正负折射率材料组成的一维光子晶体的能带及缺陷模
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20一维光学晶格中缺陷模的性质我们考虑的物理情况是具有单点缺陷的普通偏振或非正常偏振的格子光束被发射到光折射晶体中。
假定该缺陷的晶格束沿着传播方向是均匀的。
同时,将具有非常低强度的非常偏振的探测光束发射到缺陷位置,与晶格光束共线传播。
假设探测光束与格子光束相互不相干。
在这种情况下,探测光束的无量纲化模型方程为[8,24,25]0)(1i 0xx =+-+U x I E U U L z (1) 这里U 是探测光束缓慢变化的幅度,z 是传播方向,x 是横向方向(以T /π为单位),E0是施加的直流场,})(1{cos 20x f x I I D L ∈+= (2)是光折射晶格的强度函数(由Id + Ib 标准化,其中Id 是晶体的黑暗辐照度,Ib 是背景照明),I 0是否则均匀光子晶格的峰值强度(即,远离 缺陷位置),f D (x )是描述缺陷形状的局部函数,∈控制缺陷的强度,T 是晶格间距,k0 =2π/λ0是波数(λ0是波长),k1 = k0ne ,ne 是无扰的折射率,r33是晶体的电光系数。
暗照度Id 对应于保持在黑暗中的光折变晶体中的电子的热生成(无光照)。
在典型的光折变晶体实验中,背景照明Ib»Id ,因此Id + Ib ≈Ib 。
在本文中,我们假设缺陷局限于x = 0处的单个格点。
因此,我们选择函数f D (x )为)128/exp()x (8x f D -=其他选择的单点缺陷函数f D 给出了类似的结果。
当∈<0时,缺陷部位的晶格光强度I L 低于周围部位的晶格光强度I L 。
我们把它称为一种令人讨厌的(负)缺陷,在这种缺陷中,光易于从缺陷逃逸到附近的晶格位置。
对于∈= -0.08,-0.5,-0.81和-1,相应的晶格强度分布将在后文中显示(见图5和8)。
当∈= -1时,晶格在缺陷处没有光,而在另外三种情况下,缺陷处仍然有光,但强度降低。
当∈> 0时,该缺陷称为缺陷位点的晶格强度I L 高于周围位置的晶格缺陷的吸引(正)缺陷。
正负折射率材料组成的一维光子晶体的能带及电场3王同标 刘念华(南昌大学高等研究院,南昌 330031)(2006年11月14日收到;2007年2月2日收到修改稿) 计算了由正负折射率材料交替排列组成的一维光子晶体的能带及电场,发现其能带不同于由普通正折射率材料组成的光子晶体的能带.当选择合适的参数时,由正负折射率材料组成的光子晶体的TE 模或T M 模有完全光子带隙出现,这在普通光子晶体中不出现.导带中的电场波函数与普通光子晶体相比具有很强的局域性.对于负折射率材料层为色散介质的情况,计算了在不同的具有正负折射率区域能带.关键词:光子晶体,负折射率,能带PACC :4270Q ,4110H3国家自然科学基金(批准号:10664002)资助的课题. 通讯联系人.E 2mail :nhliu @11引言在过去的十多年里,由于其独特的光学特性及潜在的应用价值,光子晶体(photonic crystals )引起了人们的广泛关注.负折射率材料又称左手系材料(left 2handed materials ),最早由Veselag o [1]在理论上提出,它是由负的介电常数和负的磁导率组成.电磁波在负折射率材料中传播时,其波矢量的方向与能量的传播方向相反,将会出现许多不寻常的现象,例如,逆Doppler 效应、逆Cerenkov 效应,反常光压等[1].但是,由于自然界中不存在这种具有负折射率的材料,所以负折射率长期以来没有引起人们的重视.2000年,Smith 等人[2]制作了世界上第一块等效介电常数和等效磁导率同时为负数的介质,负折射率材料的研究又引起了人们的极大的兴趣.用负折射率材料做成完美透镜[3],可以同时将行波和衰减波会聚在一起.将负折射率材料应用到光子晶体中制成新型光子晶体,具有与普通的光子晶体不同的许多性质.光子带隙形成的原因是周期性介电结构中Bragg 散射场的干涉.在光子晶体中引入缺陷会破坏它的这种周期性结构,在Bragg 带隙中就会有缺陷模出现.当光的入射角由垂直入射变为斜入射时,介质层和缺陷层的有效光学长度都会减小,这就影响到光子晶体内部的干涉过程,导致Bragg 带隙和缺陷模同时向高频方向移动.