材料分析测试复习题及答案
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江西省理工大学材料分析测试题(可供参考)一、名词解释(共有20分,每小题2分.)1.辐射的发射:指物质吸收能量后产生电磁辐射的现象.2.俄歇电子:X射线或电子束激发固体中原子内层电子使原子电离,此时原子(实际是离子)处于激发态,将发生较外层电子向空位跃迁以降低原子能量的过程,此过程发射的电子.3.背散射电子:入射电子与固体作用后又离开固体的电子.4.溅射:入射离子轰击固体时,当表面原子获得足够的动量和能量背离表面运动时,就引起表面粒子(原子、离子、原子团等)的发射,这种现象称为溅射.5.物相鉴定:指确定材料(样品)由哪些相组成.6.电子透镜:能使电子束聚焦的装置.7.质厚衬度:样品上的不同微区无论是质量还是厚度的差别,均可引起相应区域透射电子强度的改变,从而在图像上形成亮暗不同的区域,这一现象称为质厚衬度.8.蓝移:当有机化合物的结构发生变化时,其吸收带的最大吸收峰波长或位置(最大)向短波方向移动,这种现象称为蓝移(或紫移,或“向蓝”).9.伸缩振动:键长变化而键角不变的振动,可分为对称伸缩振动和反对称伸缩振动.10.差热分析:指在程序控制温度条件下,测量样品与参比物的温度差随温度或时间变化的函数关系的技术.二、填空题(共20分,每小题2分.)1.电磁波谱可分为三个部分,即长波部分、中间部分和短波部分,其中中间部分包括(红外线)、(可见光)和(紫外线),统称为光学光谱.2.光谱分析方法是基于电磁辐射与材料相互作用产生的特征光谱波长与强度进行材料分析的方法.光谱按强度对波长的分布(曲线)特点(或按胶片记录的光谱表观形态)可分为(连续)光谱、(带状)光谱和(线状)光谱3类.3.分子散射是入射线与线度即尺寸大小远小于其波长的分子或分子聚集体相互作用而产生的散射.分子散射包括(瑞利散射)与(拉曼散射)两种.4.X射线照射固体物质(样品),可能发生的相互作用主要有二次电子、背散射电子、特征X射线、俄歇电子、吸收电子、透射电子5.多晶体(粉晶)X射线衍射分析的基本方法为(照相法)和(X射线衍射仪法).6.依据入射电子的能量大小,电子衍射可分为(高能)电子衍射和(低能)电子衍射.依据电子束是否穿透样品,电子衍射可分为(投射式)电子衍射与(反射式)电子衍射.7.衍射产生的充分必要条件是((衍射矢量方程或其它等效形式)加F2≠0).8.透射电镜的样品可分为(直接)样品和(间接)样品.9.单晶电子衍射花样标定的主要方法有(尝试核算法)和(标准花样对照法).10.扫描隧道显微镜、透射电镜、X射线光电子能谱、差热分析的英文字母缩写分别是( stm )、(tem)、(xps)、( DTA ).11. X 射线衍射方法有劳厄法、转晶法、粉晶法和衍射仪法 .12. 扫描仪的工作方式有连续扫描和步进扫描两种.13. 在 X 射线衍射物相分析中,粉末衍射卡组是由粉末衍射标准联合委员会编制,称为JCPDS卡片,又称为 PDF 卡片.14. 电磁透镜的像差有球差、色差、轴上像散和畸变 .15. 透射电子显微镜的结构分为光学成像系统、真空系统和电气系统.16. 影响差热曲线的因素有升温速度、粒度和颗粒形状、装填密度和压力和气氛 .三、判断题,表述对的在括号里打“√”,错的打“×”(共10分,每小题1分)1.干涉指数是对晶面空间方位与晶面间距的标识.晶面间距为d110/2的晶面其干涉指数为(220).(√)2.倒易矢量r HKL的基本性质为:r HKL垂直于正点阵中相应的(HKL)晶面,其长度r HKL等于(HKL)之晶面间距d HKL的2倍.(×)倒数3.分子的转动光谱是带状光谱.(×)线状光谱4.二次电子像的分辨率比背散射电子像的分辨率低.(×)高5.一束X射线照射一个原子列(一维晶体),只有镜面反射方向上才有可能产生衍射.(×)6.俄歇电子能谱不能分析固体表面的H和He.(√)7.低能电子衍射(LEED)不适合分析绝缘固体样品的表面结构.(√)8.d-d跃迁受配位体场强度大小的影响很大,而f-f跃迁受配位体场强度大小的影响很小.(√)9.红外辐射与物质相互作用产生红外吸收光谱必须有分子极化率的变化.(×)10.样品粒度和气氛对差热曲线没有影响.(×)四、单项选择题(共10分,每小题1分.)1.原子吸收光谱是(A).A、线状光谱B、带状光谱C、连续光谱2.下列方法中,( A )可用于测定方解石的点阵常数.A、X射线衍射线分析B、红外光谱C、原子吸收光谱 D 紫外光谱子能谱3.合金钢薄膜中极小弥散颗粒(直径远小于1m)的物相鉴定,可以选择(D ).A、X射线衍射线分析B、紫外可见吸收光谱C、差热分析D、多功能透射电镜4.几种高聚物组成之混合物的定性分析与定量分析,可以选择(A ).A、红外光谱B、俄歇电子能谱C、扫描电镜D、扫描隧道显微镜5.