完成Si与下列物质反应的化学方程式: 完成 与下列物质反应的化学方程式: 与下列物质反应的化学方程式
常温可与 2 ,HF ,NaOH 反应; 常温可与F 反应; 加热条件下可与O2,H2 ,Cl2 等物质反 加热条件下可与 应
(2)二氧化硅 ) 结构: 结构: 空间网状结构的原子晶体. 空间网状结构的原子晶体. 化学性质: 化学性质: 酸性氧化物(与碱性氧化物反应,碱反应), 酸性氧化物(与碱性氧化物反应,碱反应), 不溶于水,特殊反应( 与碳反应. 不溶于水,特殊反应(与HF反应 ),与碳反应. 反应 与碳反应 SiO2与碱的反应,说明 与碱的反应,说明NaOH等碱性溶液不使 等碱性溶液不使 用玻璃塞的试剂瓶. 的反应, 用玻璃塞的试剂瓶.SiO2与HF的反应,说明 的反应 氢氟酸不能用玻璃试剂瓶,而应用塑料瓶. 氢氟酸不能用玻璃试剂瓶,而应用塑料瓶.
3.一氧化碳和二氧化碳的比较 一氧化碳和二氧化碳的比较
(1)一氧化碳 ) 物理性质 五色无味气体,剧毒(结合血红蛋白 结合血红蛋白), 五色无味气体,剧毒 结合血红蛋白 ,难溶于水 化学性质 ①可燃性 还原性(与 的反应) ②还原性 与Fe304,CuO,H20的反应 , 的反应 ③不成盐氧化物 实验室制法 收集方法:排水法 收集方法 排水法 检验方法:点燃后在火焰上方罩上干燥的烧杯 点燃后在火焰上方罩上干燥的烧杯, 检验方法 点燃后在火焰上方罩上干燥的烧杯,无水 雾出现,罩沾有澄清的石灰水的烧杯, 雾出现,罩沾有澄清的石灰水的烧杯,出现浑浊 工业制法主要用途 燃料,还原剂,化工原料 工业制法主要用途:燃料 还原剂, 燃料,
课堂之外
硅的制取 : 在半导体及集成电路的发展史上,硅是 在半导体及集成电路的发展史上, 极其重要的角色,因此研究计算机的地方称为硅谷, 极其重要的角色 , 因此研究计算机的地方称为硅谷 , 集成电路需要超纯度的硅,它是怎样产生的呢? 集成电路需要超纯度的硅,它是怎样产生的呢 高温时 SiO2+2C=Si+2CO↑ 主要副反应为: 主要副反应为:SiO2+3C=SiC+2CO↑ 因此生产的粗硅所含的杂质有 ,Si02,SiC等,它 因此生产的粗硅所含的杂质有C, 等 们都是高熔沸点物质.为了提纯硅采用下列方法: 们都是高熔沸点物质.为了提纯硅采用下列方法: 将制得的粗硅与Cl 作用得到SiCl4 ;SiCl4的沸点很 将制得的粗硅与 2作用得到 可以采用蒸馏的方法反复提纯,直所需的纯度; 低 , 可以采用蒸馏的方法反复提纯 , 直所需的纯度 ; 然后,再用H 还原即可得到纯硅. 然后,再用 2 还原即可得到纯硅.