硅行业国家标准大全
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硅橡胶材料国家标准硅橡胶是一种优质的高分子弹性材料,广泛应用于电子、汽车、医疗器械等领域。
为了规范硅橡胶材料的生产和应用,国家颁布了一系列的标准,以确保产品质量和安全性。
本文将介绍硅橡胶材料国家标准的相关内容。
首先,硅橡胶材料的国家标准主要包括硅橡胶原料、硅橡胶制品、硅橡胶成型品、硅橡胶密封制品等方面的标准。
其中,硅橡胶原料的国家标准主要涵盖了硅橡胶的物理性能、化学性能、加工性能等方面的要求,以及对硅橡胶原料的质量控制和检测方法。
硅橡胶制品的国家标准则规定了硅橡胶制品的外观质量、尺寸偏差、物理性能、化学性能等方面的要求,以及对硅橡胶制品的检测方法和质量控制要求。
其次,硅橡胶材料的国家标准对硅橡胶成型品和硅橡胶密封制品的生产和应用也做出了详细规定。
硅橡胶成型品的国家标准主要包括了硅橡胶成型制品的工艺要求、尺寸偏差、物理性能、化学性能等方面的要求,以及对硅橡胶成型品的检测方法和质量控制要求。
硅橡胶密封制品的国家标准则规定了硅橡胶密封制品的用途范围、外观质量、尺寸偏差、物理性能、化学性能等方面的要求,以及对硅橡胶密封制品的检测方法和质量控制要求。
另外,硅橡胶材料的国家标准还对硅橡胶制品的包装、运输和储存提出了相应的要求,以确保硅橡胶制品在生产、运输和储存过程中不受损坏,保持良好的使用性能。
同时,国家标准还对硅橡胶制品的标识和使用说明做出了规定,以便用户正确选择和使用硅橡胶制品。
总的来说,硅橡胶材料的国家标准为硅橡胶行业的发展提供了有力的支持和保障。
遵循国家标准生产和应用硅橡胶制品,不仅可以保证产品质量和安全性,还可以促进硅橡胶行业的健康发展。
希望硅橡胶生产企业和用户单位严格遵守国家标准,共同推动硅橡胶行业的发展,为社会和经济发展做出更大的贡献。
金属硅产品质量标准金属硅是一种重要的工业原料,广泛应用于冶金、化工、电子等领域。
为确保金属硅产品的质量和使用效果,通常需要满足以下几个质量标准:1.化学成分标准:金属硅产品应符合特定的化学成分要求。
其中,硅含量是关键指标,一般要求在99%以上。
此外,还需控制杂质元素(如铁、铝、钙、镁等)的含量以及其他有害元素(如砷、锑等)的限制值。
2.粒度分布标准:金属硅产品的粒度对其应用性能具有重要影响。
一般会根据不同行业和用户要求设定相应的粒度分布标准。
例如,对于冶金行业来说,常见的粒度范围是10-100mm或更小。
3.电阻率标准:由于金属硅具有良好的导电性能,在一些特殊领域如电子行业中,对其电阻率有严格要求。
电阻率通常以欧姆·厘米(Ω·cm)为单位进行衡量,并根据具体用途制定相应的上下限。
4.化学活性标准:金属硅产品的化学活性主要指其与其他物质的反应性。
根据具体用途和工艺要求,需要控制金属硅的氧化率或还原性等指标,以确保其在特定环境下的稳定性和可靠性。
5.杂质含量标准:金属硅产品中可能存在一些不可避免的杂质,如氧、氮、碳等。
这些杂质的含量需要控制在一定范围内,以保证产品品质和使用效果。
6.纯度要求:金属硅通常需要具备较高的纯度,以确保其在各种应用中的稳定性和可靠性。
除了控制化学成分外,还需要评估其他纯度指标,如氧含量、碳含量等。
7.物理性能标准:金属硅的物理性能也是一个重要的质量考量因素。
例如,抗压强度、热膨胀系数、导热系数等指标会影响其在高温或特殊环境下的性能表现。
8.表面质量标准:金属硅产品通常需要具备良好的表面状态和光洁度,以满足后续加工或使用时的要求。
表面缺陷、氧化皮、杂质颗粒等问题都可能对产品质量造成不利影响。
9.包装及运输标准:为确保金属硅产品在运输和储存过程中不受损坏或污染,需要制定相应的包装和运输标准,并采取适当的防护措施。
这些标准通常包括包装形式、堆码方式、防潮防尘措施等。
继续追问:国家标准是国家制定的用于规范金属硅市场的一种准则,它对于金属硅市场的统一、稳定、和谐发展具有非常重要的意义。