下列( B)晶面不属于[100]晶带.A、(001)B、(100)C、(010)D、(001)6.某半导体的表面能带结构测定,可以选择(D ).A、红外光谱B、透射电镜C、X射线光电子能谱 D 紫外光电子能谱7.要分析钢中碳化物成分和基体中碳含量,一般应选用(A )电子探针仪,A、波谱仪型B、能谱仪型8.要测定聚合物的熔点,可以选择( C ).A、红外光谱B、紫外可见光谱C、差热分析D、X射线衍射9.下列分析方法中,(A )不能分析水泥原料的化学组成.A、红外光谱B、X射线荧光光谱C、等离子体发射光谱D、原子吸收光谱10.要分析陶瓷原料的矿物组成,优先选择( C ).A、原子吸收光谱B、原子荧光光谱C、X射线衍射D、透射电镜11.成分和价键分析手段包括 b(a)WDS、能谱仪(EDS)和 XRD (b)WDS、EDS 和 XPS(c)TEM、WDS 和 XPS (d)XRD、FTIR 和 Raman12.分子结构分析手段包括 a(a)拉曼光谱(Raman)、核磁共振(NMR)和傅立叶变换红外光谱(FTIR)(b)NMR、FTIR 和 WDS(c)SEM、TEM 和 STEM(扫描透射电镜)(d) XRD、FTIR 和 Raman13.表面形貌分析的手段包括 d(a)X 射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM) (b) SEM 和透射电镜(TEM)(c) 波谱仪(WDS)和 X 射线光电子谱仪(XPS) (d) 扫描隧道显微镜(STM)和SEM14.透射电镜的两种主要功能: b(a)表面形貌和晶体结构(b)内部组织和晶体结构(c)表面形貌和成分价键(d)内部组织和成分价键五、简答题(共40分,每小题8分)答题要点:1.简述分子能级跃迁的类型,比较紫外可见光谱与红外光谱的特点.答:分子能级跃迁的类型主要有分子电子能级的跃迁、振动能级的跃迁和转动能级的跃迁.紫外可见光谱是基于分子外层电子能级的跃迁而产生的吸收光谱,由于电子能级间隔比较大,在产生电子能级跃迁的同时,伴随着振动和转动能级的跃迁,因此它是带状光谱,吸收谱带(峰)宽缓.而红外光谱是基于分子振动和转动能级跃迁产生的吸收光谱.一般的中红外光谱是振-转光谱,是带状光谱,而纯的转动光谱处于远红外区,是线状光谱.2.简述布拉格方程及其意义.答:晶面指数表示的布拉格方程为2d hkl sin=n,式中d为(hkl)晶面间距,n为任意整数,称反射级数,为掠射角或布拉格角,为X射线的波长.干涉指数表示的布拉格方程为2d HKL sin=.其意义在于布拉格方程表达了反射线空间方位()与反射晶面面间距(d)及入射线方位()和波长()的相互关系,是X射线衍射产生的必要条件,是晶体结构分析的基本方程.3.为什么说扫描电镜的分辨率和信号的种类有关试将各种信号的分辨率高低作一比较.答:扫描电镜的分辨率和信号的种类有关,这是因为不同信号的性质和来源不同,作用的深度和范围不同.主要信号图像分辨率的高低顺为:扫描透射电子像(与扫描电子束斑直径相当)二次电子像(几nm,与扫描电子束斑直径相当)>背散射电子像(50-200nm)>吸收电流像特征X射图像(100nm-1000nm).4.要在观察断口形貌的同时,分析断口上粒状夹杂物的化学成分,选择什么仪器简述具体的分析方法.答:要在观察断口形貌的同时,分析断口上粒状夹杂物的化学成分,应选用配置有波谱仪或能谱仪的扫描电镜.具体的操作分析方法是:先扫描不同放大倍数的二次电子像,观察断口的微观形貌特征,选择并圈定断口上的粒状夹杂物,然后用波谱仪或能谱仪定点分析其化学成分(确定元素的种类和含量).5.简述影响红外吸收谱带的主要因素.答:红外吸收光谱峰位影响因素是多方面的.一个特定的基团或化学键只有在和周围环境完全没有力学或电学偶合的情况下,它的键力常数k值才固定不变.一切能引起k值改变的因素都会影响峰位变化.归纳起来有:诱导效应、共轭效应、键应力的影响、氢键的影响、偶合效应、物态变化的影响等.6.透射电镜主要由几大系统构成各系统之间关系如何答:四大系统:电子光学系统,真空系统,供电控制系统,附加仪器系统.其中电子光学系统是其核心.其他系统为辅助系统.7.透射电镜中有哪些主要光阑分别安装在什么位置其作用如何答:主要有三种光阑:①聚光镜光阑.在双聚光镜系统中,该光阑装在第二聚光镜下方.作用:限制照明孔径角.②物镜光阑.安装在物镜后焦面.作用: 提高像衬度;减小孔径角,从而减小像差;进行暗场成像.③选区光阑:放在物镜的像平面位置.作用: 对样品进行微区衍射分析.8.什么是消光距离影响晶体消光距离的主要物性参数和外界条件是什么答:消光距离:由于透射波和衍射波强烈的动力学相互作用结果,使I0和Ig在晶体深度方向上发生周期性的振荡,此振荡的深度周期叫消光距离.影响因素:晶胞体积,结构因子,Bragg角,电子波长.。
