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光刻胶综述报告光刻胶分类应⽤综述报告name(class ID)摘要：光刻胶是曝光技术中重要的组成部分。
⽂章对光刻胶的概念做了简单的介绍，以及其相关的反应机理，归纳总结了光刻胶的分类及对应的应⽤，并对其性能指标和研究⽅向作了简单的概括分析。
关键词：光刻胶，反应机理，分类应⽤，性能指标，研究⽅向The Report of the Review of PhotoresistNAMEAbstract: Photoresist is the important constitute of exposure technology. This article simply illustrate the concept and the reaction mechanism. The classifications and applications are reviewed, also with the performance indexes and research direction. Keywords: photoresist, reaction mechanism, classification and application, index, research direction前⾔作为微电⼦技术核⼼的集成电路制造技术是电⼦⼯业的基础，其发展更新的速度是其他产业⽆法企及的。
电⼦化⼯材料是电⼦⼯业中扫的关键性基础化⼯材料，电⼯业的发展要求电⼦化⼯材料与之同步发展，不断的更新换代，以适应其在技术⽅⽽不同推陈出新的需要。
在集成电路微细加⼯技术过程中，光刻胶及蚀刻技术是起关键的⼯艺技术[1]。
光刻胶⼜称为光致抗蚀剂，即通过紫外光、电⼦束、离⼦束、X射线等的照射或辐射，使其溶解度发⽣变化的耐蚀刻薄膜材料。
主要⽤于集成电路和半导体分⽴器件的微细加⼯，同时在平板显⽰、LED、倒扣封装、磁头及精密传感器等制作过程中也有着⼴泛的应⽤[2]。
气体激光器气体激光器是利用气体或蒸汽作为工作物质产生激光的器件。
气体激光器广泛应用于工农业生产、国防、科研、医学等领域，如计量、材料加工、激光医疗、激光通信、能源等方面。
气体激光器的原理气体激光器由放电管内的激活气体、一对反射镜构成的谐振腔和激励源等三个主要部分组成。
主要激励方式有电激励、气动激励、光激励和化学激励等。
其中电激励方式Z常用。
在适当放电条件下，利用电子碰撞激发和能量转移激发等，气体粒子有选择性地被激发到某高能级上，从而形成与某低能级间的粒子数反转，产生受激发射跃迁。
气体激光器一般采用气体放电激励，还可以采用电子束激励、热激励、化学反应激励等方式。
气体激光器波长覆盖范围主要位于真空紫外至远红外波段，激光谱线上万条，具有输出光束质量高(方向性及单色性好)、连续输出功率大(如CO2激光器)等输出特性，其器件结构简单、造价低廉。
气体激光器的应用气体激光器是利用气体作为增益介质的激光器，一般是对气体放电进行泵浦。
气体种类有原子气体(氦氖激光器、惰性气体离子激光器、金属蒸汽激光器)、分子气体(氮气激光器、二氧化碳激光器)、准分子气体，还有通过化学反应提供泵浦能量的特殊气体激光器。
氦氖气体激光器(HeNe)是以75%以上的He和15%以下的Ne的混合气体作为增益介质，根据工作环境不同，可发出绿(543.5nm)、黄(594.1nm)、橙(612.0nm)、红(632.8nm)及三种近红外光(1152nm、1523nm和3391nm)，其中红光(632.8nm)Z为常用。
HeNe气体激光器输出的光束呈高斯分布，光束质量非常稳定，虽然功率不高，但在精密测量领域有着不俗的表现。
惰性气体激光器常见的是氩离子(Ar+)和氪离子(Kr+)。
其能量转化率Zgao 可达0.6%，可长期连续稳定输出30-50w的功率，寿命超过1000h。
主要用于激光显示、拉曼光谱、全息、非线性光学等研究领域以及医疗诊断、打印分色、计量测定材料加工及信息处理等方面。
赖老师的课到期中考试为止一共有9次作业，依次分别由冯成坤、饶文涛、黄善津、刘明凯、郑致远、黄瑜、陈奕峰、周维鸥和陆锦洪同学整理，谨此致谢！作业一：1、桌上有一本书，书与灯至桌面垂直线的垂足相距半米。
若灯泡可上下移动，灯在桌上面多高时，书上照度最大？（假设 灯的发光强度各向通性，为I0） 解：设书的面积为dA ，则根据照度的定义公式：dAd I dA d E 0Ω==φ （1）其中Ωd 为上图所示的立体角。
因而有：2/32222)h (L hdA h L cos dA d +⋅=+⋅=Ωθ （2） 将（2）式代入（1）式得到：2/3220)h (L hI E += （3） 为求最大照度，对（3）式求导并令其等于零，0dhdE= 计算得：m 221h =因而，当高度为m 221时书上的照度最大。