人们通过在光子晶体中引入缺陷、非线性、色散介质等方法[4—7],可以对光的传播进行调控.目前,有许多关于负折射率材料光学性质的研究[8—12].在普通光子晶体中加入一层负折射率材料缺陷,将使简并模劈裂,透射谱不随入射角变化,并且在带隙中有缺陷模出现[8].在由普通材料和透明负折射率材料的组成的一维光子晶体中,可以在三维方向上出现完全光子带隙,因而可以在三维方向上限制光的传播[13].文献[14]研究了由正负折射率材料组成的层状异质结构,得到了不同于Bragg 带隙的零平均带隙,设计了一种具有这种带隙的金属结构的光子晶体,并用FDT D 方法模拟了它的光学特性.本文研究由正负折射率材料交替排列组成的一维光子晶体的能带及带边的电场分布,这种光子晶体的能带结构与普通光子晶体有很大的差别,当选择合适的参数时,会出现完全光子带隙(abs olute gap )[15],这在普通光子晶体中不出现.完全带隙上、下带边的电场与导带中的电场分布有明显的不同,并且也不同于普通光子晶体带边的电场分布.当入第56卷第10期2007年10月100023290Π2007Π56(10)Π5878205物 理 学 报ACT A PHY SIC A SI NIC AV ol.56,N o.10,October ,2007ν2007Chin.Phys.S oc.射能量为一定值时,光会局域在空间特定的区域,形成较强的局域性.21理论模型 考虑由A ,B 两层介质沿x 轴方向周期性交替排列组成的一维光子晶体,这种结构在y 和z 方向为各向同性的.A 层与B 层的厚度分别为h 1,h 2,折射率分别为n 1,n 2,周期为L =h 1+h 2.在图1中示意出了电磁波在光子晶体中传播的TE ,T M 两种极化形式.图1 电磁波在一维光子晶体中传播的TE ,T M 极化示意图设电磁波与上述系统的x 方向成θ角入射,入射波的波矢为k =k x e x +k y e y ,入射频率为ω=c |k |Πn 0,c 是真空中的光速,e x ,e y 分别为沿x ,y 方向的单位矢量.Bloch 波形的解为E K (x ,y )=E K (x )e i K x e i k y y,(1)这里E K (x ,y )是一个场分量,它是以L 为周期的周期函数.K 为Bloch 波数,它的解为K =i a ln 12Tr (U (α))±14[Tr (U (α))]2-11Π2,(2)其中U (α)为A ,B 层的传输矩阵,通过计算(2)式,可以得到色散关系的表达式[16]cos (k z L )=1+Λ2cos (k (1)x h 1+k (2)x h 2)+1-Λ2cos (k (1)x h 1-k (2)x h 2),(3)其中Λ=12k (2)x k (1)x +k (1)x k (2)x,(TE )12n 21k (2)x n 22k (1)x +n 22k (1)xn 21k (2)x,(T M )(4)k (α)x=(ωn αΠc )2-k 2y ,(α=1,2),Bloch 波数K 限制在第一Brillouin 区,即-πΠL <K <πΠL .31由正负折射率材料交替排列组成的一维光子晶体的能带及电场 在本节的数值计算中,频率以ωo =2πc ΠL 为单位,长度以λ0=L Π2π为单位.考虑由正负折射率材料交替排列组成的一维光子晶体,利用(3)式给出的色散关系,给出了能带与界面内波矢k y 的关系,如图2所示,其中允许带用阴影部分表示,禁带用空白区域表示.可以看出,由正负折射率材料组成的光子晶体具有与普通光子晶体完全不同的能带.相对于普通光子晶体而言,由正负折射率材料组成的光子晶体有的带隙会闭合,形成更宽的导带,有的带隙会变宽.随着波矢分量k y (即入射角度的增加)的增加,导带会突然变窄,导致上、下带边重合在一起,形成透射峰,从图中可以看出,这些窄带分布于两条光在均匀介质中的色散曲线(图中的直线)之间.当选择合适的参数时,这种光子晶体的TE 模会出现完全带隙(图2中第一个带隙).图2 正负折射率材料组成的一维光子晶体的能带 TE 模具有完全带隙,取正折射率A 层为真空,负折射率B 层的ε2=-016,μ2=-019,A ,B 的厚度之比h 1Πh 2=0165Π0135在图2中,给出的是负折射率材料的|n 2|<1时的能带,在图3中,给出的是负折射率材料|n 2|>1时的能带.