢先消耗掉快速生物降解的有机物进行反硝化,当反硝化脱氮完全后聚磷菌才开始进行磷的释放,这样虽有利于脱氮但不利于除磷。
据报道,厌氧段NO-X-N<2 mg/L,对生物除磷没有影响,当COD/TKN>10,则NO-X-N浓度对生物除磷也没有多大影响。
相反,如果A2/O工艺系统运行中反硝化脱氮良好,而硝化效果不佳,此时虽然回流污泥中硝态氮含量减少,对厌氧除磷有利,但因硝化不完全造成脱氮效果不佳。
权衡上述污泥回流比的大小对A2/O工艺的影响,一般采用污泥回流比R=(60~100)%为宜,最低也应在40%以上。
6. TKN/MLSS负荷率的影响
好氧段的硝化反应,过高的NH+4-N浓度对硝化菌会产生抑制作用,实验表明TKN/MLSS负荷率应<0.05 kgTKN/kgMLSS•d,否则会影响氨氮的硝化。
7. 水力停留时间HRT的影响
根据实验和运行经验表明,A2/O工艺总的水力停留时间HRT一般为6~8 h,而三段HRT的比例为厌氧段∶缺氧段∶好氧段=1∶1∶(3~4)。
8. 温度的影响
好氧段,硝化反应在5~35℃时,其反应速率随温度升高而加快,适宜的温度范围为
30~35℃。
当低于5℃时,硝化菌的生命活动几乎停止。
有人提出硝化细菌比增长速率μ与温度的关系为:μ=μ0θ(t-20),式中μ0为20℃时最大比增长速率,θ温度系数,对亚硝酸菌θ为1.12、对硝酸菌为1.07。
缺氧段的反硝化反应可在5~27℃进行,反硝化速率随温度升高而加快,适宜的温度范围为15~25℃。
厌氧段,温度对厌氧释磷的影响不太明显,在5~30℃除磷效果均很好。
9. pH值的影响。