期末考试卷:材料现代测试分析方法和答案一、选择题(每题2分,共20分)1. 下列哪一项不是材料现代测试分析方法?A. 扫描电子显微镜(SEM)B. 光学显微镜(OM)C. 质谱仪(MS)D. 能谱仪(EDS)2. 在材料现代测试分析中,哪种技术可以用于测量材料的晶体结构?A. X射线衍射(XRD)B. 原子力显微镜(AFM)C. 扫描隧道显微镜(STM)D. 透射电子显微镜(TEM)3. 下列哪种测试方法主要用于分析材料的表面形貌?A. 扫描电子显微镜(SEM)B. 透射电子显微镜(TEM)C. 原子力显微镜(AFM)D. 光学显微镜(OM)4. 在材料现代测试分析中,哪种技术可以用于测量材料的磁性?A. 振动样品磁强计(VSM)B. 核磁共振(NMR)C. 红外光谱(IR)D. 紫外可见光谱(UV-Vis)5. 下列哪种测试方法可以同时提供材料表面形貌和成分信息?A. 扫描电子显微镜(SEM)B. 原子力显微镜(AFM)C. 能谱仪(EDS)D. 质谱仪(MS)二、填空题(每题2分,共20分)1. 扫描电子显微镜(SEM)是一种利用_____________来扫描样品表面,并通过_____________来获取样品信息的测试方法。
2. 透射电子显微镜(TEM)是一种利用_____________穿过样品,并通过_____________来观察样品内部结构的测试方法。
3. 原子力显微镜(AFM)是一种利用_____________与样品表面相互作用,并通过_____________来获取表面形貌和力学性质的测试方法。
4. 能谱仪(EDS)是一种利用_____________与样品相互作用,并通过_____________来分析样品成分的测试方法。
5. 振动样品磁强计(VSM)是一种利用_____________来测量样品磁性的测试方法。
三、简答题(每题10分,共30分)1. 请简要介绍扫描电子显微镜(SEM)的工作原理及其在材料测试中的应用。
材料科学:材料分析测试技术测考试题 考试时间:120分钟 考试总分:100分遵守考场纪律,维护知识尊严,杜绝违纪行为,确保考试结果公正。
1、名词解释 溅射 本题答案: 2、问答题 衍射线在空间的方位取决于什么?而衍射线的强度又取决于什么? 本题答案: 3、单项选择题 透射电镜中电中间镜的作用是( )A 、电子源 B 、会聚电子束 C 、形成第一副高分辨率电子显微图像 D 、进一步放大物镜像 本题答案: 4、问答题 要观察钢中基体和析出相的组织形态,同时要分析其晶体结构和共格界面的位向关系,如何制备样品?以怎样的电镜操作方式和步骤来进行具体分析? 本题答案: 5、单项选择题 样品台和测角仪机械连动时,计数器与试样的转速关系是( )A 、1﹕1 B 、2﹕1 C 、1﹕2 D 、没有确定比例姓名:________________ 班级:________________ 学号:________________--------------------密----------------------------------封 ----------------------------------------------线----------------------本题答案:6、名词解释质厚衬度本题答案:7、名词解释伸缩振动本题答案:8、单项选择题菊池线可以帮助()。
A.估计样品的厚度;B.确定180不唯一性;C.鉴别有序固溶体;D.精确测定晶体取向。
本题答案:9、问答题什么是消光距离?影响晶体消光距离的主要物性参数和外界条件是什么?本题答案:10、问答题制备复型的材料应具备什么条件?本题答案:11、名词解释Hanawalt索引本题答案:12、问答题简述X射线产生的基本条件。
本题答案:13、单项选择题波谱仪与能谱仪相比,能谱仪最大的优点是()。
A.快速高效;B.精度高;C.没有机械传动部件;D.价格便宜。
本题答案:14、问答题如何用红外光谱跟踪二氧化硅湿凝胶变为干凝胶的过程?本题答案:15、单项选择题当电子把所有能量都转换为X射线时,该X射线波长称()A.短波限0;B.激发限k;C.吸收限;D.特征X射线本题答案:16、单项选择题晶体属于立方晶系,一晶面截x轴于a/2、y轴于b/3、z轴于c/4,则该晶面的指标为()A、(364)B、(234)C、(213)D、(468)本题答案:17、单项选择题透射电镜成形貌像时是将()A、中间镜的物平面与与物镜的背焦面重合B、中间镜的物平面与与物镜的像平面重合C、关闭中间镜D、关闭物镜本题答案:18、问答题试说明菊池线测试样取向关系比斑点花样精确度为高的原因。
材料分析测试技术试题及答案材料分析测试技术试题及答案(一)1、施工时所用的混凝土空心砌块的产品龄期不应小于( D)。
A、14dB、7dC、35dD、28d2、高强度大六角头螺栓连接副和扭剪型高强度螺栓连接副出厂时应分别随箱带有( C )和紧固轴力(预拉力)的检验报告。