可以看出,与图2相似,窄带也是分布于两条光在均匀介质中的色散曲线之间.同样选择合适的参数,T M 模也会出现完全带隙(图3中第一个带隙).在图4中给出了TE 模完全带隙的上、下带边及上带边附近的导带的电场分布,其中取100个周期.可以看出,完全带隙的上、下带边电场都是周期性分978510期王同标等:正负折射率材料组成的一维光子晶体的能带及电场图3 正负折射率材料组成的一维光子晶体的能带 T M模具有完全带隙,取正折射率A 层为真空,负折射率B 层ε2=-115,μ2=-212,A ,B 的厚度之比h 1Πh 2=014Π016布的(图4(a ,b ));上带边附近导带的电场具有很强的局域性(图4(c )).由于光子晶体由正负折射率材料组成,当入射光的能量取一定的值时,由于能量在界面上的多重反射,光子会局域在特定的区域,所以电场会出现局域性.由于光在垂直入射到光子晶体上时,TE 模与T M 模具有完全相同的性质,所以T M 模的电场分布也与图4相似.图4 对应图2的电场分布 (a )ωΠω0=11189508;(b )ωΠω0=11341507;(c )ωΠω0=1113在计算能带的过程中,选择了与文献[15]不同的参数,这说明TE 模或T M 模出现完全带隙的条件并不是特别严格,在计算中发现介电常数和磁导率选定以后,A ,B 层的厚度之比在一个较小的范围内都有完全带隙出现.但是无论如何选择参数,都不能使得TE 模和T M 模同时出现完全带隙.在图5给出了当平均折射率为零,即〈n 〉=(n 1h 1+n 2h 2)ΠL =0时的TE 模的能带与透射谱.当光垂直入射时,禁带会变得很宽,在禁带内有一些完全透射的透射峰出现,各透射峰之间的频率差几乎相等,当入射角度增大到一定的值时(即k y 增大一定的值时),会形成完全透射,如图中灰色区域所示.当入射角继续增大时,又出现新的禁带,并且在两条均匀介质中的色散曲线之间,上、下带边重合在一起,形成透射峰.但是禁带和透射峰的位置相对于垂直入射时出现了很大的变化.图5 平均折射率为零时的透射谱及TE 模的能带图6 对应图5的透射峰频率为ωΠω0=41732001的电场分布图6给出当这种光子晶体的周期数取为80时,对应图5中的第六个透射峰(频率为ω=41732001ω0)的电场.可以看出电场分布在整体上是扩展的,如图6(a )所示,将6(a )图放大以后,可以看到电场是局域化的,如图6(b ),(c )所示,并且由6(c )图可以看出,在空间分布上与普通光子晶体的电场分布相比,电场的局域性更强,且局域在负折射率的0885物 理 学 报56卷一层,在正折射率层中电场呈现正弦式的微小变化.41负折射率层为色散介质的一维光子晶体的能带 自然界中不存在负折射率介质,负折射率采用常数也只是一个理想化的模型.一般来说,负折射率材料的折射率是与频率ω有关的量,所以我们采用色散介质来代替负折射率层,它的介电常数和磁导率可以用下面的式子表示[17]:ε2=1-ω2p ω2,μ2=1-Fω2ω2-w 2r ,(5)其中ωp 为等离子体频率,ωr 为共振频率,F 为填充指数.为计算方便,在这里频率以ω0=c ΠL 为单位.取ωp =10ω0,ωr =4ω0,F =0156,h 1=h 2=015.采用传输矩阵的方法,可以计算这种光子晶体的透射谱,如图7所示.它的透射谱与普通光子晶体相比,具有更多的带隙,并且带隙宽度变化也比较大,有许多带隙密集在共振频率附近,如图7(c )所示.图7 负折射率层为色散介质的光子晶体的透射谱 其中(b )和(c )是改变了频率范围的(a )的局部放大图通过计算(3)式,得到这种光子晶体的能带,如图8所示.可以看到在色散曲线(直线)1的上方,它的能带与普通光子晶体的相似,这是因为在这条曲线的上方ε2和μ2都为正值.在色散曲线(直线)2的下方,能带与普通光子晶体很有很大差别.将色散曲线2下面的能带进行局部放大后,可以发现这与正负折射率材料交替排列组成的光子晶体有相似的能带,因为在这条曲线的下方ε2和μ2同时为负值.并且在共振频率附近,能带十分密集,这与图7(c )的透射谱符合的很好.