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二.各站原理介紹1.ITO製程原理ITO玻璃切割、磨邊、倒角1.首先大片玻璃經切割機切割後可分為:300.00 × 350.00，300.00 × 400.00，370.00 × 480.00mm三種尺寸。
1.1切割後(切割檢驗)使用游標卡尺檢測,檢驗公差為產品尺寸＋0.20mm ± 0.06mm 例:300.00 × 350.00mm尺寸300.00＋0.20 ± 0.06mm即300.14mm~300.26mm350.00＋0.20 ± 0.06mm即350.14mm~350.26mm2.磨邊加工：分為C面及R面玻璃，二者不同在R面玻璃必須做圓弧切邊加工(白邊)2.1磨邊加工完成後使用游標卡尺檢測，玻璃基板尺寸公差為± 0.20mm例:300.00 × 350.00mm尺寸300.00 ± 0.20mm 即299.80~300.20mm350.00 ± 0.20mm 即349.80~350.20mm2.2圓弧切邊(白邊) 使用peak量測，量品為＜1.50mmTN、STN玻璃亥方向角，角度(5±1.0)，位置兩者不同。
TN(5±1.0)：在玻璃的長邊上。
STN(5±1.0)：在玻璃的短邊上。
目的：經由玻璃的方向角方向能很容易分辨出是TN玻璃或是STN glass，降低作業時人為的混料及誤判情形。
為何磨R面?當玻璃再進行拋光作業時(有離心力)C面玻璃的邊緣與拋光機P.P盤上的Template(模板)，相互碰撞易造成崩角、缺角、破片；甚至造成玻璃刮傷.。
2.3 方向角及倒角使用peak測量，其公差範圍如下：※STN玻璃為經拋光研磨後的玻璃。
倒角尺寸：(單位mm)方向角倒角3.0＋1TN辨識角何謂SiO2 、ITO ?SiO2:二氧化矽ITO :氧化銦錫[indium tin oxide]2.為何基板要鍍SiO2、ITO ?鍍SiO2原因: SiO2為保護膜[絕緣層],避免玻璃中的鹼性離子釋出玻璃表面，形成導電層；若未鍍SiO2，讓玻璃中的鈉、鉀離子釋出會干擾顯示畫面；在密封部位滲出，有可能使密封膠黏著力下降。
触摸屏ITO培训资料一、ITO 简介ITO（Indium Tin Oxide），即氧化铟锡，是一种具有良好导电性和透光性的材料，广泛应用于触摸屏领域。
触摸屏作为一种直观、便捷的人机交互界面，已经成为电子设备中不可或缺的一部分。
ITO 薄膜在触摸屏中起着关键作用，它能够实现触摸信号的检测和传输。
二、ITO 薄膜的制备方法1、磁控溅射法这是目前制备 ITO 薄膜最常用的方法之一。
在高真空环境中，通过磁场控制带电粒子的运动，使铟锡靶材的原子溅射到基板上形成薄膜。
该方法具有沉积速率高、薄膜质量好、成分均匀等优点。
2、真空蒸发法将铟锡合金加热至蒸发温度，使其原子或分子气化后沉积在基板上。
这种方法设备相对简单，但薄膜的均匀性和附着力可能不如磁控溅射法。
3、溶胶凝胶法通过将金属醇盐或无机盐溶解在溶剂中形成溶胶，然后经过凝胶化、干燥和热处理得到薄膜。
该方法成本较低，但制备过程较为复杂，薄膜的性能也相对较难控制。
三、ITO 薄膜的性能参数1、电阻率ITO 薄膜的电阻率直接影响触摸屏的响应速度和灵敏度。
一般来说，电阻率越低，触摸屏的性能越好。
2、透光率良好的透光率是保证触摸屏显示效果清晰的重要因素。
通常要求ITO 薄膜在可见光范围内的透光率达到 85%以上。