A、抗拉强度B、抗剪强度C、扭矩系数D、承载力量3、勘察、设计、施工、监理等单位应将本单位形成的工程文件立卷后向( A )移交。
A、建立单位B、施工单位C、监理单位D、设计单位4、城建档案治理机构应对工程文件的立卷归档工作进展监视、检查、指导。
在工程竣工验收前,应对工程档案进展( C ),验收合格后,须出具工程档案认可文件。
A、检查B、验收C、预验收D、指导5、既有文字材料又有图纸的案卷( A )。
A、文字材料排前,图纸排后B、图纸排前,文字材料排后C、文字材料、图纸按时间挨次排列D、文字材料,图纸材料交叉排列6、建筑与构造工程包括那几个分部( B )。
A、地基与根底、主体、装饰装修、屋面、节能分部B、地基与根底、主体、装饰装修、屋面分部C、地基与根底、主体、装饰装修分部D、地基与根底、主体分部7、在原材料肯定的状况下,打算混凝土强度的最主要因素是( B )。
A、水泥用量B、水灰比C、水含量D、砂率8、数据加密技术从技术上的实现分为在( A )两方面。
A、软件和硬件B、软盘和硬盘C、数据和数字D、技术和治理9、混凝土同条件试件养护:构造部位由监理和施工各方共同选定,同一强度等级不宜少于10组,且不应少于( A )组。
A、3B、10C、14D、2010、不属于统计分析特点的是( D )。
A、数据性B、目的性C、时效性D、准时性11、施工资料治理应建立岗位责任制,进展( C )。
A、全面治理B、全方位掌握C、过程掌握D、全范围掌握12、目前工程文件、资料用得最多的载体形式有( A )。
A、纸质载体B、磁性载体C、光盘载体D、缩微品载体13、施工资料应当根据先后挨次分类,对同一类型的资料应根据其( A )进展排序。
复习的重点及思考题以下蓝色的部分作为了解第一章X射线的性质X射线产生的基本原理。
●X射线的本质―――电磁波、高能粒子、物质●X射线谱――管电压、电流对谱的影响、短波限的意义等●高能电子与物质相互作用可产生哪两种X射线?产生的机理?连续X射线:当高速运动的电子(带电粒子)与原子核内电场作用而减速时会产生电磁辐射,这种辐射所产生的X射线波长是连续的,故称之为~特征(标识)X射线:由原子内层电子跃迁所产生的X射线叫做特征X射线。
X射线与物质的相互作用●两类散射的性质●吸收与吸收系数意义及基本计算●二次特征辐射(X射线荧光)、饿歇效应产生的机理与条件二次特征辐射(X射线荧光):由X射线所激发出的二次特征X射线叫X射线荧光。
俄歇电子:俄歇电子的产生过程是当原子内层的一个电子被电离后,处于激发态的电子将产生跃迁,多余的能量以无辐射的形式传给另一层的电子,并将它激发出来。
这种效应称为俄歇效应。
●选靶的意义与作用第二章X射线的方向晶体几何学基础●晶体的定义、空间点阵的构建、七大晶系尤其是立方晶系的点阵几种类型在自然界中,其结构有一定的规律性的物质通常称之为晶体● 晶向指数、晶面指数(密勒指数)定义、表示方法,在空间点阵中的互对应 ● 晶带、晶带轴、晶带定律,立方晶系的晶面间距表达式● 倒易点阵定义、倒易矢量的性质● 厄瓦尔德作图法及其表述,它与布拉格方程的等同性证明λ1= 为半径作一球; (b) 将球心置于衍射晶面与入射线的交点。
(c) 初基入射矢量由球心指向倒易阵点的原点。
(d) 落在球面上的倒易点即是可能产生反射的晶面。
(e) 由球心到该倒易点的矢量即为衍射矢量。
布拉格方程要灵活应用,比如结合消光规律等2d hkl sin θ = n λ ‥‥ 布拉格公式d hkl 产生衍射的晶面间距θ 入射线或衍射线与晶面的夹角-布拉格角n 称之为反射级数● 布拉格方程的导出、各项参数的意义,作为产生衍射的必要条件的含义。
期末考试卷:材料现代测试分析方法和答案第一部分:选择题1. 在材料现代测试分析方法中,下列哪种方法可以用来确定材料的成分?- A. 热分析法- B. 机械测试法- C. 磁性测试法- D. 光谱分析法- 答案:D2. 材料现代测试分析方法的主要目的是什么?- A. 确定材料的力学性能- B. 分析材料的热性能- C. 评估材料的化学稳定性- D. 确定材料的组成和结构- 答案:D3. 以下哪种测试方法可以用来评估材料的耐腐蚀性能?- A. 硬度测试- B. 疲劳测试- C. 电化学测试- D. 热膨胀测试- 答案:C4. 材料的断裂韧性可以通过下列哪种测试方法进行评估?- A. 硬度测试- B. 拉伸测试- C. 冲击测试- D. 磁性测试- 答案:C5. 下列哪种测试方法可以用来评估材料的疲劳寿命?- A. 硬度测试- B. 拉伸测试- C. 冲击测试- D. 疲劳测试- 答案:D第二部分:简答题1. 简要解释材料现代测试分析方法的定义和作用。
答案:材料现代测试分析方法是一种使用现代科学技术手段对材料进行分析和测试的方法。
它的作用是确定材料的组成、结构和性能,以便评估材料的适用性和可靠性。