在色散曲线1与2之间的区域色散介质为单负情况,即ε2和μ2其中之一为负值,波在这个区域是倏逝波.图8 负折射率层为色散介质的光子晶体的能带 图(b )为图(a )的局布放大图51结论 本文研究了由正负折射率材料交替排列组成的一维光子晶体的能带及电场,发现这种光子晶体与普通光子晶体具有不同的能带.并且当选择合适的参数时,TE 模或T M 模会出现完全光子带隙,这在普通光子晶体中是难以实现的.完全带隙的上、下带边的电场是周期性的,导带中的电场分布具有较强的局域性.当这种光子晶体的平均折射率为零时,禁带会变得很宽,在禁带中会出现一些几乎均匀分布的透射峰,这些透射峰的电场都具有很强的局域性.还讨论了负折射率材料层为色散介质的情况,得到了在不同的正负折射率区域的复杂的能带.188510期王同标等:正负折射率材料组成的一维光子晶体的能带及电场[1]Veselag o V p.10509[2]Smith D R,Padilla W J,Vier D C,Nemat2Nasser S C,Schultz S2000Phys.Rev.Lett.844184[3]Pendry J B2000Phys.Rev.Lett.853966[4]Liu N H1997Phys.Rev.B554097[5]Liu N H,Zhu S Y,Chen H2001Phys.Rev.B64165105[6]Liu N H,Zhu S Y,Chen H,Wu X2002Phys.Rev.E65046607[7]Zhou J G,Du G Q,Zhang Y W,Liu N H2005Acta Phys.Sin.543703(in Chinese)[周金苟、杜桂强、张亚文、刘念华2005物理学报543703][8]Xu K Y,Zheng X G,Li C L,She W L2005Phys.Rev.E71066604[9]D ong H X,Jiang H T,Y ang C Q,Shi YL2006Acta Phys.Sin.551000(in Chinese)[董海霞、江海涛、杨成全、石云龙2006物理学报551000][10]Shi H Y,Jiang Y Y,Sun X D,G uo R H,Zhao Y P2005Chin.Phys.141571[11]Jiang T,Chen Y,Feng YJ2006Chin.Phys.151009[12]D ong Z G,Zhu S N,Liu H2006Chin.Phys.151772[13]Shadriv ov I V,Sukhorukov A A,K ivshar Y S2005Phys.Rev.Lett.95193903[14]Li J,Zhou L,Chan C T,Sheng P2003Phys.Rev.Lett.90083901[15]Bria D,R ouhani B D,Akjouj A,D obrzynski L,Vigneron L,E lBoudouti E H,N ougaoui A2004Phys.Rev.E69066613 [16]Fink Y,W inn J N,Fan S H,Chen C P,M ichel J,Joannopoulos JD,Thomas E L1998Science821679[17]Ruppin R2000Phys.Lett.A27761Band structure s and electric fields of one2dimensional photonic crystals compo sed of alternate layers of left2handedand right2handed materials3W ang T ong2Biao Liu Nian2Hua(Institute for Advanced Study,Nanchang Univer sity,Nanchang 330031,China)(Received14N ovember2006;revised manuscript received2February2007)AbstractW e theoretically studied the band gap structure of one2dimensional