现在,金属硅国家标准已经被广大的金属硅生产厂家和金属硅企业所接受,已经成为一种行业标准。
金属硅是由石英和焦炭在电热炉内冶炼成的产品,主成分硅元素的含量在98%左右(近年来,含Si量99.99%的也归在金属硅内),其余杂质为铁、铝、钙等。
根据金属硅国家标准,金属硅通常按所含的铁、铝、钙三种主要杂质的含量来分类,主要类型有以下几种:#1101 #2202 #3303 #3305 #441 #553Si 99 99 99 99 99 98.5Fe 0.1 0.2 0.3 0.3 0.4 0.5Al 0.1 0.2 0.3 0.3 0.4 0.5Ca 0.01 0.02 0.03 0.05 0.1 0.3P 0.003 0.003 0.003 0.004 0.004 0.004Ni 0.03 0.03 0.03 / / /Mn 0.03 0.03 0.03 / / /Ti 0.02 0.02 0.03 0.03 / /金属硅基础知识(牌号化学成分、检验标准等)2006-10-02 00:00 来源:我的钢铁作者:mysteel 试用手机平台金属硅定义:金属硅又称结晶硅或工业硅,其主要用途是作为非铁基合金的添加剂。
硅是非金属元素,呈灰色,有金属色泽,性硬且脆。
硅的含量约占地壳质量的26%;原子量为28.80;密度为2.33g/m3;熔点为1410C;沸点为2355C;电阻率为2140Ω.m。
金属硅的牌号:按照金属硅中铁、铝、钙的含量,可把金属硅分为553、441、411、42 1、3303、3305、2202、2502、1501、1101等不同的牌号。
金属硅的附加产品:包括硅微粉,边皮硅,黑皮硅,金属硅渣等。
其中硅微粉也称硅粉、微硅粉或硅灰,它广泛应用于耐火材料和混凝土行业金属硅的用途:金属硅(Si)是工业提纯的单质硅,主要用于生产有机硅、制取高纯度的半导体材料以及配制有特殊用途的合金等。
工业硅行业环保标准的国际比较与借鉴工业硅作为现代工业的重要原材料,在多个领域发挥着关键作用。
然而,其生产过程中带来的环境问题也不容忽视。
为了实现可持续发展,各国纷纷制定了相应的环保标准。
对工业硅行业环保标准进行国际比较,有助于我们借鉴先进经验,完善自身标准,推动行业的绿色发展。
一、国际主要工业硅生产国的环保标准概述(一)美国美国在工业硅生产的环保标准方面一直处于较为严格的水平。
对于废气排放,美国要求严格控制二氧化硫、氮氧化物和颗粒物的排放浓度,并且规定了相应的监测和报告制度。
在废水处理方面,美国制定了严格的化学需氧量(COD)、重金属含量等指标。
此外,对于固体废物的处理和处置,也有详细的规定,以防止对土壤和地下水造成污染。
(二)欧盟欧盟的环保标准以其综合性和前瞻性而著称。
在工业硅生产中,欧盟不仅关注常规污染物的排放,还对温室气体的排放提出了明确的要求。
对于能源消耗和资源利用效率,也有严格的标准。
同时,欧盟强调企业的环境责任,要求企业进行全生命周期的环境影响评估。
(三)日本日本的工业硅行业环保标准注重精细化管理。
在废气治理方面,除了对主要污染物的浓度限制,还对异味和挥发性有机物的排放进行了严格控制。
对于废水,日本特别关注微量有害物质的去除效果。
在土壤保护方面,日本建立了完善的监测和修复机制。
二、各国环保标准的主要差异(一)污染物排放标准的差异不同国家对于工业硅生产过程中产生的主要污染物,如二氧化硫、氮氧化物、颗粒物等的排放标准存在明显差异。
有些国家的标准较为宽松,而有些国家则极其严格。
这种差异反映了各国在环境保护目标、经济发展水平和技术能力等方面的不同考量。
(二)环境管理体系的差异各国在环境管理体系的构建上也各有特点。
一些国家侧重于依靠法律法规的强制约束,而另一些国家则更注重通过经济手段,如税收和补贴政策,来引导企业主动采取环保措施。
此外,在公众参与和信息公开方面,各国的程度和方式也不尽相同。
(三)技术要求的差异由于各国的科技发展水平和工业基础不同,对于工业硅生产过程中的污染治理技术要求也存在差异。
