材料分析方法重点
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Z样<40,Z阳=Z样-1;
Z样>40,Z阳=Z样-2
管电压:3-5倍K系临界激发电压特征谱线与连续谱线比值最大
曝光时间
3.误差来源与修正
试样吸收误差
底片收缩误差
4.立方晶系德拜像的标定过程
XRD
1.测角仪:光源与计数管保持角度1:2联动
2.狭缝有哪些,作用是什么
sinθd,hkla
2.定量分析:4种方法:外标,内标,参比,直接对比
3.点阵参数的测定:3种方法:图解外推,最小二乘(最准),标样对比
宏观应力测定
1.三种宏观应力,是什么,如何影响X谱线
2.宏观应力测定的原理和过程
电子显微学
1.像差:3种,成因,球差不能被消除
2.分辨率:2方面决定,与孔径半角关系
X
1.定性分析
为什么能够实现定性分析?两点
1.每种结晶物质都有其特定的结构参数。
每种物质的多晶体衍射线条数目、位置以及强度是
该种物质的特征,因而可以成为鉴别物相的标志。
2.多相物质的衍射花样互不干扰,相互独立,只是机械地叠加。
索引:两种方法:数字,字母
分析过程:
谱2θsinθsinθ平方sinθ平方比值确定结构(sc,bcc,fcc注意前两者的区分:第一峰是最强锋则为bcc,第二峰为最强锋则为sc)
4.倒易空间:倒易矢量方向和长度
会画倒易点阵:Fcc/Bcc注意消光
5.爱瓦尔德球
X
1.知道有几个因子,都叫什么,与什么有关
2.基本思路:一个电子散射(极化因子)一个原子(原子散射因子)一个晶胞(结构因子)
3.多重性因子:{100}等同晶面有多少种?四方晶系的多重性因子
4.角因素:包括极化因子和洛伦兹因素
6.衍射运动学
两个基本假设
两个途径
两个近似方法
等厚条纹,随t改变;等倾条纹,随s改变
7.应变场衬度(位错)
SEM
1.电子与物体的几种作用产生的信号,产生原因,强度取决于,应用
5种电子:背散射(分辨率小于二次),二次(不能用于成分分析),吸收,透射,俄歇
特征X
2.SEM结构:3部分
其中电子光学系统:3部分
质量吸收系数,意义,与波长、原子序数的关系
吸收限,吸收谱
3)光电效应:对吸收限的解释
荧光X射线概念
4)俄歇效应
X
1.劳埃方程的缺点:繁琐
2.布拉格方程:推导
是必要条件,不是充分条件,因为还有Байду номын сангаас统消光
讨论θ,λ,d:xx一定,另两个的变化,说明什么问题
3.X射线衍射法:3种,注意区别:单晶/多晶,θ变/不变,λ变/不变
衍射效应
球差
3.景深和焦长概念
TEM
1.结构:3部分
其中电子光学系统,3部分(从上到下位置)
3种电磁透镜,各自作用
2.样品台、电子枪、消像散器、偏转线圈
3.3种光阑:位置、作用(聚光镜光阑3个作用,物镜光阑3个作用,选取光阑一个作用)
4.点分辨率,晶格分辨率,放大倍数
电子衍射
1.电子衍射和x射线衍射的区别:4点
2.倒易点阵扩展:2/t
3.基本公式:rd=λL=K
4.选区电子衍射步骤:3步
5.衍射图样标定:
测RR平方R平方相除确定结构{hkl}任意hkl注意自洽求晶带轴
测Rd+hkla
衍射衬度成像
1.质厚衬度:与厚度t和原子序数Z有关
2.衍射衬度概念
3.薄膜样品制样过程:3步
4.明场暗场中心暗场成像操作
5.消光距离概念
洛伦兹因素:衍射的积分强度(半高宽,最高峰)
参加衍射的晶粒数目
单位弧长的衍射强度
5.吸收因子
6.温度因子
圆柱试样(德拜法)的5.6因子抵消
重点掌握结构因子,多重性因子和角因子的物理意义,什么叫温度因子、吸收因子
德拜谢乐照相法
1.底片安装方法:3种,偏装法最好
2.选材
阳极靶:要求不激发二次X射线Z阳≤Z样+1
其中电磁透镜作用不是放大成像,而是聚焦
3.分辨率的影响因素3个,测量方法
4.放大倍数
5.二次电子成像原理:形貌
背散射电子成像原理:形貌与成分,A+B/A_B
吸收电子成像原理:与背散射相反
EPMA
1.波谱仪与能谱仪的优缺点(波谱仪分辨率更高)
X射线衍射谱标定,和,电子衍射花样标定,必考
X
1.产生条件:3点
2.射线管构造:阳极靶阴极灯丝聚光管
3.X射线的本质:电磁波,波粒二象性两个式子
4.X射线谱:
1)连续X:影响因素:管电压,管电流,阳极原子序数
短波限的解释
2)特征X:产生原因;莫塞来定理;KαKβ意义
5.相互作用
1)散射
相干散射:概念
非相干散射:概念,为什么不相干
2)透射与吸收:线吸收系数,意义