photonic crystals constituted by alternate layers of left2 handed and right2handed materials,and found that the band gap structure is different from the usual photonic crystals.W ith an appropriate choice of the parameters,we show that it is possible to realize an absolute band gap for either TE or T M polarization of the electromagnetic waves,which can not be found in normal photonic crystals.The wave function of electric field in the pass band is strongly localized com pared with the normal photonic crystals.And we give an exam ple in which we substitute the left2 handed materials with dispersion materials,and get different energy bands in different areas.K eyw ords:photonic crystals,negative refraction,energy bandPACC:4270Q,4110H3Project supported by the National Natural Science F oundation of China(G rant N o.10664002).C orresponding author.E2mail:nhliu@2885物 理 学 报56卷。
含负折射率缺陷的一维光子晶体的杂质带
安丽萍;刘念华
【期刊名称】《光子学报》
【年(卷),期】2009(38)2
【摘要】利用传输矩阵方法研究了含负折射率缺陷的一维光子晶体的透射谱.以19个周期的1/4波堆存在3个负折射率缺陷的光子晶体为例进行了数值计算.结果表明:如果改变缺陷的折射率,缺陷模之间的耦合作用将发生改变,带隙中形成的杂质带也随之改变;当这个折射率取适当值时,在禁带中出现多个尖锐的透射峰,与正折射率缺陷构成的杂质带不同.
【总页数】4页(P289-292)
【关键词】光子晶体;负折射率缺陷;杂质带;滤波
【作者】安丽萍;刘念华
【作者单位】燕山大学物理系;南昌大学物理系
【正文语种】中文
【中图分类】O431
【相关文献】
1.含负折射率介质一维光子晶体的缺陷模热辐射特性 [J], 王畅;杨娜;杜军;王乐新;张平;
2.含负折射率介质一维光子晶体的缺陷模热辐射特性 [J], 王畅;杨娜;杜军;王乐新;张平
3.含双负缺陷的一维光子晶体耦合腔的杂质带特性 [J], 董海霞;江海涛;杨成全;石云龙
4.含负折射率缺陷的正负交替光子晶体的缺陷模 [J], 胡莉
5.含负折射率材料一维光子晶体的全方位带隙和缺陷模 [J], 尚廷义;郑义;张会云;张玉萍;姚建铨
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一维掺杂光子晶体的缺陷模和偏振特性研究
刘启能
【期刊名称】《激光杂志》
【年(卷),期】2007(28)1
【摘要】利用特征矩阵法研究了两种偏振光通过一维掺杂光子晶体的缺陷模特征和偏振特性,结果表明:S偏振光的缺陷模对应的入射角随着入射波长的增大而增大,而P偏振光的缺陷模对应的入射角却随着入射波长的增大而减小;P偏振光存在明显的“广义布儒斯特角”对应的允许带,其“广义布儒斯特角”随着入射波长的增大而减小,S偏振光不存在“广义布儒斯特角”。
【总页数】2页(P37-38)
【关键词】掺杂光子晶体;缺陷模;偏振特性
【作者】刘启能
【作者单位】重庆工商大学理学院
【正文语种】中文
【中图分类】O436
【相关文献】