2. 举例说明材料现代测试分析方法在工程领域中的应用。
答案:材料现代测试分析方法在工程领域中有广泛的应用。
例如,在航空航天工程中,可以使用材料现代测试分析方法来评估航天器的耐热性能和抗腐蚀性能,以确保航天器在极端环境下的安全运行。
在建筑工程中,可以使用材料现代测试分析方法来评估建筑材料的力学性能和耐久性,以确保建筑物的结构安全可靠。
3. 请简要描述一种材料现代测试分析方法,并说明其适用性。
答案:一种材料现代测试分析方法是扫描电子显微镜(SEM)分析。
它通过扫描材料表面并记录电子显微图像,可以对材料的形貌、结构和成分进行分析。
SEM分析适用于对材料的微观结构和成分进行研究,可以用于材料的质量控制、故障分析和新材料的研发。
材料分析测试技术试题及答案金材02级《材料分析测试技术》课程试卷答案一、选择题:(8分/每题1分)1.当X射线将某物质原子的K层电子打出去后,L层电子回迁K层,多余能量将另一个L层电子打出核外,这整个过程将产生光电子和俄歇电子,答案为A+C。
2.有一体心立方晶体的晶格常数是0.286nm,用铁靶Kα(λKα=0.194nm)照射该晶体能产生四条衍射线,答案为B。
3.最常用的X射线衍射方法是粉末多晶法,答案为B。
4.测定钢中的奥氏体含量,若采用定量X射线物相分析,常用方法是直接比较法,答案为C。
5.可以提高TEM的衬度的光栏是物镜光栏,答案为B。
6.如果单晶体衍射花样是正六边形,那么晶体结构是六方结构或立方结构,答案为A或B。
7.将某一衍射斑点移到荧光屏中心并用物镜光栏套住该衍射斑点成像,这是中心暗场像,答案为C。
8.仅仅反映固体样品表面形貌信息的物理信号是二次电子,答案为B。
二、判断题:(8分/每题1分)1.产生特征X射线的前提是原子内层电子被打出核外,原子处于激发状态。
√2.倒易矢量能唯一地代表对应的正空间晶面。
√3.大直径德拜相机可以提高衍射线接受分辨率,缩短暴光时间。
×4.X射线物相定性分析可以告诉我们被测材料中有哪些物相,而定量分析可以告诉我们这些物相的含量有什么成分。
×5.有效放大倍数与仪器可以达到的放大倍数不同,前者取决于仪器分辨率和人眼分辨率,后者仅仅是仪器的制造水平。
√6.电子衍射和X射线衍射一样必须严格符合布拉格方程。
×7.实际电镜样品的厚度很小时,能近似满足衍衬运动学理论的条件,这时运动学理论能很好地解释衬度像。
√8.扫描电子显微镜的衬度和透射电镜一样取决于质厚衬度和衍射衬度。
×三、填空题:(14分/每2空1分)1.电子衍射产生的复杂衍射花样是高阶劳厄斑、超结构斑点、二次衍射、孪晶斑点和菊池花样。
2.当X射线管电压低于临界电压时,只能产生连续谱X射线;当电压超过临界电压时,可以同时产生连续谱X射线和特征谱X射线。
期末复习作业一、名词解释1.透湿量透湿量即指水蒸气透过量。
薄膜两侧的水蒸气压差和薄膜厚度一定,温度一定的条件下1㎡聚合物材料在24小时所透过的蒸汽量(用θ表示)v2.吸水性吸水性是指材料吸收水分的能力。
通常以试样原质量与试样失水后的质量之差和原质量之比的百分比表示;也可以用单位面积的试样吸收水分的量表示;还可以用吸收的水分量来表示。
3.表观密度对于粉状、片状颗粒状、纤维状等模塑料的表观密度是指单位体积中的质量(用η表示)a对于泡沫塑料的表观密度是指单位体积的泡沫塑料在规定温度和相对湿度时的重量,故又称体积密度或视密度(用ρ表示)a4、拉伸强度在拉伸试验中,保持这种受力状态至最终,就是测量拉伸力直至材料断裂为止,所承受的最大拉伸应力称为拉伸强度(极限拉伸应力,用σ表示)t5、弯曲强度试样在弯曲过程中在达到规定挠度值时或之前承受的最大弯曲应力(用σ表示)f6、压缩强度指在压缩试验中试样所承受的最大压缩应力。
它可能是也可能不是试样破裂的瞬间所承受的压缩应力(用σ表示)e7、屈服点应力—应变曲线上应力不随应变增加的初始点。
8、细长比指试样的高度与试样横截面积的最小回转半径之比(用λ表示)9、断裂伸长率断裂时伸长的长度与原始长度之比的百分数(用ε表示)t10、弯曲弹性模量表示)比例极限应力与应变比值(用Ef11、压缩模量指在应力—应变曲线的线性围压缩应力与压缩应变的比值。
由于直线与横坐标的交点一般不通过原点,因此可用直线上两点的应力差与对应的应变差之比表示(用E表示)e12、弹性模量在负荷—伸长曲线的初始直线部分,材料所承受的应力与产生相应的应变之比(用E表示)13、压缩变形指试样在压缩负荷左右下高度的改变量(用∆h表示)14、压缩应变指试样的压缩变形除以试样的原始高度(用ε表示)15、断纹剪切强度指沿垂直于板面的方向剪断的剪切强度。
16、剪切应力试验过程中任一时刻试样在单位面积上所承受的剪切负荷。
17、压缩应力指在压缩试验过程中的任何时刻,单位试样的原始横截面积上所承受的压缩负荷(用σ表示)18、拉伸应力为试样在外作用力下在计量标距围,单位初始横截面上所承受的拉伸力(用σ表示)19、热性能高聚物的热性能是其与热或温度有关的性能的总称。