2、设He-Ne 激光器中放电管直径为1mm ，发出波长为6328埃的激光束，全发散角为θ=10-3rad ，辐射通量为3mW ，视见函数取 V(6328)=0.24，求： （1）光通量，发光强度，沿轴线方向的亮度？（2）离激光器10米远处观察屏上照明区中心的照度？（3）若人眼只宜看一熙提的亮度，保护眼镜的透射系数应为多少？ 解：（1）光通量：lm 49.010324.0638V K 3m v =⨯⨯⨯=Φ⋅⋅=Φ-θ 发光强度：cd 1024.64d d I 52vv ⨯≈Φ=ΩΦ=θπ 亮度：211235m /cd 1059.7)10(41024.6dAcos dI L ⨯≈⨯⨯==-πθ轴（2）由题意知，10米远处的照明区域直径为： m 101010L D 23--=⨯=⋅=θ从而照度为：lx 9.6238)10(4149.0D 4E 222v=⨯⨯=Φ=-ππ（3）透射率：81141026.11095.710L 1T -⨯≈⨯==轴（熙提）作业二1、说明蓝色火焰与黄色火焰的色温谁高，为什么？ 答：色温是用黑体的温度来标度普通热辐射源的温度。
第37卷 第9期中 国 激 光V ol.37,N o.92010年9月CHINESE JOURNAL OF LASERSSeptember,2010文章编号:0258 7025(2010)09 2253 18准分子激光技术发展(邀请论文)余吟山 游利兵 梁 勖 方晓东*(中国科学院安徽光学精密机械研究所,安徽合肥230031)摘要 介绍了准分子的基本能级结构、光谱特性及产生激光的激励方式。
简要回顾了准分子激光及实用准分子器件的发展历史。
着重阐述了放电激励准分子器件的相关技术,如大能量与大功率技术、高重复频率技术、光束控制技术和激光电源技术等。
分析了准分子激光光刻应用及近期技术发展,介绍了准分子激光在工业、医疗和生产领域的应用。
关键词 激光器;准分子激光技术;放电激励;光刻中图分类号 T N 248.2 文献标识码 A doi :10.3788/CJL 20103709.2253Progress of Excimer Lase rs Technology(Invited Paper)Yu Yinshan You Lib ing Liang Xu Fang Xiao dong(An hui In stitu te of Opt ics an d Fin e M echa nics ,Chinese Aca dem y of S ciences ,Hef ei ,Anhu i 230031,China )Abstract The fundamental characteristics of excimer are introduced briefly and the historic al development ofexcimer la sers is reviewed.The progress of exc imer tec hnology espec ially for disc harge pumped excimer lasers is presented detailedly.The key technologies recently employed to improve the performance of excimer lasers for lithography a re analyzed.The applic ations of discharge pumped excimer lasers in industry,medicine and scientific researc h are a lso discussed.Key wo rds la sers;exc imer lasers technology;disc harge pump;lithography收稿日期:2010 07 02;收到修改稿日期:2010 07 20基金项目:国家科技重大专项资助课题。
稀有气体双原子稳定性及电子相关作用研究陈丽【摘要】在HF、二阶微扰理论MP2以及组态相互作用QCISD理论水平上,并考虑零点能和基组重叠误差(BSSE)修正,计算了HeR+和HeR(R=He,Ne,Ar,Kr)系列的稳定性.离子体系间的解离能均大于中性体系间的解离能,离子体系比中性体系更加稳定;电子相关效应大幅度缩短了稀有气体原子之间的距离,增加了振动频率,从而使体系更加紧凑稳定.【期刊名称】《甘肃高师学报》【年(卷),期】2016(021)003【总页数】3页(P17-18,83)【关键词】稀有气体;稳定性;电子相关作用【作者】陈丽【作者单位】兰州城市学院培黎汽车工程学院,甘肃兰州730070【正文语种】中文【中图分类】O461近年来，稀有气体团簇引起了人们的关注，其尺度范围小于块体，可以制成具有独特的热学、光学、力学、电磁学性质的新型材料.