数字集成电路设计
实验报告
实验名称二输入与非门的设计
一．实验目的
a)学习掌握版图设计过程中所需要的仿真软件
b)初步熟悉使用Linux系统
二．实验设备与软件
PC机，RedHat,Candence
三．实验过程
Ⅰ电路原理图设计
1.打开虚拟机VMware Workstation，进入Linux操作系统RedHat。
2.数据准备，将相应的数据文件拷贝至工作环境下，准备开始实验。
3.创建设计库，在设计库里建立一个schematic view，命名为，然后进入电路
图的编辑界面。
4.电路设计
设计一个二输入与非门，插入元器件，选择PDK库（xxxx35dg_XxXx）中的nmos_3p3、
pmos_3p3等器件。形成如下电路图，然后check and save，如下图。
图1.二输入与非门的电路图
5.制作二输入与非门的外观symbol
Design->Create Cellview -> From Cellview，在弹出的界面，按ok后出现symbol Generation options，选择端口排放顺序和外观，然后按ok出现symbol编辑界面。按照需
要编辑成想要的符号外观，如下图。保存退出。
图2.与非门外观
6.建立仿真电路图
方法和前面的“建立schemtic view”的方法一样，但在调用单元时除了调用analogL 库中的电压源、（正弦）信号源等之外，将之前完成的二输入与非门调用到电路图中，如下图。
图3.仿真电路图
然后设置激励源电压输出信号为高电平为3.5v，低电平为0的方波信号。
7.启动仿真环境
在ADE中设置仿真器、仿真数据存放路径和工艺库，设置好后选择好要检测的信号在电路中的节点，添加到输出栏中，运行仿真得到仿真结果图。
图4.仿真结果图
Ⅱ版图设计
1.数据准备
2.建立设计库，然后建立一个layout view，tool选virtuso，然后进入版图编辑界
面
3.版图绘制
在版图编辑界面中，从LSW中选择图层，然后进行二输入与非门的版图绘制。如下图所示。
图5.版图设计
Ⅲ.版图验证
1.采用DIVA做DRC验证
将divaDRC.rul拷贝到版图库中，然后在版图编辑界面选择需要进行DRC检查的复选项然后点击OK，在icfb的LOG窗口出现运行结果。
2.Debug
若版图存在错误：如最小宽度限制，最小间距限制等几何设计规则错误在LOG窗口会报错，版图编辑界面同时会标出错误的地方，按照提示修改错误再重做DRC验证直至没有错误出现，如下图所示。
图6.版图验证成功提示窗口
至此，二输入与非门的版图设计与验证已全部完成。