工业硅行业环保标准的国际比较与借鉴意义在全球范围内,环保成为了一个举足轻重的问题。
工业硅作为一种重要的原材料,在许多工业领域中被广泛应用。
然而,工业硅的生产过程通常会产生大量的废气、废水和固体废弃物,对环境带来潜在的污染威胁。
为此,各国纷纷制定了相应的环保标准,以确保工业硅行业的可持续发展。
本文将对工业硅行业环保标准的国际比较与借鉴意义进行论述。
一、国际环保标准的比较工业硅行业环保标准的制定是因国情而异的,不同的国家会考虑到其国内环境现状、经济发展水平、科技水平等多个因素。
以下列举了几个国家的工业硅行业环保标准:1.中国中国是世界上最大的工业硅生产国之一,因此环保标准非常重要。
中国对工业硅行业的环境监管有一系列法规和标准,包括《大气污染防治法》、《水污染防治法》等。
其中,大气污染防治法要求工业硅企业实施高效节能的技术措施,减少废气排放。
水污染防治法则对废水的排放进行了严格的限制。
2.美国美国作为发达国家,其环保标准相对较高。
美国环境保护局(EPA)制定了一系列的环保法规和标准,包括《清洁空气法》、《清洁水法》等。
这些法规和标准对工业硅行业的废气、废水等方面均有详细的规定,要求企业采取相应的治理措施。
3.欧盟欧盟国家对环境保护高度重视,也制定了严格的环保标准。
工业硅行业在欧盟境内需要符合《工业排放指令》等法规的要求。
这些法规对工业硅企业的废水排放、废气排放以及固体废弃物处理等方面做出了明确的规定。
二、国际比较的借鉴意义工业硅行业环保标准的国际比较为各国提供了相互借鉴的机会,对于国内工业硅行业的环保治理具有重要意义。
1.经验借鉴通过比较不同国家的环保标准和实践经验,可以了解不同国家在环保方面的成熟经验和先进技术。
这些经验和技术可以为国内工业硅企业提供借鉴和参考,帮助其改进现有的环保技术和管理模式。
2.制度完善借鉴国际先进的环保标准和制度,可以为国内工业硅行业的环保治理提供制度支撑。
通过学习和借鉴外国的法规和标准,国内可以不断完善自身的环保法律法规体系,为工业硅企业提供明确的法律依据。
《工业硅》国家标准修订说明1 工作简况1.1 任务来源根据全国有色金属标准化技术委员会“关于编报2007年有色金属行业标准项目计划的通知”(有色标委[2006]第38号)的要求,工业硅产品及其分析方法的国家标准由山西晋能集团有限公司、包头铝业股份有限公司负责修订。
2006年10月全国有色金属标准化技术委员会在大连召开了任务落实会,会上初步确定了工业硅及其分析方法标准的修订思路,任务完成时间为2006年11月~2007年5月。
1.2 修订单位情况山西晋能集团有限公司是一家具备煤、电、冶金、炭素生产能力的综合性集团公司,公司现拥有4台9000KVA工业硅炉、5台16500KVA硅锰炉、2台12500KVA硅锰炉、2台6300KVA硅锰炉,公司生产的化学级工业硅得到国内外用户的好评;4台9000KVA工业硅炉所在的大同晋能工业硅有限公司是2005年国家首批铁合金行业准入的70家企业之一,公司生产的“晋能牌”工业硅还是山西省的名牌产品。
1.3 修订工作过程这次起草的标准修订草案是根据国内江西星火有机硅厂、关铝股份有限公司和韩国浦项公司、美国铝业公司、美国道康宁公司、日本住金物产株式会社、日本东芝公司、三菱公司等企业的使用情况和对质量的要求,并参照了美国和日本的工业硅标准,结合我国的生产实际拟订了该标准修订草案。
2 标准的制定原则与标准的主要内容2.1 本标准在制定时主要遵循四大原则①充分满足市场要求的原则;②切合实际的原则;③提高质量标准的原则。
2.2 标准主要修订内容与论据2.2.1关于化学成份:化学用硅增加了两个等级,使化学用硅的牌号由二个增加到四个,硅含量由99.3%提高到99.6%,铁含量由0.4%降到0.2%,铝含量由0.2%降到0.1%,钙含量由0.1%降到0.01%,同时对化学用硅的四个牌号增加了磷、硫、碳的测定。
冶金用硅一级硅铁含量由0.6%降到0.2%;二级硅铁含量由0.7%降到0.3%,钙含量由0.5%降到0.1%;三级硅铁含量由1.0%降到0.5%,钙含量由1.0%降到0.2%。
