gc
- 格式:doc
- 大小:33.50 KB
- 文档页数:4
gc方案化疗现代医学技术的发展使癌症治疗的效果得到了显著提高,其中最常用的治疗方法之一就是化疗。
化疗是通过使用化学药物来杀死或抑制癌细胞的增长和分裂,从而达到减轻癌症症状、缩小或去除肿瘤的目的。
下面就介绍一种常见的化疗方案,gc方案。
gc方案是一种常见的化疗方案,适用于晚期胃癌、肺癌等多种恶性肿瘤的治疗。
gc方案结合了吉西他滨(G)和顺铂(C)两种化疗药物的使用。
吉西他滨是一种抗癌药物,能够抑制癌细胞的DNA合成,从而阻止癌细胞的增殖;顺铂也是一种抗癌药物,能够干扰癌细胞的DNA复制,进而抑制癌细胞的分裂。
gc方案通常采用3周一个周期的方案,具体治疗过程如下:第一天:给予吉西他滨和顺铂的联合化疗。
吉西他滨的剂量通常为每平方米体表面积80-120mg,顺铂的剂量为每平方米体表面积100-120mg。
这两种药物会通过静脉注射进行给药。
给予化疗药物后,医生会监测患者的生命体征,并观察是否出现不良反应。
第二天至第七天:患者通常会接受辅助治疗,包括补液、口服药物等,以缓解化疗的不良反应,如恶心、呕吐、乏力等。
第八天至第21天:这个时间段是治疗周期的休息期,患者需要充分休息,同时观察是否出现不良反应。
gc方案的治疗周期通常为3-4个周期,具体的治疗次数会根据患者的具体情况而定。
治疗期间,医生会密切关注患者的病情和治疗效果,以及可能出现的不良反应。
如果癌症病情进展良好,医生可能会选择继续进行化疗,或者结合其他治疗方法。
需要注意的是,gc方案是一种较为强力的化疗方案,可能会引发一些不良反应。
常见的不良反应包括恶心、呕吐、乏力、脱发、食欲减退等,而且不同患者的耐受性也不同。
如果出现不良反应,患者需要及时告知医生,医生会调整药物剂量或选用其他药物来控制不良反应,以确保患者的身体能够耐受化疗方案。
总之,gc方案是一种常见的化疗方案,适用于晚期胃癌、肺癌等多种恶性肿瘤的治疗。
通过联合应用吉西他滨和顺铂这两种药物,可以有效地抑制癌细胞的增长和分裂。
gc工业管道分级GC工业管道分级是一种针对工业管道系统的分级方法,旨在评估和标识管道系统的安全性和可靠性。
以下是关于GC工业管道分级的详细介绍。
一、概述GC工业管道分级是一种基于管道系统特性、工艺要求和操作条件的分级方法,旨在确保管道系统的安全性和可靠性。
该分级方法考虑了管道系统的设计、材料、制造、检验、试验和运行等多个方面,以评估其符合性和安全性。
GC工业管道分级对于工业管道系统的设计、选材、制造和运行等方面具有重要的指导意义。
二、分级系统GC工业管道分级系统分为五个等级,从GC-1到GC-5,其中GC-1代表最高等级,GC-5代表最低等级。
每个等级都有相应的要求和限制,以确保管道系统的安全性和可靠性。
1.GC-1级:最高等级,要求最为严格,适用于关键性或高风险工艺的管道系统。
该等级的管道系统需要经过严格的设计、材料选择、制造和检验,以确保其安全性和可靠性。
此外,GC-1级的管道系统还需要进行更为严格的试验和运行监控,以确保其能够在极端条件下正常运行。
2.GC-2级:适用于重要工艺的管道系统,其要求比GC-1级略低,但仍需要较为严格的设计、材料选择、制造和检验。
该等级的管道系统需要进行必要的试验和运行监控,以确保其安全性和可靠性。
3.GC-3级:适用于一般工艺的管道系统,其要求相对较为宽松,但仍然需要一定的设计和制造要求。
该等级的管道系统需要进行基本的检验和运行监控,以确保其能够正常运行。
4.GC-4级:适用于辅助工艺的管道系统,其要求相对较为宽松,但仍然需要一定的设计和制造要求。
该等级的管道系统需要进行基本的检验和运行监控,以确保其能够正常运行。
5.GC-5级:最低等级,适用于非关键性工艺的管道系统,其要求最为宽松,但仍然需要满足基本的设计和制造要求。