利用光电离效率谱、光电离质谱以及阈值光电子光离子复合测量等方法，能够确定团簇的尺寸、电离能和解离能以及识别光电离效率谱中的部分谱峰值.［1-2］利用电子复合荧光光谱、光电离质谱以及电子碰撞光诱导结合电离等方法可以对稀有气体双原子体系的结合能及低激发态能量进行研究.［3］卤族元素和稀有气体形成的双原子范德华分子在准分子激光方面也有重要的作用.［4］Cybulskir用CCSD（T）/aug-cc-pV5z方法计算了He2，Ne2，Ar2，He-Ne，He-Ar，Ne-Ar的基态势能曲线，预测了平衡键长、解离能和转动常数等.［5］本研究在HF二阶微扰理论MP2以及组态相互作用QCISD理论水平上对稀有气体离子体系HeR+和中性体系HeR（R=He，Ne，Ar，Kr）系列的平衡几何和振动频率进行了优化计算，考虑零点能和基组重叠误差（BSSE），修正后计算了解离能，讨论了电子相关效应对体系的结构的影响.在HF、二阶微扰理论MP2以及组态相互作用QCISD下，采用6-311++G（d，p）水平优化稀有气体离子体系HeR+和中性体系HeR（R=He，Ne，Ar，Kr）系列的平衡几何并计算振动频率，然后考虑三激发组态对能量的贡献，最后在QCISD（T）/6-311++G（d，p）水平并考虑零点能和基组重叠误差（BSSE）修正计算解离能.所有计算采用Gaussian 03程序完成.在HF、二阶微扰理论MP2以及组态相互作用QCISD理论水平上对稀有气体离子体系HeR+和中性体系HeR（R=He，Ne，Ar，Kr）系列的平衡几何和振动频率、解离能进行了优化计算，计算结果如表1、表2所示.2.1 HeR+（R=He，Ne，Ar，Kr）稳定性从表1、表2中可以看出，在相同理论水平（MP2，QCISD）上，中性结构（He-R）的键长Re比相应的离子结构的长，在QCISD上，从中性体系到离子体系，键长分别减小0.003nm（R=He），0.001nm （R=Ne），0.002nm （R=Ar），0.001nm （R=Kr）.对于（He-R），无论是中性体系还是离子体系，随着R的原子序数增大，键长变长.例如HeHe+-HeNe+，键长从0.110nm增加到0.148nm；HeHe-HeNe，键长从0.113nm增加到0.149nm.在（He-R）中，对于确定的R原子，He-R+间的相互作用比He-R间的相互作用强；在QCISD理论水平上，He-R+（R=He，Ne，Ar，Kr）的解离能依次为 2.253eV，0.390eV，0.0116eV，0.0085eV；He-R（R=He，Ne，Ar，Kr）的解离能依次为1.125eV，0.194eV，0.0062eV，0.0041eV.R的原子序数越大，解离能越小，稳定性越差.离子体系间的解离能均大于中性体系间的解离能，中性体系中（He-R）间很弱的色散作用占据主导作用；在离子体系中则是离子和诱导偶极矩间较强的相互作用占主导地位，故离子体系中的相互体系作用要比中性体系的强，由此导致中性体系中的键长比离子体系的要长.2.2 HeR+（R=He，Ne，Ar，Kr）弱相互作用在二次组态相互作用QCISD以及二阶微扰理论MP2理论水平上考虑电子相关效应，通过比较QCISD（或MP2）和HF的结果来研究电子相关效应对几何结构，振动频率以及解离能的影响.对于由基函数引起的重叠基组误差（BSSE），采用Boys的完全均衡校正法（Full Counterpoise Procedure）加以消除.Hartree-Fock方法是在某种平均意义上研究电子运动，每个电子感受到同一个平均电子密度，但忽略了自旋相反电子运动的瞬时效应而引起的效应.由于电子相关效应在当前的弱相互作用体系中具有非常重要的作用，本文用二次组态相互作用QCISD以及二阶微扰理论MP2方法考虑电子相关效应.比较二次组态相互作用QCISD以及HF方法的结果讨论电子相关效应对体系几何结构、振动频率以及稳定性的影响.电子相关效应对体系的结构有很大影响，在QCISD理论水平上，电子相关效应缩短键长，由表1可知，电子相关效应依次缩短了0.024nm（HeHe+），0.031nm（HeNe+），0.045nm（HeAr+），0.058（HeKr+）.在不考虑电子相关效应的情况下，稀有气体原子之间几乎没有相互作用，而考虑了电子相关效应之后之间才有微弱的作用，从表1、表2可见电子相关效应大幅度缩短了稀有气体原子之间的距离，还增加了振动频率.在HF、二阶微扰理论MP2以及二次组态相互作用QCISD（T）理论水平上对稀有气体离子体系HeR+和中性体系HeR（R=He，Ne，Ar，Kr）系列的平衡几何和振动频率进行了优化计算，考虑零点能和基组重叠误差（BSSE）修正后计算了解离能.