现代材料测试分析方法的期末考试卷及答案一、选择题(每题2分,共20分)1. 下列哪一项不是材料的力学性能?A. 强度B. 硬度C. 导热性D. 韧性2. 下列哪种方法不属于无损检测?A. 超声波检测B. 射线检测C. 磁粉检测D. 拉伸试验3. 下列哪种材料不属于金属材料?A. 钢B. 铝C. 陶瓷D. 铜4. 下列哪种方法不是用于测定材料硬度的方法?A. 布氏硬度试验B. 维氏硬度试验C. 里氏硬度试验D. 拉伸试验5. 下列哪种材料不属于高分子材料?A. 聚乙烯B. 聚丙烯C. 聚氯乙烯D. 钢6. 下列哪种方法不是用于测定材料熔点的 method?A. 示差扫描量热法B. 热重分析法C. 熔点测定仪D. 红外光谱法7. 下列哪种材料不属于复合材料?A. 碳纤维增强复合材料B. 玻璃纤维增强复合材料C. 陶瓷基复合材料D. 金属基复合材料8. 下列哪种方法不是用于材料表面处理的方法?A. 镀层B. 阳极氧化C. 喷涂D. 拉伸试验9. 下列哪种材料不属于电子陶瓷材料?A. 氧化铝B. 氧化锆C. 氮化硅D. 铜10. 下列哪种方法不是用于材料疲劳寿命测试的方法?A. 疲劳试验机B. 扫描电子显微镜C. 红外光谱法D. 超声波检测二、填空题(每题2分,共20分)1. 材料的____性能是指材料在受到外力作用时能够承受的最大应力,即材料的强度。
2. 无损检测是指在不破坏材料____的情况下,对其进行检测和评价的方法。
3. 金属材料的____性能是指材料在受到外力作用时能够承受的最大变形量,即材料的韧性。
4. 布氏硬度试验是通过在材料表面施加____N的力,用硬度计压头压入材料表面,测量压痕直径来确定材料的硬度。
5. 高分子材料是由长链____分子组成的材料,具有较高的分子量和较好的柔韧性。
6. 示差扫描量热法(DSC)是一种用于测定材料____的方法,通过测量样品在加热或冷却过程中的热量变化来确定材料的熔点。
材料分析测试技术复习题【第一至第六章】1.X射线的波粒二象性波动性表现为:-以波动的形式传播,具有一定的频率和波长-波动性特征反映在物质运动的连续性和在传播过程中发生的干涉、衍射现象粒子性突出表现为:-在与物质相互作用和交换能量的时候-X射线由大量的粒子流(能量E、动量P、质量m)构成,粒子流称为光子-当X射线与物质相互作用时,光子只能整个被原子或电子吸收或散射2.连续x射线谱的特点,连续谱的短波限定义:波长在一定范围连续分布的X射线,I和λ构成连续X射线谱开始直到波长无穷大λ∞,•当管压很低(小于20KV 时),由某一短波限λ波长连续分布处)向短•随管压增高,X射线强度增高,连续谱峰值所对应的波长(1.5 λ0波端移动•λ正比于1/V, 与靶元素无关•强度I:由单位时间内通过与X射线传播方向垂直的单位面积上的光量子数的能量总和决定(粒子性观点描述)•单位时间通过垂直于传播方向的单位截面上的能量大小,与A2成正比(波动性观点描述)短波限:对X射线管施加不同电压时,在X射线的强度I 随波长λ变化的关系,称为短波限。
曲线中,在各种管压下的连续谱都存在一个最短的波长值λ3.连续x射线谱产生机理【a】.经典电动力学概念解释:一个高速运动电子到达靶面时,因突然减速产生很大的负加速度,负加速度引起周围电磁场的急剧变化,产生电磁波,且具有不同波长,形成连续X射线谱。
【b】.量子理论解释:* 电子与靶经过多次碰撞,逐步把能量释放到零,同时产生一系列能量为hυi的光子序列,形成连续谱* 存在 ev=hυmax,υmax=hc/ λ0, λ0为短波限,从而推出λ0=1.24/ V (nm) (V 为电子通过两极时的电压降,与管压有关)。
* 一般 ev ≥ h υ,在极限情况下,极少数电子在一次碰撞中将全部能量一次性转化为一个光量子4.特征x 射线谱的特点对于一定元素的靶,当管压小于某一限度时,只激发连续谱,管压增高,射线谱曲线只向短波方向移动,总强度增高,本质上无变化。
1、分析电磁透镜对波的聚焦原理,说明电磁透镜的结构对聚焦能力的影响。
解:聚焦原理:通电线圈产生一种轴对称不均匀分布的磁场,磁力线围绕导线呈环状。
磁力线上任一点的磁感应强度B 可以分解成平行于透镜主轴的分量Bz 和垂直于透镜主轴的分量Br 。
速度为V 的平行电子束进入透镜磁场时在A 点处受到Br 分量的作用,由右手法则,电子所受的切向力Ft 的方向如下图(b );Ft 使电子获得一个切向速度Vt ,Vt 与Bz 分量叉乘,形成了另一个向透镜主轴靠近的径向力Fr ,使电子向主轴偏转。
当电子穿过线圈到达B 点位置时,Br 的方向改变了180°,Ft 随之反向,但是只是减小而不改变方向,因此,穿过线圈的电子任然趋向于主轴方向靠近。
结果电子作圆锥螺旋曲线近轴运动。
当一束平行与主轴的入射电子束通过投射电镜时将会聚焦在轴线上一点,这就是电磁透镜电子波的聚焦对原理。