该等级的管道系统需要进行基本的检验和运行监控,以确保其能够正常运行。
三、应用范围GC工业管道分级广泛应用于石油、化工、电力、制药等行业的工业管道系统中。
GC的三种基本实现⽅式由于并⾮本⼈原著(我只是个“搬运⼯“)另外个⼈说明⼀下这⾥所说的GC指泛指垃圾回收机制,⽽单指Java或其他某种特定语⾔中的GC ——可能具体语⾔中实现的垃圾回收实现机制会有所不同。
下⾯是具体内容:将内存管理,尤其是内存空间的释放实现⾃动化,这就是GC(Garbage Collection)术语定义1,垃圾:所谓垃圾(Garbage),就是需要回收的对象。
作为编写程序的⼈,是可以做出“这个对象已经不需要了“这样的判断,但是计算机是做不到的。
因此如果程序(通过某个变量等等)可能会直接或间接的引⽤⼀个对象,那么这个对象就被视为“存活“;与之相反,已经引⽤不到的则被视为“死亡“。
将这些死亡对象找出来,然后作为垃圾进⾏回收,者就是GC的本质。
2,根所谓的根(Root),就是判断对象是否被引⽤的起始点。
⾄于哪⾥的才是根,不通的语⾔和编译器都有不通的规定,但基本上是将变量和运⾏栈空间作为根。
主要GC实现⽅式:标记清除⽅式标记清除(Mark and Sweep)是最早开发出来的GC算法(1960年)。
它的原理⾮常简单:⾸先从根开始将可能被引⽤的对象⽤递归的⽅式进⾏标记,然后将没有标记到的对象作为垃圾进⾏回收。
初始状态:标记阶段:清除阶段:上述图⽚显⽰了标记清除算法的⼤致原理。
“初始状态“图中显⽰了随着程序的运⾏⽽分配出⼀些对象的状态,⼀个对象可以对其他的对象进⾏引⽤。
“标记阶段“图中显⽰了GC开始执⾏,从根开始可以被引⽤的对象上进⾏“标记“。
⼤多数情况下,这种标记是通过对象内部的标志(Flag)来实现的。
于是,被标记的对象我们将它涂⿊。
紧接着被标记的对象所能引⽤的对象也会被打上标记。
重复这⼀步骤就可以从根开始可能被间接引⽤到的对象全部打上标记。
到此为⽌的操作即被称为——标记阶段(Mark phase)。
标记阶段完成时,被标记的对象就是“存活“对象,反之为“死亡“对象。
标记清除算法的处理时间,是和存活对象数与对象总数的总和相关的。
GC(垃圾收集)是一种自动内存管理的技术,被广泛应用于现代计算机系统中。
GC的主要作用是在程序运行过程中自动地回收不再使用的内存,从而减少内存泄漏和提高程序的性能。
在GC过程中,可能会出现“allocation failure”(分配失败)的问题,这对程序的稳定性和性能会产生一定的影响。
本文将针对GC(allocation failure)问题展开讨论,包括其原因、解决方法和对程序的影响。
1. GC(allocation failure)问题的原因GC(allocation failure)问题通常是由于内存分配过程中出现了失败的情况而导致的。
内存分配失败可能由以下几个方面的原因引起:(1)内存碎片:在程序运行过程中,内存会产生碎片,导致没有足够的连续内存空间来分配给程序使用。
(2)内存泄漏:程序在使用内存的过程中,如果存在内存泄漏的情况,就会导致内存空间的不断累积,最终导致内存分配失败。
(3)内存申请量过大:程序在一次性申请内存空间过大,超出了系统的内存限制,就会导致内存分配失败。
2. GC(allocation failure)问题的解决方法针对GC(allocation failure)问题,可以采取以下几种途径来解决:(1)优化内存分配算法:通过优化内存分配算法来减少内存碎片的产生,可以有效地解决内存分配失败的问题。
(2)定期进行内存清理:定期对程序进行内存清理,释放不再使用的内存空间,可以减少内存泄漏导致的内存分配失败。
(3)限制单次内存申请量:对程序的内存申请量进行限制,避免一次性申请过大的内存空间,从而避免内存分配失败的情况发生。