3、表面粗糙度薄膜的表面粗糙度会影响其与其他层的接触性能和光学性能。
较小的表面粗糙度有助于提高触摸屏的可靠性和显示质量。
四、ITO 在触摸屏中的工作原理触摸屏主要分为电阻式触摸屏和电容式触摸屏，ITO 在这两种触摸屏中的工作原理有所不同。
1、电阻式触摸屏由上下两层 ITO 薄膜组成，中间隔着微小的隔离点。
当触摸屏幕时，上下两层薄膜接触，电流通过接触点，从而检测到触摸位置。
2、电容式触摸屏分为表面电容式和投射电容式。
表面电容式触摸屏是在玻璃表面涂覆一层 ITO 导电层，当手指触摸屏幕时，会引起电容变化，从而检测触摸位置。
投射电容式触摸屏则是在玻璃基板上形成横竖交叉的 ITO 电极阵列，通过检测电极间电容的变化来确定触摸位置。
二.各站原理介紹1.ITO製程原理ITO玻璃切割、磨邊、倒角1.首先大片玻璃經切割機切割後可分為:300.00 × 350.00，300.00 × 400.00，370.00 × 480.00mm三種尺寸。
1.1切割後(切割檢驗)使用游標卡尺檢測,檢驗公差為產品尺寸＋0.20mm ± 0.06mm 例:300.00 × 350.00mm尺寸300.00＋0.20 ± 0.06mm即300.14mm~300.26mm350.00＋0.20 ± 0.06mm即350.14mm~350.26mm2.磨邊加工：分為C面及R面玻璃，二者不同在R面玻璃必須做圓弧切邊加工(白邊)2.1磨邊加工完成後使用游標卡尺檢測，玻璃基板尺寸公差為± 0.20mm例:300.00 × 350.00mm尺寸300.00 ± 0.20mm 即299.80~300.20mm350.00 ± 0.20mm 即349.80~350.20mm2.2圓弧切邊(白邊) 使用peak量測，量品為＜1.50mmTN、STN玻璃亥方向角，角度(5±1.0)，位置兩者不同。
TN(5±1.0)：在玻璃的長邊上。
STN(5±1.0)：在玻璃的短邊上。
目的：經由玻璃的方向角方向能很容易分辨出是TN玻璃或是STN glass，降低作業時人為的混料及誤判情形。
為何磨R面?當玻璃再進行拋光作業時(有離心力)C面玻璃的邊緣與拋光機P.P盤上的Template(模板)，相互碰撞易造成崩角、缺角、破片；甚至造成玻璃刮傷.。
2.3 方向角及倒角使用peak測量，其公差範圍如下：※STN玻璃為經拋光研磨後的玻璃。
倒角尺寸：(單位mm)方向角倒角3.0＋1TN辨識角何謂SiO2 、ITO ?SiO2:二氧化矽ITO :氧化銦錫[indium tin oxide]2.為何基板要鍍SiO2、ITO ?鍍SiO2原因: SiO2為保護膜[絕緣層],避免玻璃中的鹼性離子釋出玻璃表面，形成導電層；若未鍍SiO2，讓玻璃中的鈉、鉀離子釋出會干擾顯示畫面；在密封部位滲出，有可能使密封膠黏著力下降。
O L E D制造中比较重要的三个制程(总5页)--本页仅作为文档封面，使用时请直接删除即可----内页可以根据需求调整合适字体及大小--OLED制造中比较重要的三个制程的精华资料OLED制造中比较重要的三个制程的精华资料，大家看看，觉得好的给个回复，就是对论坛莫大的支持了！下面是OLED比较重要得三个制程得简短说明！至於材料方面嘛，上网应该可以查到得，目前磷光材料得应用前景要比荧光材料大的多，低分子比高分子的前途也要明朗些！ITO基板前处理制程制造有机EL显示面板所采用的Indium-tin-oxide (ITO) 透明导电玻璃基板，通常厚度为或的钠硷玻璃 (soda lime)，在约150mm的ITO导电薄膜及钠硷玻璃基板之间镀上约数十微米的SiO2薄膜，以阻绝钠硷玻璃内金属离子游移的干扰，而ITO薄膜的导电特性则界定在其面电阻 (sheet resistance) 约10Ω/□。