电子相关效应大幅度缩短了稀有气体原子之间的距离，增加了振动频率.在不考虑电子相关效应的情况下，稀有气体原子之间几乎没有相互作用，而考虑了电子相关效应之后他们之间才有微弱的作用.R的原子序数越大，解离能越小，稳定性越差；离子体系间的解离能均大于中性体系间的解离能，离子体系中的相互体系作用要比中性体系的强，由此导致中性体系中的键长比离子体系的要长.【相关文献】［1］YOSHII H，TSUKAMOTO K，HAYAISHI T.et al.Dissociation processes of Kr2+andKr3+studied by threshold photoelectron-photoion coincidence measurements［J］.J Chem Phys，2005，123（18）：184303-184307.［2］孔蕊弘，单晓斌，王恩胜.Kr和Krz的实验和理论研究［J］.Acta Chimica Sinica，2008，66（13）：1508-1512.［3］BONHOMMEAU D，BOUISSOU T，HALBERs TADT N.Modelization of the fragmentation dynamics of krypton clusters（Kr，n=2～11）followingelectron impact ionization［J］.J ChemPhys，2006，124（16）：164308-164317.［4］J.Wei，S.Zhuo，G.Ju.Rules of Electron Correlation Energies of ComplexesRgX（Rg=Ar，Kr，X=F，Cl，Br）.Int.J.Quant.Chem.2003，97：977-982.［5］CYBULSKI S M，TOCZYLOWSKI R R.Ground state potential energy curves for He2，Ne2，Ar2，He-Ne，He-Ar and Ne-Ar：A coupled-cluster study ［J］.J Chem Phys，1999，111（23）：10520-10528.［6］HUBER K P，HERZBERG G.Molecular Spectraand Molecular StructureⅣ.Constants of Diatomic-Molecules［M］.New York：Van Nostrand Reinhold，1979.。
准分子激光器的工作原理是基于准分子的形成和解体过程中的能量释放来产生激光。
准分子是一种短暂存在的激发态分子，通常由稀有气体和卤素或金属元素组成。
它们在电子激发状态下形成，但在返回到基态时会迅速分解，释放出能量。
准分子激光器就是利用这一过程来产生激光的。
具体原理如下：
1. 激发过程：在准分子激光器中，通过电子束、放电或其他方式激发气体混合物，使得气体分子达到激发态并形成准分子。
2. 激光发射：准分子在返回到基态时会释放出光子，这些光子具有相同的波长和相位，从而形成了高度相干的光——即激光。
3. 波长特性：由于准分子激光器工作在紫外波段，它们具有短波长、高光子能量的特点，这使得它们在许多工业应用中具有优势。
准分子激光器的应用非常广泛，包括材料加工（如半导体晶片的刻蚀）、医疗手术、科学研究等。
它们的一些主要特点包括波长短、光子能量大、平均功率高，以及能够进行脉冲工作等。
总的来说，准分子激光器的设计和优化是一个复杂的过程，涉及到对气体高压放电等离子体深紫外激光系统的深入理解和研究。
随着技术的发展，准分子激光器在各个领域的应用也在不断扩展和完善。
3国家自然科学基金和广东省自然科学基金资助项目。
收稿日期∶1996—04—01;收到修改稿日期∶1996—06—17第24卷 第5期中 国 激 光V o l.A 24,N o .5 1997年5月CH I N ESE JOU RNAL O F LA SER S M ay ,1997电子束激励的稀有气体碱金属离子准分子(XeR b )+和(K rR b )+的真空紫外发射3邢 达(华南师范大学激光与生命科学研究所 广州510631)提要 由相对论电子束激发稀有气体和碱金属R b 的混合蒸气,观察到来自(XeR b )+和(K rR b )+离子准分子的两个真空紫外发射带,其波长分别在164nm 和133nm 。
关键词 真空紫外发射,离子准分子,电子束激发 在过去十年中,准分子已经被证明是产生从可见到中紫外区相干辐射的高功率、高效率介质。
这种高效率的最根本原因是准分子激光介质具有稳定的束缚态的上能级和非稳定的空的下能级,这种能级特点使得准分子系统极易形成粒子数反转和实现高的反转密度。