3. GC(allocation failure)问题对程序的影响GC(allocation failure)问题对程序的影响主要体现在以下几个方面:(1)程序的稳定性下降:GC(allocation failure)问题会导致程序在运行过程中出现内存分配失败的情况,从而影响程序的稳定性。
GC的操作和注意事项
一.G C操作的主要步骤:
1.先开启楼下氮气、氢气和空气气瓶总阀,并将分压阀调
节在0.4MPa左右。
2.打开仪器面板前方的电源,然后打开电脑桌面上的安捷
伦色谱工作站,调出老化柱子程序(turn on method),让柱子从50℃开始程序升温至280℃并维持一段时间,直至基线平稳。
3.建立一个新的方法:输入实验信息(样品名称、操作者、
是否标样、样品等)并设定各项方法参数后(积分参数、文件夹等),或者调用以前实验方法,待柱温箱、进样口和检测器温度达到设定温度,FID点火稳定后就可进样分析。
4.进样完成得到数据后开始关机,先设定柱温箱(OVE)、
进样口(INJ)、检测器(DET)的温度,让其都小于50℃(这时可以关闭氢气和空气钢瓶),当检测器、柱温箱及进样口温度降至50℃后再关闭氮气,然后关闭气相色谱的主机电源,再次关闭工作站软件、计算机。
5.最后关闭楼下的氮气、氢气和空气气瓶总阀。
注意:当
气瓶的总压压力小于0.1MPa后,气瓶不能再用,请及时联系气体库-9176更换新的气瓶。
二.注意事项:
1.温度的控制:
柱温不能高于固定相可以承受的最好温度。
2.对于参数的设定,每种产品都有固定的参数,设定好就不可在工作状态改变,不然影响谱图的生成。
3.当谱图出现问题时应该考虑进样垫/隔垫是否漏气;管道是否断开;色谱柱是否需要老化,电压是否稳定。
gc压力管道定义摘要:一、GC 压力管道的定义1.GC 压力管道的概念2.GC 压力管道的作用3.GC 压力管道的分类二、GC 压力管道的组成1.管道材料2.管道连接方式3.管道附件三、GC 压力管道的应用领域1.工业领域2.建筑领域3.能源领域四、GC 压力管道的施工与维护1.施工流程2.安全措施3.维护保养正文:GC 压力管道是一种用于输送各种气体、液体和蒸汽等介质的管道系统,广泛应用于工业、建筑和能源等多个领域。
GC 压力管道具有耐高压、密封性能好、使用寿命长等特点,为确保管道的安全运行,对其材料、连接方式、附件及施工维护等方面都有严格的要求。
GC 压力管道主要由管道材料、连接方式和管道附件组成。
管道材料是保证管道安全运行的基础,通常采用不锈钢、碳钢等金属材料,也有采用非金属材料如塑料的。
连接方式主要有螺纹连接、焊接连接、法兰连接等,应根据管道材料、管道直径和输送介质的特点选择合适的连接方式。
管道附件包括阀门、泵、压缩机等,用于控制介质的流量、压力和流向。
GC 压力管道在多个领域都有广泛应用。
在工业领域,主要用于输送各种气体、液体和蒸汽等介质,满足生产过程中的需求。
在建筑领域,用于供暖、空调、给排水等方面的输送系统。
在能源领域,GC 压力管道是石油、天然气、电力等能源输送的重要设施。
GC 压力管道的施工与维护对于保证其安全运行至关重要。
施工前应对管道材料、连接方式、附件等进行严格检查,确保符合设计要求。
施工过程中要遵循相关安全规定,确保人员安全。
维护保养方面,要定期检查管道及附件的运行状况,发现问题及时处理,确保管道的安全运行。
总之,GC 压力管道是一种重要的管道系统,其安全运行对于工业、建筑和能源等领域具有重要意义。
gc方案剂量GC方案是一种常用的癌症治疗方案,通过使用化学药物来抑制癌细胞的生长和扩散。
GC药物方案中的每个药物具有特定的剂量和使用方法,以确保最佳的治疗效果。
本文将介绍GC方案的剂量和相关注意事项。
