预镀离子(氧化剂):Mz+ + ze- -催化-表-面→ M
电镀工艺学
电镀工艺学
• 化学镀要求:
镍、钴、铑、 钯等
1)沉积反应只限制在具有催化作用的制件表面上进 行,而溶液本身不应自发地发生氧化还原作用。
2)对于不具有自动催化表面的制件,需经过特殊的预 处理,使其表面活化而具有催化作用,才能进行化 学镀。
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(5)稳定剂(热力学不稳定体系)
镀液稳定性下降的因素:
• 加热方式不当,导致局部过热;
• 溶液调整补充不当,导致局部pH值过高;
• 镀液有杂质;
溶液自发分解 有金属镍颗粒生成
• 装载量过大或过小
※必须慎重使用稳定剂
稳定剂又是镀镍的毒化剂
使用过量,轻则降低镀电镀速工艺,学 重则不再起镀。
化学镀镍中常用的稳定剂 1)重金属离子
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•酸性液,pH=4~
8.2.5•3温,T化<度7升0学℃高,,镀不镀沉镍速积。的工艺因素控制 (1)加•温快度镀。过液高,化亚学磷 成分的影响
酸不既盐稳增定要加。某,溶一液化学成分维持在最佳范围内,又要使其
•温度波动范围不
它各超种过+相2℃关化学成分及工艺参数保持在相应的最佳范 围之内。
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电镀镍硬度HV160-180
2)硬度高、耐蚀、耐磨性好。
化学镀镍层的硬度一般为HV400~700,
经适当热处理后还可进一步提高到接近甚至超过
铬镀层的硬度。
380~400oC
保温1h
气氛保护或真空热处理
3)化学稳定性高、镀层结合力好。
4)应用及工艺设计具有多样性和专用性。
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The Electroless Nickel Family