1.光子晶体缺陷模的偏振特性研究 [J], 金铱;黄正逸;陈宪锋;唐丽;是度芳
2.一维多层掺杂光子晶体缺陷模的偏振特性 [J], 刘启能
3.一维光子晶体缺陷模的偏振特性研究 [J], 陈征;王涛
4.引入零平均折射率材料掺杂的一维光子晶体缺陷模的特性研究 [J], 王吉科;闫珂
柱;姜迎迎
5.一维光子晶体缺陷模偏振特性的研究 [J], 刘启能
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第
卷 第 期 年 月 文章编号:1007-791X (2008) 02-0149-04
燕山大学学报
正负折射率材料组成的一维光子晶体的能带及缺陷模
安丽萍 ,王明利 ,李曙光
( 摘 燕山大学 理学院,河北 秦皇岛 )
要:利用光学传输矩阵方法,研究了由正折射率材料和负折射率材料交替组成的一维光子晶体的能带结构
和缺陷模特性。
结果表明,在正入射时,含负折射率材料的光子晶体的带隙要比传统的光子晶体要大得多,并 具有狭窄的透射带。
计算了含有普通电介质缺陷层和特异介质缺陷层两种情况下的透射谱,发现在正入射时, 对于正负折射率材料组成的一维光子晶体引入普通电介质缺陷层时,其缺陷模的个数随着缺陷厚度的增大而增 多,这种特性在滤波器方面有重要的应用价值。
而对于传统光子晶体中引入特异介质缺陷层时,随着缺陷厚度 的增大,新的缺陷模并没有出现。
关键词:光子晶体;传输矩阵;负折射率材料;缺陷模 中图分类号:O431 文献标识码:A
引言
近两年来, 一种称为负折射率系数介质的人工 复合材料在理论和实验上引起了广泛关注 折射率材料具有负的介电常数和磁导率。
早在 年 首先研究了这种负折射率系数材料 , 。
在负折射率材料中,电磁波的 , 和波 矢 三者构成左手螺旋关系,所以它还被称为左手 材料( )或特异介质( ) 由于传统材料的折射率为正数,在本文中 。
称之为正折射率材料或普通电介质。
负折射率材料 具有一些奇特的光学与电磁学性质,比如 效应与 辐射的逆转、交界面的反常折 射、 原子自发辐射率的特殊改变等现象在负折射率 材料中都会出现 。
光子晶体是按照晶体的对称性制备的周期性 介电结构, 其最基本的特征就是具有带隙结构 。
光子晶体的带隙结构由光子晶体的对称性、 组分材 料的介电函数和原胞的尺寸决定。
把具有负介电常 数和磁导率的负折射率材料引入到光子晶体当中, 必然会得到新的传输特性。
由正负折射率材料交替 的多层膜体系能加强光子隧道效应并存在
收稿日期: 作者简介:安丽萍(
平顶区。
含负折射率材料的一维光子晶体具有 。
个反常现象,即复频域的赝模、实数波数的离散 模和复数波矢的光子隧道模 。
负
本文利用传输矩阵法研究了由正折射率和负 折射率材料交替组成的一维光子晶体的能带结构 和缺陷模特性。
他用方程证明这种材料具有负的光学折射率,即
模型与计算
考虑由 , 两种不同的材料沿 轴方向交替生 长的多层膜体系,相应的实际厚度分别为 和 , 晶格周期为 。
其中 层为正折射率材料, 介 电常量为 , 磁导率为 , 层为负折射率材料,介 电常量为 ,磁导率为 ,折射率分别为 和 。
光波如图 所示,从空气中入射到 由正负折射率材料交替生长的多层膜上, 代表电磁 波的传播方向和介质表面法线方向的夹角。
根据文献 ,电磁波在分层介质中的传输
特性可以用传输矩阵表示。
在任意一层(第 层)内 的光场满足以下波动方程
方程的一般解可表示为
) ,女,山西平遥人。
讲师。
主要研究方向为光子晶体理论。
燕山大学学报
数值计算
其中, 是界面坐标。
定义以下二分量波函数描述 电磁场 下面对具有对称结构为 中上脚标 厚度 , 则电磁场满足以下矩阵关系 , 表示 的正负折射率
交替组成的一维光子晶体给出数值计算的结果, 其 两层的周期数。
取两层的光学 ( 为中心波长) ,设 ,
,图 给出了在正入射
情况下,该结构透射率随频率变化关系曲线。
其中
其中,
,对于正折射率材料取
一维传统光子晶体
“ ” ,而对于负折射率材料取“ ” 。
利用电磁场的 切向分量在界面上连续的条件, 设衬底的折射率为 ,可得透射系数为
其中, 是以下矩阵的矩阵元
含有负折射率材料的一维光子晶体
其中, 为第 层的厚度,它的序列与多层膜体系的 结构一致。
对于 波可得到类似的结果。