单质硅检测国家标准单质硅是一种重要的工业原料,广泛应用于电子、光伏、半导体等领域。
为了保证单质硅产品的质量,我国制定了一系列的国家标准,其中包括单质硅的检测标准。
本文将对单质硅检测国家标准进行详细介绍,希望能为相关行业提供参考。
首先,单质硅的检测主要包括外观检查、化学成分分析、杂质含量检测等方面。
外观检查主要是通过目测和显微镜观察单质硅的外观特征,包括颜色、形状、表面质量等。
化学成分分析则是通过化学方法对单质硅中各种元素的含量进行分析,主要包括纯度、杂质含量、氧含量等指标。
杂质含量检测则是对单质硅中各种杂质元素的含量进行检测,包括金属杂质、非金属杂质等。
其次,单质硅检测国家标准对检测方法和技术要求进行了明确规定。
针对外观检查,标准要求检测人员应具备一定的目测和显微镜观察技术,并对观察结果进行准确记录和描述。
化学成分分析方面,标准要求使用先进的化学分析仪器,如原子吸收光谱仪、质谱仪等,确保分析结果的准确性和可靠性。
对于杂质含量检测,标准要求检测人员应熟练掌握各种杂质元素的检测方法和技术,确保检测结果的准确性和可靠性。
最后,单质硅检测国家标准还对检测结果的评定和报告要求进行了规定。
标准要求检测人员应根据检测结果对单质硅的质量进行评定,包括合格、不合格、优良等等。
同时,标准还要求检测人员应按照规定的格式和内容编制检测报告,并对检测结果进行详细说明和解释,确保检测结果的可追溯性和可信度。
总之,单质硅检测国家标准的制定和执行,对于保障单质硅产品的质量和安全具有重要意义。
各相关行业应严格按照国家标准进行检测,并加强对检测人员的培训和管理,确保检测结果的准确性和可靠性。
希望本文能为大家对单质硅检测国家标准有所了解,并在实际工作中加以应用。
有机硅用硅粉标准
有机硅用硅粉有多个标准,以下是一些常见的标准:
1. 工业硅粉国家标准:GB/T 2881-2014,规定了工业硅粉的技术要求、试验方法、检验规则以及包装、标志、运输和贮存等内容。
2. 电子级硅微粉国家标准:GB/T 26052-2010,规定了电子级硅微粉的要求、试验方法、检验规则、包装、标志、运输和贮存。
3. 多晶硅硅粉国家标准:GB/T 30656-2014,规定了太阳能级多晶硅硅粉的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及质量证明书等内容。
这些标准主要涉及硅粉的化学成分、粒度分布、杂质含量、物理性能等方面的要求,以确保硅粉在有机硅应用中的质量和性能。
需要注意的是,具体的标准可能会根据不同的应用领域和行业而有所差异。
在选择和使用有机硅用硅粉时,建议参考相关的行业标准和客户要求,以确保符合特定应用的要求。
此外,还应选择质量可靠、信誉良好的供应商,并进行必要的质量检测和验证,以保证硅粉的质量和可靠性。
多晶硅标准
多晶硅(Polycrystalline silicon)是一种晶体结构不完整的硅材料,由多个小晶体(晶粒)组成。
多晶硅是太阳能电池、集成电路等高技术领域的关键材料之一。
为了保证多晶硅材料的质量和性能,制定了一系列的标准和规范。
1. 多晶硅质量标准(GB/T 5420-2010):该标准规定了多晶硅的分类、包装、标志、试样制备和性能测试等要求,对多晶硅的质检提供了参考依据。
2. 多晶硅材料及其中晶粒度测定方法(GB/T 6699-2017):该标准规定了多晶硅材料的晶粒度测试方法,包括显微镜观察法和X射线衍射法等方法。
3. 太阳能电池用多晶硅片(GB/T 16532-2017):该标准规定了太阳能电池用多晶硅片的分类、要求、检验方法等内容,包括外观、尺寸、电气性能等方面的要求。
4. 半导体级多晶硅材料(GB/T 16534-2017):该标准规定了半导体级多晶硅材料的分类、要求、检验方法等内容,主要涉及杂质含量、电阻率、位错密度等方面的要求。
