集成电路制造中的微影技术随着信息科技的快速发展，计算机、智能手机、平板电脑等电子产品愈发普及，而这些电子产品的核心便是微型芯片。
微型芯片是电子产业的基础，而集成电路制造中的微影技术扮演着关键角色。
什么是微影技术？微影技术是一种制造微型芯片的技术。
在集成电路制造过程中，相当于照相机中的曝光、冲洗等步骤。
微影技术依靠光刻机将光芯片上的图案转移到硅片或其他材料上，形成电路图案。
通俗来讲，微影技术是一种通过光学器件将芯片芯片结构“投影”到光刻机上，再将这些芯片芯造模式形成的技术。
微影技术的创新目前大多数集成电路制造商都使用叫做“7纳米制程”的微影技术，它的制造工艺在一块硅片上能够制造比红血球还小的大小连通线，并且在光刻机中要做数百次的重复操作，能被制造出来的线和间距通常只有几十纳米，这耗费了极其强大的能量。
随着近年来半导体行业的发展，微影技术也发生了许多创新，新的微影技术的出现不仅提高了集成电路制造的工艺，也对其他领域产生了影响。
其中一种新技术是Nano-Imprint Lithography（NIL），它能在一种合适的材料上获得至少10-20nm的分辨率，比传统的7纳米制程有了更大的突破。
这种新技术的核心是将模具压缩到材料表面上，达到不需要光学元件即可实现微影的效果，能够在芯片表面准确精密地形成所需要的形状和尺寸，比如缩小芯片尺寸、提高存储器容量等。
有趣的是，这种新技术并非是由科技巨头推进的，而是由学术界携手共同推进的，这有利于整个行业的发展。
NIL技术的发展方向主要是与量子信息、生物医学、化学传感等领域相结合产生的新应用。
微影技术的局限性虽然微影技术在制造集成电路领域扮演着关键角色，但是它依然存在一些局限性。
比如，基于微影技术的制造过程需要很高的准确性，机器的自动化程度要高，经常需要重复测试和调试。
这既增加了制造成本，也会加大产品生产周期。
另外，在使用微影技术进行集成电路制造时，有一些细微的变化可能会导致性能下降或生命周期的缩短。