(教材135页的图9.1 a,b 图)电磁透镜包括螺旋线圈,磁轭和极靴,使有效磁场能集中到沿轴几毫米的范围内,显著提高了其聚焦能力。
2、电磁透镜的像差是怎样产生的,如何来消除或减小像差?解:电磁透镜的像差可以分为两类:几何像差和色差。
几何像差是因为投射磁场几何形状上的缺陷造成的,色差是由于电子波的波长或能量发生一定幅度的改变而造成的。
几何像差主要指球差和像散。
球差是由于电磁透镜的中心区域和边缘区域对电子的折射能力不符合预定的规律造成的,像散是由透镜磁场的非旋转对称引起的。
消除或减小的方法:球差:减小孔径半角或缩小焦距均可减小球差,尤其小孔径半角可使球差明显减小。
像散:引入一个强度和方向都可以调节的矫正磁场即消像散器予以补偿。
色差:采用稳定加速电压的方法有效地较小色差。
3、说明影响光学显微镜和电磁透镜分辨率的关键因素是什么?如何提高电磁透镜的分辨率?解:光学显微镜的分辨本领取决于照明光源的波长。
电磁透镜的分辨率由衍射效应和球面像差来决定,球差是限制电磁透镜分辨本领的主要因素。
若只考虑衍射效应,在照明光源和介质一定的条件下,孔径角α越大,透镜的分辨本领越高。
若同时考虑衍射和球差对分辨率的影响,关键在确定电磁透镜的最佳孔径半角,使衍射效应斑和球差散焦斑的尺寸大小相等。
4、电子波有何特征?与可见光有何异同?解:电子波的波长较短,轴对称非均匀磁场能使电子波聚焦。
其波长取决于电子运动的速度和质量,电子波的波长要比可见光小5个数量级。
5、电磁透镜景深和焦长主要受哪些因素影响?说明电磁透镜的景深长、焦长长,是什么因素影响的结果?答:电磁透镜景深与分辨本领0r ∆、孔径半角α之间关系:.2200ααr tg r Df ∆≈∆=表明孔径半角越小、景深越大。
透镜集长L D 与分辨本领0r ∆,像点所张孔径半角β的关系:ββM r M r D L 002tan 2∆≈∆=,M αβ=,202M r D L α∆=∴ ,M 为透镜放大倍数。
当电磁透镜放大倍数和分辨本领一定时,透镜焦长随孔径半角减小而增大。
6、透射电镜主要由几大系统构成?各系统之间关系如何?解:透射电镜由电子光学系统、电源与控制系统及真空系统三部分组成。
电子光学系统通常称镜筒,是透射电子显微镜的核心,它的光路原理与透射光学显微镜十分相似。
它分为三部分,即照明系统、成像系统和观察记录系统。
7、照明系统的作用是什么?它应满足什么要求?解:照明系统由电子枪、聚光镜和相应的平移对中、倾斜调节装置组成。
其作用是提供一束高亮度、照明孔径角小、平行度好、束流稳定的照明源。
为满足明场像和暗场像需要,照明束可在2错误!未找到引用源。
~3错误!未找到引用源。
范围内倾斜。
8、成像系统的主要构成及其特点是什么?解:成像系统组要是由物镜、中间镜和投影镜组成。
物镜是用来形成第一幅高分辨率电子显微镜图像或电子衍射花样。
1).物镜是采用强激磁、短焦距的透镜(f=1~3mm),它的放大倍数较高,一般为100~300倍。
2).中间镜是一个弱激磁的长焦距变倍透镜,可在0~20倍范围调节。
当放大倍数大于1时,用来进一步放大物像;当放大倍数小于1时,用来缩小物镜像。
3).投影镜的作用是把中间镜放大(或缩小)的像(或电子衍射花样)进一步放大,并投影到荧光屏上,它和物镜一样,是一个短焦距的强激磁透镜。
投影镜的激磁电流是固定的,因为成像电子束进入投影镜时孔径角很小,因此它的景深和焦长都非常大。
9、分别说明成像操作和衍射操作时各级透镜(像平面和物平面)之间的相对位置关系,并画出光路图。
解:如果把中间镜的物平面和物镜的像平面重合,则在荧光屏上得到一幅放大像,这是成像操作。
如果把中间镜的物平面和物镜的背焦面重合,则在荧光屏上得到一幅电子衍射花样,这是电子衍射操作。
10、透射电镜中有哪些主要光阑,在什么位置?其作用如何?解:在透射电镜中主要有三种光阑:聚光镜光阑、物镜光阑、选区光阑。
聚光镜光阑装在第二聚光镜的下方,其作用是限制照明孔径角。
物镜光阑安放在物镜的后焦面上,其作用是使物镜孔径角减小,能减小像差,得到质量较高的显微图像;在后焦面上套取衍射束的斑点成暗场像。
选区光阑放在物镜的像平面位置,其作用时对样品进行微小区域分析,即选区衍射。
11、如何测定透射电镜的分辨率与放大倍数。
电镜的哪些主要参数控制着分辨率与放大倍数?解:点分辨率的测定:将铂、铂-铱或铂-钯等金属或合金,用真空蒸发的方法可以得到粒度为0.5-1nm、间距为0.2-1nm的粒子,将其均匀地分布在火棉胶(或碳)支持膜上,在高放大倍数下拍摄这些粒子的像。
为了保证测定的可靠性,至少在同样条件下拍摄两张底片,然后经光学放大5倍左右,从照片上找出粒子间最小间距,除以总放大倍数,即为相应电子显微镜的点分辨率。
晶格分辨率的测定:利用外延生长方法制得的定向单晶薄膜作为标样,拍摄其晶格像。
