哈氏槽(赫尔槽)原理及相关试验说明

霍尔槽（哈式槽）试验及结果解读广东科斯琳电镀实验设备关键词：霍尔槽,电镀一.霍尔槽是一种试验效果好，操作简单、所需溶液体积小的小型电镀试验槽。

它可以较好的确定获得外观合格镀层的电流密度范围及其它工艺条件。

生产现场常用来快速解决镀液所发生的问题。

二.小型霍尔槽结构下面是工厂电镀制程控制常用的霍尔槽基本结构(市面上可以购买到带加热、通入压缩空搅拌孔等设计精良的成品)霍尔槽结构示意图三.霍尔槽的试验装置及实验方法1.试验装置:2.试验方法a.溶液的选择为了获得正确的试验结果，选择的溶液必须具有代表性。

重复试验时，每次试验所取溶液的体积应相同。

当使用不溶阳极时，溶液经1~2次电镀后应更换新液。

如采用可溶性阳极则最多试验4~5次后更换新液。

在测微量杂质或添加剂的影响时，每槽试验次数应酌情减少。

b.阴阳极材料的选择阴阳极材料通常是平面型薄板，阳极厚度不超过5MM，阴极厚度为0.2~1MM，阳极材料应与生产中使用的阳极相同。

c.电流大小霍尔槽电流大小通常在0.5~2A范围内。

d.试验时间及温度一般在5~10分钟，试验温度应与生产相同。

四.霍尔试片判定(以镀锡为例)1.背面背面看片原则:先看背面的异常现象,再判定可能造成的原因.a.先从HULLCELL片背面中间剖开,再看高电流密度区(添加剂)与低电流密度区(开缸剂)有没有失去平衡:(例如往高电流密度区缩小是添加剂不足,往低电流密度区缩小是开缸剂不够).b.看三层云分布:正常HULLCELL片背后会出现三层云(即亮层/浓雾层/淡雾层)如下示意图.HULLCELL片背面区域c.如果为全浓雾或无亮,判定是添加剂或补充剂不够,酸不足,建浴剂不足.d.如果都是淡淡的薄雾浓雾少,且将要收缩,可能是添加剂或酸过量.e.有出现三层云,向中间凹进去的话,主要原因有主盐不够或沉积速率不够.沉积速率不够可能原因为(添加剂过量或不足b;酸不足)。

2.看正面正面看片原则:由正面现象来验证或排除第一项的可能原因HULLCELL片正面示意图a.看高中低电流密度区光泽分布状况:与高电流密度区是否有有机分解污染及界面与低电流密度区是否有无机析出。

霍尔槽Hull Cell [霍尔槽、赫尔槽或哈氏槽]赫尔槽试验一、赫尔槽试验的特点及其应用赫尔槽试验只需要少量镀液，经过短时间试验便能得到在较宽的电流密度范围内镀液的电镀效果。

由于该试脸对镀液组成及操作条件作用敏感，因此，常用来确定镀浓各组分的浓度以及pH值，确定获得良好镀层的电流密度范围，同时也常用于镀液的故障分析。

因此，赫尔槽已成为电镀研究、电镀工艺控制不可缺少的工具。

二、赫尔槽的形状及试验装置1．赫尔槽结构赫尔槽常用有机玻璃或硬聚氯乙烯等绝缘材料制成，底面呈梯形，阴、阳极分别置于不平行的两边，容量有1000mL，267mL两种。

人们常在267mL试验槽中加入250mL镀液，便于将添加物折算成每升含有多少克。

2．赫尔槽试验装置赫尔槽试验电路与一般的电镀电路相同，电源根据试验对电压波形要求选择。

串联在试验回路中的可变电阻及电流表用以调节试验电流及电流指示，并联的电压表用以指示试验的槽电压。

三、赫尔槽阴极上的电流分布赫尔槽的阴极板与阳极板互不平行，阴极的离阳极较近的一端称近端；另一端离阳极远，称远端。

由于电流从阳极流到阴极的近端和远端的路径不同，不同路径槽液的电阻也不同，因此阴极上的电流密度从远端到近端逐渐增大，250mL 的赫尔槽近端的电流密度是远端的50倍。