从图 倍
图
一维光子晶体的透射谱
中可以看出其透射谱特征:在奇数 的地方
的地方具有很宽的带隙, 在偶数倍
具有狭窄的透射带。
与具有相同绝对值参数的传统 光子晶体的透射谱相比较(如图 偶数倍 所示) ,在 的附近区域,它们具有完全不同的透射
谱。
对于传统的光子晶体, 其透射谱是一段有振荡 的透射区;而对于含负折射率材料的光子晶体, 其
图 含负折射率材料的一维光子晶体的结构示意图
透射迅速单调减少,形成狭窄的透射带。
将上述正负折射率材料交替组成的对称结构 为 的一维光子晶体的中间一层 换成折射率
第
期
安丽萍 等
正负折射率材料组成的一维光子晶体的能带及缺陷模
为正的普通电介质缺陷层 , 即结构为 。
这里讨论的缺陷层 是理想的即不 考虑介质的色散、吸收以及缺陷层两边 数也是固定时缺陷模的特性。
取 算: , , , , 的周期 , ,这
对于缺陷层的厚度,取下列一组不同的值分别计
计算结果如图 所示。
样缺陷厚度 是逐渐增大的。
从图 中可以看出, 随着缺陷厚度的增大, 缺 陷模数目依次增多,即有新的缺陷模产生,这种特 性在滤波器设计方面有重要的参考价值。
图 在正负折射率材料组成的一维光子晶体中引入普通 电介质缺陷层 时的透射谱( )
如果将结构完全相同且具有相同绝对值参数 的传统光子晶体的中间一层换成折射率为负的特 异介质缺陷层 ,取 , ,对于缺陷 层的厚度与图 计算相对应, 数值计算发现, 在这 种传统光子晶体中引入特异介质缺陷层时, 随着缺 陷厚度的增大, 新的缺陷模并未出现。
如图 所示。
燕山大学学报
参考文献
刘念华 傅继武 物理学报
非线性对一维光子晶体能带的影响
图
在传统光子晶体中引入特异介质缺陷层 时的透射 谱( )
安丽萍 刘念华 一维光子晶体中多缺陷耦合导致的杂质带
结论
利用光学传输矩阵方法, 研究了由正折射率材 料和负折射率材料交替组成的一维光子晶体的能 带结构和缺陷模特性。
结果表明,在正入射时,含 负折射率材料的光子晶体的带隙要比传统的光子 晶体要大得多,并具有狭窄的透射带。
计算了含有 普通电介质缺陷层和特异介质缺陷层两种情况下 的透射谱,发现在正入射时, 对于正负折射率材料 组成的一维光子晶体引入普通电介质缺陷层时, 其 缺陷模的个数随着缺陷厚度的增大而增多, 即随着 缺陷厚度的增大有新的缺陷模产生, 这种特性在滤 波器设计方面有重要的参考价值。
而对于传统光子 晶体中引入特异介质缺陷层时, 随着缺陷厚度的增 大,新的缺陷模并没有出现。
光子学报
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燕山大学学报
升专业力和技术力。
管理创新要从领导力、制度 力、文化力、信息力、经济力和控制力等方面进 行,要统筹兼顾,全面协调。
通过不断创新,为企 业提升领导力、制度力、文化力、信息力、经济力 和控制力营造良好的执行环境, 从而提升执行主体 的执行力。
以上是依据执行力原理提出的基于执行主体 和执行客体的执行力提升策略。
值得指出的是这些 策略并不是彼此孤立的, 它们之间相互联系, 相互 作用。
只有将这些策略协调整合, 才能从整体上提 升企业的执行力。
参考文献
邓方 执行力的核心是落实 周永亮 本土化执行力模式 中国保险 北京 中国发展出版社 经济与管理
李鑫 苏永明 李广助 管理者与企业执行力
侯贵松 领导力
北京 中国纺织出版社 北京 中国时代出版
张云红 完美执行之最佳企业文化 社 秦杨勇 张正龙 控制力
北京 中国经济出版社
Discussion of executive force principle and strategy to improve
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Band structures and defect mode of one-dimensional photonic crystals composed of alternate layers of negative and positive refraction materials
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