根据仪器分辨率的高低,选择晶面间距不同的样品作标样。
放大倍数的测定:用衍射光栅复型作为标样,在一定条件下,拍摄标样的放大像。
然后从底片上测量光栅条纹像的平均间距,与实际光栅条纹间距之比即为仪器相应条件下的放大倍数。
影响参数:样品的平面高度、加速电压、透镜电流12、分析电子衍射与x射线衍射有何异同?解:相同点:1).都是以满足布拉格方程作为产生衍射的必要条件。
2).两种衍射技术所得到的衍射花样在几何特征上大致相似。
不同点:1).电子波的波长比x射线短的多。
2).在进行电子衍射操作时采用薄晶样品,增加了倒易阵点和爱瓦尔德球相交截的机会,使衍射条件变宽。
3).因为电子波的波长短,采用爱瓦尔德球图解时,反射球的半径很大,在衍射角θ较小的范围内反射球的球面可以近似地看成是一个平面,从而也可以认为电子衍射产生的衍射斑点大致分布在一个二维倒易截面内。
4).原子对电子的散射能力远高于它对x射线的散射能力,故电子衍射束的强度较大,摄取衍射花样时曝光时间仅需数秒钟。
13、用爱瓦尔德团解法证明布拉格定律解:在倒易空间中,画出衍射晶体的倒易点阵,以倒易原点0*为端点做入射波的波矢量k(00*),该矢量平行于入射束的方向,长度等于波长的倒数,即K=1/入以0为中心,1/入为半径做一个球(爱瓦尔德球),根据倒易矢量的定义0*G=g,于是k’-k=g.由0向0*G作垂线,垂足为D,因为g平行于(hkl)晶面的法向Nhkl,所以OD就是正空间中(hkl)晶面的方面,若它与入射束方向夹角为斯塔,则O*D=OO*sin(斯塔)即g/2=ksin(斯塔);g=1/d k=1/入所以2dsin(斯塔)=入图为163上的14、何为零层倒易面和晶带定理?说明同一晶带中各晶面及其倒易矢量与晶带轴之间的关系。
解:由于晶体的倒易点阵是三维点阵,如果电子束沿晶带轴[uvw]的反向入射时,通过原点O 的倒易平面只有一个,我们把这个二维平面叫做零层倒易面.因为零层倒易面上的倒易面上的各倒易矢量都和晶带轴r=[uvw]垂直,故有g.r=0即hu+kv+lw=0这就是晶带定理. 如图12.515、说明多晶、单晶及非晶衍射花样的特征及形成原理。
解:多晶体的电子眼奢华样式一系列不同班静的同心圆环单晶衍射花样是由排列得十分整齐的许多斑点所组成的非晶态物质的衍射花样只有一个漫散中心斑点单晶花样是一个零层二维倒易截面,其倒易点规则排列,具有明显对称性,且处于二维网络的格点上。
因此表达花样对称性的基本单元为平行四边形。
单晶电子衍射花样就是(uvw)*0零层倒易截面的放大像。
多晶试样可以看成是由许多取向任意的小单晶组成的。
故可设想让一个小单晶的倒易点阵绕原点旋转,同一反射面hkl的各等价倒易点(即(hkl)平面族中各平面)将分布在以1/dhkl 为半径的球面上,而不同的反射面,其等价倒易点将分布在半径不同的同心球面上,这些球面与反射球面相截,得到一系列同心园环,自反射球心向各园环连线,投影到屏上,就是多晶电子衍射图。
非晶的衍射花样为一个圆斑16、制备薄膜样品的基本要求是什么,具体工艺过程如何?双喷减薄与离子减薄各用于制备什么样品?解:要求:1).薄膜样品的组织结构必须和大块样品相同,在制备的过程中,这些组织结构不发生变化。
2).样品相对电子束而言必须有足够的“透明度”,因为只有样品能被电子束透过,才有可能进行观察分析。
3).薄膜样品应有一定的强度和刚度,在制备的、夹持和操作过程中,在一定的机械力作用下不会引起变形或损坏。
4.在样品的制备过程中不允许表面产生氧化和腐蚀。
氧化和腐蚀会是样品的透明度下降,并造成多种假象。
工艺过程:1).从实物或大块试样上切割厚度为0.3~0.5mm厚的薄片。
导电样品用电火花线切割法;对于陶瓷等不导电样品可用金刚石刃内圆切割机。
2).样品薄片的预先减薄。
有两种方法:机械阀和化学法。
3).最终减薄。
金属试样用双喷电解抛光。
对于不导电的陶瓷薄膜样品,可采用如下工艺。
首先用金刚石刃内切割机切片,再进行机械研磨,最后采用离子减薄。
金属试样用双喷电解抛光。
不导电的陶瓷薄膜样品离子减薄。
17. 什么是衍射衬度?它与质厚衬度有什么区别?答:由于样品中不同位相的衍射条件不同而造成的衬度差别叫衍射衬度。
它与质厚衬度的区别:(1)、质厚衬度是建立在原子对电子散射的理论基础上的,而衍射衬度则是利用电子通过不同位相晶粒是的衍射成像原理而获得的衬度,利用了布拉格衍射角。
(2)质厚衬度利用样品薄膜厚度的差别和平均原子序数的差别来获得衬度,而衍射衬度则是利用不同晶粒的警惕学位相不同来获得衬度。
(3)质厚衬度应用于非晶体复型样品成像中,而衍射衬度则应用于晶体薄膜样品成像中。
18、画图说明衍射成像的原理并说明什么是明场像,暗场像与中心暗场像答:190页图13.3明场像:让透射束透过物镜光阑而把衍射束当掉的图像。
暗场像:移动物镜光阑的位置,使其光阑孔套住hkl斑点把透射束当掉得到的图像。