因而一次试验便能观察到相当宽范围的电流密度下所获得的镀层。

有人经过酸性镀铜、酸性镀镍、橄化镀锌、氰化镀镐四种镀液在不同电流强度下进行电镀试验并取它们的平均值，得到阴极上各点的电流密度与该点离近端距离关系的经验公式：1000mL赫尔槽Jk=I*（3.26一3.05 1ogl）267mL赫尔槽Jk=I*(5.10一5.24 1ogl)式中Jk—阴极上某点的电流密度值〔A/dm2〕;I--试验时的电流强度（A）；l--阴极上该点距近端的距离(cm)．必须注意，靠近阴极两端各点计算所得的电流密度是不正确的。

艺=0.635--8.255cm范围内，计算值有参考价值．267mL赫尔槽中放入250mL镀液做试脸时，阴极上各点的电流密度应是267mL的1.068倍，即267mL赫尔槽阴极的相应点的电流密度乘上267/250。

霍尔槽（哈式槽）试验及结果解读一．霍尔槽是一种试验效果好，操作简单、所需溶液体积小的小型电镀试验槽。

它可以较好的确定获得外观合格镀层的电流密度范围及其它工艺条件。

生产现场常用来快速解决镀液所发生的问题。

二．小型霍尔槽结构下面是工厂电镀制程控制常用的霍尔槽基本结构(市面上可以购买到带加热、通入压缩空搅拌孔等设计精良的成品)霍尔槽结构示意图三.霍尔槽的试验装置及实验方法1.试验装置:2.试验方法a.溶液的选择为了获得正确的试验结果，选择的溶液必须具有代表性。

重复试验时，每次试验所取溶液的体积应相同。

当使用不溶阳极时，溶液经1~2次电镀后应更换新液。

如采用可溶性阳极则最多试验4~5次后更换新液。

在测微量杂质或添加剂的影响时，每槽试验次数应酌情减少。

b.阴阳极材料的选择阴阳极材料通常是平面型薄板，阳极厚度不超过5MM，阴极厚度为0.2~1MM，阳极材料应与生产中使用的阳极相同。

c.电流大小霍尔槽电流大小通常在0.5~2A范围内。

d.试验时间及温度一般在5~10分钟，试验温度应与生产相同。

四.霍尔试片判定(以镀锡为例)1.背面背面看片原则:先看背面的异常现象,再判定可能造成的原因.a.先从HULLCELL片背面中间剖开,再看高电流密度区(添加剂)与低电流密度区(开缸剂)有没有失去平衡:(例如往高电流密度区缩小是添加剂不足,往低电流密度区缩小是开缸剂不够).b.看三层云分布:正常HULLCELL片背后会出现三层云（即亮层/浓雾层/淡雾层）如下示意图.HULLCELL片背面区域c.如果为全浓雾或无亮,判定是添加剂或补充剂不够,酸不足,建浴剂不足.d.如果都是淡淡的薄雾浓雾少,且将要收缩,可能是添加剂或酸过量.e.有出现三层云,向中间凹进去的话,主要原因有主盐不够或沉积速率不够.沉积速率不够可能原因为(添加剂过量或不足b;酸不足)。

2.看正面正面看片原则:由正面现象来验证或排除第一项的可能原因HULLCELL片正面示意图a.看高中低电流密度区光泽分布状况:与高电流密度区是否有有机分解污染及界面与低电流密度区是否有无机析出。

