表面分析(四)俄歇电子能谱的应用
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俄歇电子能谱分析一、俄歇电子能谱分析的概况与X射线光电子能谱(XPS)一样,俄歇电子能谱(AES)也可以分析除氢氦以外的所有元素,现已发展成为表面元素定性、半定量分析、元素深度分布分析和微区分析的重要手段。
三十多年的来,俄歇电子能谱无论在理论上和实验技术上都已获得了长足的发展。
俄歇电子能谱的应用领域已不再局限于传统的金属和合金,而扩展到现代迅猛发展的纳米薄膜技术和微电子技术,并大力推动了这些新兴学科的发展。
目前AES分析技术已发展成为一种最主要的表面分析工具。
在俄歇电子能谱仪的技术方面也取得了巨大的进展。
在真空系统方面已淘汰了会产生油污染的油扩散泵系统,而采用基本无有机物污染的分子泵和离子泵系统,分析室的极限真空也从10-8Pa提高到10-9Pa量级。
在电子束激发源方面,已完全淘汰了钨灯丝,发展到使用六硼化铼灯丝和肖特基场发射电子源,使得电子束的亮度,能量分辨率和空间分辨率都有了大幅度的提高。
现在电子束的最小束斑直径可以达到20nm,使得AES的微区分析能力和图象分辨率都得到了很大的提高。
AES具有很高的表面灵敏度,其检测极限约为10-3原子单层,其采样深度为1〜2nm,比XPS还要浅。
更适合于表面元素定性和定量分析,同样也可以应用于表面元素化学价态的研究。
配合离子束剥离技术,AES还具有很强的深度分析和界面分析能力。
其深度分析的速度比XPS的要快得多,深度分析的深度分辨率也比XPS的深度分析高得多。
常用来进行薄膜材料的深度剖析和界面分析。
此外,AES 还可以用来进行微区分析,且由于电子束束斑非常小,具有很高的空间分别率。
可以进行扫描和微区上进行元素的选点分析,线扫描分析和面分布分析。
因此AES方法在材料、机械、微电子等领域具有广泛应用,尤其是纳米薄膜材料领域。
二、基本原理俄歇电子能谱的原理比较复杂,涉及到原子轨道上三个电子的跃迁过程。
当X射线或电子束激发出原子内层电子后,在原子的内层轨道上产生一个空穴,形成了激发态正离子。
俄歇电子能谱简介摘要:本文介绍了俄歇电子的产生、表示、俄歇电子的过程和能量、样品制备技术、以及俄歇电子能谱仪的应用。
由此得出俄歇电子能谱仪在材料表面性质研究方面, 有着不可替代的作用。
关键词:俄歇电子;俄歇电子能谱仪;样品制备;应用俄歇过程是法国科学家Pierre Auger首先发现的。
1922年俄歇完成大学学习后加入物理化学实验室在其准备光电效应论文实验时首先发现这一现象,几个月后,于1923年他发表了对这一现象(其后以他的名字命名)的首次描述。
30年后它被发展成一种研究原子和固体表面的有力工具。
尽管从理论上仍然有许多工作要做,然而俄歇电子能谱现已被证明在许多领域是非常富有成果的,如基础物理(原子、分子、碰撞过程的研究)或基础和应用表面科学。
1.俄歇电子的产生原子在载能粒子(电子、离子或中性粒子)或X射线的照射下,内层电子可能获得足够的能量而电离,并留下空穴(受激)。
当外层电子跃入内层空位时,将释放多余的能量(退激)释放的方式可以是:发射X射线(辐射跃迁退激方式);发射第三个电子─俄歇电子(俄歇跃迁退激方式)。
如下图:例如,原子中一个K层电子被入射光量子击出后,L层一个电子跃入K层填补空位,此时多余的能量不以辐射X光量子的方式放出,而是另一个L层电子获得能量跃出吸收体,这样的一个K层空位被两个L层空位代替的过程称为俄歇效应,跃出的L层电子称为俄歇电子[1]。
在上述跃迁过程中一个电子能量的降低,伴随另一个电子能量的增高,这个跃迁过程就是俄歇效应。
从上述过程可以看出,至少有两个能级和三个电子参与俄歇过程,所以氢原子和氦原子不能产生俄歇电子。
同样孤立的锂原子因为最外层只有一个电子,也不能产生俄歇电子。
但是在固体中价电子是共用的,所以在各种含锂化合物中也可以看到从锂发生的俄歇电子。
俄歇电子的动能取决于元素的种类。
2.俄歇电子的表示每一俄歇电子的发射都涉及3个电子能级,故常以三壳层符号并列表示俄歇跃迁和俄歇电子。
材料科学XPS 、AES、UPS、EDS四大能谱分析介绍能谱分析能谱分析法是采用单色光源(如X射线、紫外光)或电子束去照射样品,使样品中电子受到激发而发射出来(这些自由电子带有样品表面信息),然后测量这些电子的产额(强度)对其能量的分布,从中获得有关信息的一类分析方法,广泛应用于材料表面分析技术。
主要有:俄歇电子能谱分析(AES)、X射线光电子能谱分析(XPS) 、紫外光电子能谱(UPS),能谱仪-电镜联用等方法。
仪器厂家1俄歇电子能谱法(AES)俄歇电子能谱法是用具有一定能量的电子束(或X射线)激发样品俄歇效应,通过检测俄歇电子的能量和强度,从而获得有关材料表面化学成分和结构的信息的方法。
利用受激原子俄歇跃迁退激过程发射的俄歇电子对试样微区的表面成分进行的定性定量分析。
AES可以用于研究固体表面的能带结构、表面物理化学性质的变化(如表面吸附、脱附以及表面化学反应);用于材料组分的确定、纯度的检测、材料尤其是薄膜材料的生长等。
原理:俄歇电子的产生和俄歇电子跃迁过程:一定能量的电子束轰击固体样品表面,将样品内原子的内层电子击出,使原子处于高能的激发态。
外层电子跃迁到内层的电子空位,同时以两种方式释放能量:发射特征X射线;或引起另一外层电子电离,使其以特征能量射出固体样品表面,此即俄歇电子。
俄歇跃迁的方式不同,产生的俄歇电子能量不同。
上图所示俄歇跃迁所产生的俄歇电子可被标记为WXY跃迁。
如 KLL跃迁:K层电子被激发后,可产生KL1L1,KL1L2,KL2L3…等K系俄歇电子。
应用方向:1、通过俄歇电子谱研究化学组态:原子“化学环境”指原子的价态或在形成化合物时,与该(元素)原子相结合的其它(元素)原子的电负性等情况。
2、定性分析:对于特定的元素及特定的俄歇跃迁过程,其俄歇电子的能量是特征的。
由此,可根据俄歇电子的动能来定性分析样品表面物质的元素种类。
3、定量分析或半定量分析:俄歇电子强度与样品中对应原子的浓度有线性关系,据此可以进行元素的半定量分析。