这些标准和规范旨在保证多晶硅材料的质量和稳定性,为相关行业的产品生产和质检提供统一的技术要求,促进多晶硅技术的发展和应用。
同时,这些标准也为消费者选择和购买多晶硅产品提供了参考依据。
继续追问:国家标准是国家制定的用于规范金属硅市场的一种准则,它对于金属硅市场的统一、稳定、和谐发展具有非常重要的意义。
现在,金属硅国家标准已经被广大的金属硅生产厂家和金属硅企业所接受,已经成为一种行业标准。
金属硅是由石英和焦炭在电热炉内冶炼成的产品,主成分硅元素的含量在98%左右(近年来,含Si量99.99%的也归在金属硅内),其余杂质为铁、铝、钙等。
根据金属硅国家标准,金属硅通常按所含的铁、铝、钙三种主要杂质的含量来分类,主要类型有以下几种:#1101 #2202 #3303 #3305 #441 #553Si 99 99 99 99 99 98.5Fe 0.1 0.2 0.3 0.3 0.4 0.5Al 0.1 0.2 0.3 0.3 0.4 0.5Ca 0.01 0.02 0.03 0.05 0.1 0.3P 0.003 0.003 0.003 0.004 0.004 0.004Ni 0.03 0.03 0.03 / / /Mn 0.03 0.03 0.03 / / /Ti 0.02 0.02 0.03 0.03 / /金属硅基础知识(牌号化学成分、检验标准等)2006-10-02 00:00 来源:我的钢铁作者:mysteel 试用手机平台金属硅定义:金属硅又称结晶硅或工业硅,其主要用途是作为非铁基合金的添加剂。
硅是非金属元素,呈灰色,有金属色泽,性硬且脆。
硅的含量约占地壳质量的26%;原子量为28.80;密度为2.33g/m3;熔点为1410C;沸点为2355C;电阻率为2140Ω.m。
金属硅的牌号:按照金属硅中铁、铝、钙的含量,可把金属硅分为553、441、411、42 1、3303、3305、2202、2502、1501、1101等不同的牌号。
金属硅的附加产品:包括硅微粉,边皮硅,黑皮硅,金属硅渣等。
其中硅微粉也称硅粉、微硅粉或硅灰,它广泛应用于耐火材料和混凝土行业金属硅的用途:金属硅(Si)是工业提纯的单质硅,主要用于生产有机硅、制取高纯度的半导体材料以及配制有特殊用途的合金等。
序号标准号标准名称
5GB/T 1551-2009硅单晶电阻率测定方法
6GB/T 1553-2009硅和锗体内少数载流子寿命测定光电导衰减法
7GB/T 1554-2009硅晶体完整性化学择优腐蚀检验方法
8GB/T 1555-2009半导体单晶晶向测定方法
9GB/T 1558-2009硅中代位碳原子含量 红外吸收测量方法
15GB/T 4058-2009硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法
16GB/T 4061-2009硅多晶断面夹层化学腐蚀检验方法
33GB/T 6616-2009半导体硅片电阻率及硅薄膜薄层电阻测试方法 非接触涡流法
34GB/T 6617-2009硅片电阻率测定 扩展电阻探针法
35GB/T 6618-2009硅片厚度和总厚度变化测试方法
36GB/T 6619-2009硅片弯曲度测试方法
37GB/T 6620-2009硅片翘曲度非接触式测试方法
38GB/T 6621-2009硅片表面平整度测试方法
39GB/T 6624-2009硅抛光片表面质量目测检验方法
67GB/T 13387-2009硅及其它电子材料晶片参考面长度测量方法
68GB/T 13388-2009硅片参考面结晶学取向X射线测试方法
70GB/T 14139-2009硅外延片
71GB/T 14140-2009硅片直径测量方法
72GB/T 14141-2009硅外延层、扩散层和离子注入层薄层电阻的测定 直排四探针法
73GB/T 14144-2009硅晶体中间隙氧含量径向变化测量方法
74GB/T 14146-2009硅外延层载流子浓度测定 汞探针电容-电压法
76GB/T 14600-2009电子工业用气体 氧化亚氮