本文部分内容来自网络整理，本司不为其真实性负责，如有异议或侵权请及时联系，本司将立即删除！== 本文为word格式，下载后可方便编辑和修改！ ==赫尔槽实验报告篇一：实验电镀赫尔槽试验调整电镀液实验电镀赫尔槽试验调整电镀液广东科斯琳电镀添加剂提供电镀技术支持电镀液性能变化后必然从镀层上反映出来，要想从一张试验试片上反映出宽电流密度范围内的镀层状况，最简单的试验还是赫尔槽试验。

利用赫尔槽试验，是广东科斯琳电镀添加剂对电镀光亮剂开发及日常维护镀液的主要手段。

供同行参改。

电镀光亮镀镍：影响光亮镀镍效果的因素很多，而不仅仅取决于光亮剂。

利用赫尔槽试验可以调整出良好的效果。

硼酸含量的判定硼酸被广泛用作微酸性电镀液作PH值缓冲剂。

在光亮镀镍中，硼酸还有细化结晶，提高光亮整平性及扩展低区光亮范围的作用，应充分重视，其含量以控制在使用液温下不结晶析出为限。

赫尔槽试片上的反映：1，55度左右搅拌镀3 MIN(2A)，若试片高中DA区有灰白现象（润湿剂又足够时），补加 5 G/L左右硼酸则有明显好转，为硼酸不足。

2. 55度左右1A搅拌镀5MIN，若低区光亮性不足，而PH值又不低，光亮剂足够，可试加5G/L左右硼酸，若有时显好转，则硼酸不足。

镍盐判定：新酸亮镍液，55度左右3A静镀3MIN，试片高端无烧焦。

若生产槽液，赫尔槽2A静镀都有烧焦，而PH值正常，不差硼酸，则主盐不足，此时可视情况补加镍盐，当氯化镍正常时，镀液应带有黑绿色，若镀液是淡的绿色，可能氯离子不足，应补加10G/L左右氯化镍，若镀液带墨绿色，可补加20G//L左右硫酸镍。

主盐浓度不足，不仅烧焦区宽，光亮整平性也变差。

氯离子：氯离子在亮镍液中通常用于阳极活化剂，防止镍阳极钝化，实际上，由于氯化镍的扩散系数远比硫酸镍大，因此，足量的氯离子有助于提高镀液分散能力和扩展低区光亮范围，其作用有时还非常明显，因而新配液的氯化镍含量不宜低45G/L.赫尔槽判定：当镀液PH值在4.6-5.0时，1A搅拌镀5MIN，低区光亮性差，补加光亮剂后效果仍不理想，若补加8-10G/L氯化镍，改善明显，则肯定氯离子不足。

哈氏槽又称霍尔槽,赫尔槽,HULL CELL是一种对电镀溶液既简单又实用的试验槽，系为R.O.Hull 先生在1939 年所发明的。

有267 CC、534 CC 及1000 CC 三种型式，但以267 最为常用。

可用以式验各种镀液，在各种电流密度下所呈现的镀层情形，以找出实际操作最佳的电流密度，属于一种"经验性"的试验。

一、哈氏片的意义：在最大程度上近似的模仿实际电镀的状况，便于我们定性的了解电镀槽的状况，从而更好的控制生产品质二、铜槽哈氏片：试验需求：铜槽药水、少许光泽剂、铜哈氏槽、整流器、打气机、码表、阳极铜板、哈氏片、微量吸管试验方法：1 将铜槽药水装入哈氏槽中，液位平齐标线(267ml)2 均匀的磨好哈氏片，以没有水破为准3 将哈氏片作为阴极，铜板作为阳极，开启打气，电流强度为2A，镀5分钟判断：①哈氏片左侧为高电流区，在此区域，烧焦宽度小于5毫米为合格，若烧焦宽度大于5毫米，则可以以微量吸管添加光泽剂，再重复试验注：铜槽药水一次最多只能镀3~4次，再多则失效②若高电流区完全没有烧焦，而哈氏片右侧低电流区现云雾状态，说明光泽剂过量③哈氏片反面表示槽液穿透能力，若也可以均匀且有光泽的镀上铜，说明穿透力良好三、锡槽哈氏片：试验需求：锡槽药水、少许光泽剂、锡哈氏槽、整流器、码表、阳极锡板、哈氏片、微量吸管试验方法：1 将锡槽药水装入哈氏槽中，液位平齐标线(267ml)2 均匀的磨好哈氏片，以没有水破为准3 将哈氏片作为阴极，锡板作为阳极，电流强度为1A，镀5分钟判断：①光泽剂不足之判定同铜哈氏片注：锡槽药水一次最多只能镀3~4次，再多则失效②判定贯孔能力看哈氏片背面，若形成的弧线平滑，说明贯孔能力良好，否则不佳。