在进入面板制造流程前ITO基板的洗净，则透过湿式及乾式的清洗制程达到高洁净度的ITO表面，在湿式清洗过程反覆地以中性洗剂及纯水超音波清洗後，再搭配有机溶剂以快速地乾燥ITO 基板，经过乾燥的ITO基板表面仍有些许的有机物残留，会影响ITO电极的正电荷 (h ole) 注入效率，UV-O3的处理可以将ITO基板上残留有机物除去，而存在ITO表面的缺陷可利用RF-O2电浆的表面改质处理，以降低正电荷注入的能阶障壁，因此，UV-O3及RF-O2电浆的乾式处理，能有效地降低有机EL元件发光的驱动电压，也广泛地应用在量产的制程中。
多层镀膜制程在发光亮度、耗电量及工作电压的操作条件考量下，多层结构的有机EL显示面板所提供的发光特性和稳定性，始能满足量产化的要求及量产生产时的效益，因此，多腔体的真空镀膜系统及单一镀膜腔体对应一层镀膜处理的设计原则，架构了量产装置的运作方式。
而针对多层镀膜量产系统及制程因应简述如下：1. Mask及ITO基板的对位：由於有机材料及其薄膜对湿式制程及温度的敏感性，使得一般常用於半导体晶圆制造上的微影蚀刻技术，无法被应用於有机EL面板制程中细微化的加工。
ito工艺流程ITO工艺流程是指将ITO膜作为导电膜，通过一系列的加工步骤制备成特定形状和规格的ITO玻璃或ITO膜。
ITO是氧化铟锡的简称，具有良好的导电性和光透过性，广泛应用于LCD、触摸屏、太阳能电池等领域。
ITO工艺流程主要包括ITO膜涂布、光刻、腐蚀、清洗等步骤。
首先是ITO膜涂布，将ITO溶液通过特定的方法涂布在基底材料上，形成薄膜。
涂布过程需要控制好涂布头的喷雾粒径和速度，以及基底材料的表面状况，以保证涂布后的膜质量。
接下来就是光刻步骤，将ITO膜上的光刻胶涂覆在膜上，并利用光刻机将图案光刻到光刻胶上。
光刻胶的选择很关键，它需要满足良好的光刻性能和较高的耐蚀性。
光刻胶暴露后，通过曝光、显影等步骤，将需要保留的图案暴露出来，形成光刻胶模版。
然后是腐蚀步骤，将暴露在光刻胶模版上的ITO膜部分进行腐蚀。
腐蚀可以选择湿法腐蚀或干法腐蚀两种方式，湿法腐蚀一般采用酸性溶液进行，干法腐蚀则通过离子束刻蚀等方式进行。
腐蚀后，光刻胶模版可被去除，暴露出ITO膜的导电区域。
最后就是清洗步骤，将ITO膜表面的光刻胶残留物和腐蚀产物进行清洗。
清洗过程采用有机溶剂、超纯水或酸碱溶液进行，以确保膜表面的清洁度和平整度。
清洗后即可得到满足要求的ITO玻璃或ITO膜。
整个ITO工艺流程中，涂布、光刻和腐蚀是关键步骤，其中涂布和光刻的参数控制直接影响着膜的质量和性能。
涂布时要注意涂布头的均匀性和稳定性，避免出现表面不均匀、厚度不一的情况。
光刻时要保证光刻胶的厚度和质量，以及光刻机的曝光、显影参数的准确控制。
腐蚀时需要选择合适的腐蚀剂和腐蚀时间，以保证腐蚀均匀性和腐蚀深度的控制。
总的来说，ITO工艺流程是将ITO膜加工成特定形状和规格的过程，涵盖了涂布、光刻、腐蚀、清洗等步骤。
这些步骤的参数控制和质量保证对最后的ITO玻璃或ITO膜的性能有着重要影响，因此工艺的优化和改进是提高产品质量和工艺效率的关键。