为了进一步把这种具有准分子特点的激光向更短的波长推进,离子准分子被建议作为一种真空紫外图1(KrK )+离子准分子的ab initio 计算势能曲线[11] F ig .1The po tential curves of (KrK )+i onicexci m er from ab initio calculati ons [11](VU V )和极紫外(XU V )谱区的激光介质[1,2]。
其后,这种产物被由使用带电粒子束激励和激光等离子体产生的软X 射线泵浦而观测到[3～9]。
不久前,本文作者还报道了关于碱金属卤化物体系离子准分子和稀有气体2碱金属体系离子准分子的ab in itio 计算结果[10,11]。
在可能的实用性激光器件中,要求有一个较高的上能级反转粒子数密度和足够的激活体积。
这两点非常可能会由大电流高能电子束泵浦来解决[12]。
本研究中,作为发展这种稀有气体2碱金属体系离子准分子激光器的基本步骤,我们报道由相对论电子束激励的(XeR b )+和(K rR b )+离子准分子发射光谱的实验观察。
一个典型的稀有气体2碱金属型离子准分子的ab in itio 势能曲线在图1中给出。
其中基态是一个弱束缚态,对(K rK )+分子为0115eV 。
而第一激发态21≤+则是一个强束缚态,其势阱深度为018eV [11],对(XeR b )+和(K rR b )+系统其ab in itio 势能曲线还未见报道,但半经典的计算结果已经给出,随碱金属原子序数的增加,其基态的势阱深度204中 国 激 光24卷逐渐变浅,而第一激发态的势阱逐渐变深,即准分子的特点更加明显。
这类离子准分子的势能结构非常类似于稀有气体2卤化物准分子XeF的情况。
1 实验装置 使用在本实验中的装置类似于在文献[13,14]中所描述的。
电子束由一个改装的Febe2 tron706提供,它可产生一个峰值电流415kA,束流直径210c m,脉冲宽度3n s(FW HM),以及电子能量500keV的电子束流。
此电子束流被一个轴向外加的0115T的均匀磁场(不均匀度小于2%)约束,穿过阳极膜以及一个15c m长的低压氦气池,沿纵向进入一个保持均匀R b 蒸气的热管炉。
此热池与低压氦气缓冲区(drifting secti on)之间被一个kap ton膜(CCK膜)隔开。
热管炉具有直径为45c m,总长为100c m,以及由冷却体位置限制的55c m长的均匀蒸气区。
来自热管炉激活区内的荧光由一个焦长为10c m的L iF透镜聚焦进入一个012m焦长的真空紫外单色仪(A RC)。
代替出射狭缝的是一个能把真空紫外光转换为可见光的荧光转换板,荧光板上的光谱图像被一个高质量的光学成像系统成像在光学多道光谱分析仪(P rince2 ton In strum en ts,Inc.)的CCD探测器(I R Y2512)像面上。
当使用1200条 mm的光栅时,此系统的光谱分辨能力是每道0112nm。
在大部分实验中,加在探测器上的门脉冲宽度是500n s。
在实验前,热管炉经过严格的烘烤和真空除气,10g的高纯R b(99199%)在一个气压的A r惰性气体保护下填入热管炉,经抽真空到10-6,充入Xe或K r,以及A r Xe和A r K r的混合气体。
R b的蒸气压被控制在01133～2.66kPa之间,这对应于一个300～430℃的温度范围。
碱金属蒸气的密度根据蒸气压曲线[15]和实测温度通过计算得出。
2 实验结果和讨论 图2(a)给出一个在电子束激励的Xe R b混合蒸气中观察到的VU V发射光谱。
Xe气体的压力是1313kPa,热管炉温度为390℃,此温度对应一个1133kPa的R b饱和蒸气压。
在164nm处,一个近似连续的结构被观察到了,它是贡献于(XeR b)+离子准分子的发射[6]。
光谱展现了一个4nm宽的发射峰,其位置近似与文献[7]中观察到的光谱位置相同。
除此之外在150～160nm之间还出现了一个弱的连续区。
初步认为这是同一个发射带的延续,对应较高的振动上能级。
观测也包括了170nm范围,这里是期望出现稀有气体Xe32准分子辐射的区域。
实验中,此区域内的Xe32准分子荧光仅在较高的Xe气压和较低的R b蒸气压时才被观测到。
对于Xe压力低于1313kPa和碱金属蒸气压大于01532kPa,Xe32准分子荧光完全被碱金属蒸气所猝灭。
实验中观测到的来自电子束激励的(XeR b)+离子准分子的VU V发射光谱在图2(b)中给出。
K r的气压是1313kPa,R b的蒸气压是11064kPa。
光谱展示了在133nm处有一个锐的发射峰,这比在离子束激励下[6]所观察到的光谱峰值位置稍偏向短波方向。
除此之外,在较低的R b蒸气压范围,也观察到了一个弱的K r32发射带(在145nm处)。