赫尔槽实验报告赫尔槽实验报告引言：赫尔槽实验是一种常用的流体力学实验方法，它通过观察液体在槽中的流动情况，研究流体的运动规律和流体力学的基本原理。

本次实验旨在通过赫尔槽实验，探究流体的运动特性以及流动的稳定性。

实验目的：1. 了解赫尔槽实验的基本原理和实验装置；2. 观察流体在赫尔槽中的流动形态，并分析流动的特点；3. 探究流体流动的稳定性以及影响因素。

实验装置：赫尔槽实验装置主要由赫尔槽、水泵、流量计、压力计等组成。

赫尔槽是一种长方形槽，内部光滑，底部设有可调节的倾斜角度。

水泵通过管道将水送入赫尔槽，流量计和压力计用于测量水的流量和压力。

实验步骤：1. 将赫尔槽放置在水平台上，并调整倾斜角度；2. 打开水泵，调节流量计，使水流进入赫尔槽；3. 观察水在赫尔槽中的流动情况，并记录相关数据；4. 调整倾斜角度和流量，再次观察流动情况。

实验结果与分析：在实验中，我们观察到水在赫尔槽中的流动形态具有一定的规律性。

当倾斜角度较小时，水流呈现出平稳的流动状态，流线较为整齐；而当倾斜角度增大时，水流呈现出湍流的现象，流线变得杂乱无章。

通过对实验数据的分析，我们发现流量对水流的稳定性有着重要的影响。

当流量较小时，水流较为平缓，流线相对整齐；而当流量增大时，水流的速度增加，流线变得复杂，流动不再稳定。

此外，倾斜角度也是影响水流稳定性的关键因素之一。

当倾斜角度较小时，水流的重力分量较小，流动相对稳定；而当倾斜角度增大时，水流的重力分量增加，流动变得不稳定。

结论：通过赫尔槽实验，我们得出以下结论：1. 流量和倾斜角度是影响水流稳定性的重要因素；2. 当流量较小时，水流较为平稳，流线整齐；3. 当倾斜角度较小时，水流较为稳定；4. 流体的流动特性与流量和倾斜角度有关，需要综合考虑。

实验的局限性：本次实验仅通过赫尔槽实验装置进行观察和分析，结果可能受到实验装置的限制。

此外，实验中仅使用了水作为流体，对于其他流体的流动特性可能存在差异。

1、目的对赫尔槽试验的操作方法进行说明，通过赫尔槽试验来对电镀槽液进行分析和管理。

2、适用范围公司镀铜、镀镍、镀铬、镀锌槽液，用赫尔槽试验还可帮助确定镀液中某些成分的最佳含量、选择适宜的电镀工艺条件、确定镀液中添加剂和杂质的含量，以及帮助分析故障原因、预测电镀故障和测定镀液的分散能力、覆盖能力及整平能力等。

3、试验准备3.1仪器设备：赫尔槽（250ml、267ml），材料一般为有机玻璃或硬聚氯乙烯板。

电源，12V直流电源。

阳极板（63*70mm、厚度3-5mm），材料参照表1。

阴极试片（100*65mm，厚度0.25-1mm），材料参照表1。

试片表面必须平整，前处理与现场条件一致。

镀锌赫尔槽试片可用320#或400#水磨砂纸沙平，砂磨时用力要均匀，砂纹要平直，经水砂纸打磨的试片，必须用水冲洗，除去固体颗粒，并用酸活化，以防止不正常现象的出现。