77GB/T 14601-2009电子工业用气体 氨
78GB/T 14603-2009电子工业用气体 三氟化硼
79GB/T 14604-2009电子工业用气体 氧
81GB/T 14851-2009电子工业用气体 磷化氢
88GB/T 15909-2009电子工业用气体 硅烷(SiH4)
116GB/T 16942-2009电子工业用气体 氢
117GB/T 16943-2009电子工业用气体 氦
118GB/T 16944-2009电子工业用气体 氮
119GB/T 16945-2009电子工业用气体 氩
241GB/T 24574-2009硅单晶中Ⅲ-Ⅴ族杂质的光致发光测试方法
242GB/T 24575-2009硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法
243GB/T 24576-2009高分辩率X射线衍射测量GaAs衬底生长的AlGaAs中Al成分的试验方法244GB/T 24577-2009热解吸气相色谱法测定硅片表面的有机污染物
245GB/T 24578-2009硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
247GB/T 24580-2009重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法
248GB/T 24581-2009低温傅立叶变换红外光谱法测量硅单晶中III、V族杂质含量的测试方法
249GB/T 24582-2009酸浸取 电感耦合等离子质谱仪测定多晶硅表面金属杂质
代替标准号批准日期修订日期实施日期GB/T 1551-1995,GB/T 151979-5-262009-10-302010-6-1
GB/T 1553-19971979-5-262009-10-302010-6-1
GB/T 1554-19951979-5-262009-10-302010-6-1
GB/T 1555-19971979-5-262009-10-302010-6-1
GB/T 1558-19971979-5-262009-10-302010-6-1
GB/T 4058-19951983-12-202009-10-302010-6-1
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GB/T 6617-19951986-7-262009-10-302010-6-1
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GB/T 13387-19921992-2-192009-10-302010-6-1
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GB/T 14139-19931993-2-62009-10-302010-6-1
GB/T 14140.1-1993,GB/T1993-2-62009-10-302010-6-1
GB/T 14141-19931993-2-62009-10-302010-6-1
GB/T 14144-19931993-2-62009-10-302010-6-1
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GB/T 14603-19931993-8-262009-10-302010-5-1
GB/T 14604-19931993-8-262009-10-302010-5-1
GB/T 14851-19931993-12-302009-10-302010-5-1
GB/T 15909-19951995-12-202009-10-302010-5-1
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