来自(XeR b)+和(K rR b)+离子准分子的发射也出现在A r或H e惰性气体被掺杂作为缓冲气体的情况,但是光谱的强度随A r或H e的压力增加而减小,特别是H e作缓冲气体的情况。
观察到的光谱的主要性质(峰值位置和形状)基本上不随缓冲气体的掺杂以及R b 蒸气压的变化而有明显的改变。
除在较高的温度范围内,光谱上出现一些凹陷,这是由于铷蒸气(主要是R b 和R b 2)或稀有气体2铷分子的吸收的缘故。
图2(a )电子束激励的(XeRb )+离子准分子(热管炉温度390℃;Xe 气体压力1313kPa )和(b )(KrRb )+离子准分子(热管炉温度375℃;Kr 气体压力1313kPa )的VUV 发射光谱F ig .2(a )Em issi on spectrum in the spectral regi on from 145to 185nm fo r the electron 2beam 2excited Xe Rb m ixture .Thecell temperature is 390℃and the xenon gas p ressure is 13.3kPa ;(b )Em issi on spectrum in the spectral regi on from 115to 155nm fo r the electron 2beam 2excited Kr Rb vapo r m ixture .The cell temperature is 375℃ and the kryp ton gas p ressure is 13.3kPa图3给出了(XeRb )+和(KrRb )+的21≤+→11≤+发射的模拟计算光谱,计算中利用了修正的稀有气体2K 离子的势能曲线[17],振动态粒子数被假设为线性Surp risal 分布[16]F ig .3The si m ulati on spectra fo r the transiti on of (a )(XeRb )+,and (b )(KrRb )+by using the po tential curves given inref .[17]w ith the modificati on of the transiti on energy ,and under the assump ti on of a linear surp risal distributi on [16]为了给出一个实验与理论的比较,我们计算了(XeR b )+和(K rR b )+的21≤+11≤+跃迁的F ranck 2Condon 因子。
在计算中,利用了稀有气体2钾分子离子的ab in itio 势能曲线,并作了其中跃迁能量的修正。
计算结果表明,发射光谱几乎全部来自上能级到基态的较长核间距范围的跃迁,而基态这段势能曲线已接近于解离线,所以跃迁终止处的势能曲线几乎是平的,这样的势能特点将造成一个准连续的发射光谱结构。
图3(a )和(b )给出了(XeR b )+和(K rR b )+的21≤+11≤+发射的模拟计算光谱,计算中考虑了上电子态的10个较低的振动能级。
振动态粒子数被假设为非热平衡分布,并且计算中使用了一个线性Su rp risal 分布的假设[16]。
理论计算光谱清楚地展现了(XeR b )+的跃迁有一个主峰在165nm ,并具有向短波方向扩散的准连续光谱结构。
而对(K rR b )+的计算结果给出了一个类似的中心在135nm 的准连续谱带。
这些结果与实验观察到的结果非常一致。
3045期邢 达等:电子束激励的稀有气体碱金属离子准分子(XeR b )+和(K rR b )+的真空紫外发射比较图2(a )和(b )与图3(a )和(b )可以看到,观察到的164nm 和133nm 的发射带可以分别标识为(XeR b )+和(K rR b )+离子准分子的21≤+11≤+跃迁。
另外,从计算的结果还可以看到,图2给出的实验观察到的荧光光谱中,应该包括从21≤+的很多振动能级的跃迁,这是由于电子束的非选择性激发的结果。
出现在图1(a )中的153～160nm 之间以及图1(b )中的122～130nm 范围的弱连续区,可能贡献于(XeR b )+和(K rR b )+上能级的较高振动态到基态的长核间距范围的跃迁。
图4观察到的(a )(XeRb )+和(b )(KrRb )+准分子荧光发射的温度依赖性F ig .4O bserved temperature dependence of the fluo rescences of (a )(XeRb )+and (b ) (KrRb )+i onic quasi 2exci m ers实验中,在300～430℃的温度范围内(对应R b的饱和蒸气压为01133～2.66kPa )观察了(XeR b )+的164nm 和(K rR b )+的133nm 发射强度的温度依赖性,其结果如图4所示。