需进行分析的镀液：若干。

一般根据要进行的试验次数取相应体积的镀液，每次试验需250ml。

取样应有代表性，样品应充分混合，若混合有困难时，可用移液管在溶液的不同部位取样，每次所取溶液体积应相同。

3.2试验条件温度、搅拌等情况，应与现场条件一致。

表1赫尔槽试验条件4试验规范4.1倒入样液将250ml样液小心倒入267ml赫尔槽中。

若生产时需要在较高的温度下进行，因有机玻璃赫尔槽难以加热，可先将镀液在镀前放入其他容器中加热至高于生产操作时的温度（一般高于生产操作温度2-5℃），然后将镀液倒入试验的赫尔槽中，待温度冷至高于操作温度0.5℃左右开始试验。

如需要，插上气泵使样液搅拌均匀。

4.2阳极安装取与样液相应的阳极板清洗干净，紧贴赫尔槽的梯形直角边，并用阳极（“+”极，红色）导电鳄鱼夹夹紧。

注意夹子表面洁净、无油污或锈蚀，且夹子不能接触到液面。

4.3阴极试片安装将清洗干净的试片紧贴阳极对面的斜边，并用阴极（“-”极，黑色）导电鳄鱼夹夹紧。

注意夹子表面洁净、无油污或锈蚀，且夹子不能接触到液面。

循环哈氏槽-概述说明以及解释1.引言1.1 概述在循环哈氏槽(Cyclic Haar Slot)的定义和原理之前，我们首先需要了解哈氏槽(Haar Slot)的概念。

哈氏槽是一种基于Haar小波变换的信号处理技术，广泛应用于图像处理、信号分析和模式识别等领域。

哈氏槽的基本原理是将信号进行Haar小波分解，将其转换为不同频率的低频和高频成分。

而循环哈氏槽则是在哈氏槽的基础上进行了进一步的优化和改进，使其适用于更加复杂的信号处理任务。

循环哈氏槽具有以下特点：首先，它具备多层次的分析能力，能够同时提取信号中的时域和频域特征，从而能够更全面地描述信号的特征。

其次，循环哈氏槽具有较好的局部化特性，能够较好地保留信号的局部细节信息，有利于对信号进行深入的分析。

此外，循环哈氏槽还具有良好的稳定性和可解释性，能够准确地描述信号的变化趋势和特征。

循环哈氏槽在许多领域都有着广泛的应用。

在图像处理领域，循环哈氏槽可以用于图像的边缘检测、纹理分析和目标识别等任务。

在信号分析领域，循环哈氏槽可以用于信号的压缩、去噪和特征提取等应用。

此外，循环哈氏槽还可以应用于模式识别、数据挖掘和机器学习等任务中，为相关算法提供有效的特征表示。

本文将详细介绍循环哈氏槽的定义和原理，并重点探讨其在图像处理和信号分析领域的设计和应用。

通过对循环哈氏槽的研究和探索，我们可以更好地理解其优势和局限性，并展望未来在其技术发展上的方向。

1.2文章结构1.2 文章结构本文主要分为三个部分：引言、正文和结论。

在引言部分，我们将首先对循环哈氏槽进行概述，介绍它的定义和原理。

接着，我们会详细探讨循环哈氏槽的设计和应用，包括其在不同领域中的具体应用案例。

最后，在结论部分，我们将总结循环哈氏槽的优势，并展望未来的发展方向。

通过本文的阐述，读者将能够全面了解循环哈氏槽的基本概念、工作原理以及其在实际应用中的价值和前景。

在正文部分的第一部分，我们将详细介绍哈氏槽的定义和原理。