GC方案的药物包括顺铂(cisplatin)和吉西他滨(gemcitabine)。
这两种药物在治疗各种类型的癌症,如肺癌、胃癌和卵巢癌等方面被广泛应用。
然而,在应用这些药物时,我们必须确保正确的剂量和使用方法,以最大程度地减少副作用并提高治疗效果。
顺铂作为一种铂类化合物,在GC方案中的剂量通常为每周一次,每次剂量为75毫克/平方米。
吉西他滨则是一种细胞毒药物,通常每周给药一次,剂量为每个体表面积1250毫克/平方米。
这些剂量是以患者的体表面积为基础计算的,以确保每个患者都能得到合适的药物剂量。
除了剂量以外,GC方案使用的药物还需要注意使用时间和用药途径。
通常,顺铂和吉西他滨是通过静脉注射给予患者的。
这意味着这些药物必须由专业医务人员在严密监测下给予,以确保安全性和有效性。
在使用GC方案剂量时,也需要密切关注患者的身体状况和副作用。
顺铂和吉西他滨都具有一定的副作用,如恶心、呕吐、脱发和骨髓抑制等。
医生和护士会根据患者的情况进行评估和监测,以及采取必要的措施来减轻这些副作用。
此外,GC方案的治疗周期也需要根据患者的具体情况来确定。
通常,GC方案的治疗周期为3周,即每3周进行一次方案给药。
治疗周期的持续时间取决于患者的疾病状态和治疗效果。
总结起来,GC方案是一种常用的癌症治疗方案,具有一定的剂量和使用方法。
顺铂和吉西他滨是GC方案中常用的药物,给药剂量是根据患者的体表面积计算的。
在使用GC方案时,必须注意药物的剂量、使用时间和用药途径,以及密切监测患者的身体状况和副作用。
通过严密的管理和监测,我们可以最大限度地提高GC方案的治疗效果,并为患者带来更好的生活质量。
(本文仅供参考,具体剂量和使用方法请咨询医生或专业医务人员。
gc检测标准-概述说明以及解释1.引言1.1 概述概述GC(气相色谱)检测是一种用于分离和分析混合气体或液体样品中化合物的技术。
它通过物质在不同固定相和流动相的相互作用,实现了对物质的分离和定量分析。
在化学、环境监测、生物医药等领域都有着广泛的应用。
GC检测标准是规范和规定了GC检测过程中的操作流程、技术要求和结果判定标准的文件,通过制定和执行这些标准可以保证GC检测结果的准确性和可靠性。
本文将对GC检测的定义、原理、应用领域以及相关的标准和规范进行详细介绍,旨在帮助读者更好地了解和应用GC检测技术。
1.2 文章结构文章结构部分内容:本文主要包括引言、正文和结论三个部分。
在引言部分,将会概述GC 检测的概念和重要性,介绍文章的结构和目的。
在正文部分,将着重介绍GC检测的定义和原理、应用领域以及相关的标准和规范。
在结论部分,将对GC检测的重要性进行总结,并对未来GC检测标准的发展进行展望,并得出结论。
整体结构清晰,逻辑严密,旨在全面介绍GC检测标准相关内容。
1.3 目的本文旨在对GC检测标准进行深入探讨,从GC检测的定义和原理、应用领域,到GC检测的标准和规范进行详细分析和总结。
通过本文的撰写,旨在帮助读者更好地了解GC检测的重要性,为GC检测提供更准确、可靠的标准,推动GC检测技术的发展和应用。
同时,也希望通过本文的研究,对未来GC检测标准的发展进行展望,为GC检测领域的发展提供指导和推动。
2.正文2.1 GC检测的定义和原理GC检测是指对化学物质中的挥发性成分进行分析和检测的过程。
在GC检测中,样品首先被加热至蒸发,然后被注入分离柱中。
分离柱内含有一种易挥发和具有对样品成分具有亲和性的固定相。
当样品成分通过分离柱时,它们会与固定相发生相互作用,最终导致它们被分离开来。
GC检测的原理是基于化学物质在分离柱中的挥发性和化学亲和性。
不同化学物质在分离柱中的挥发性和亲和性不同,因此它们会以不同的速率被分离开来。
一个图形上下文,或者GC(GraphicsContext),是一套在绘图时要用到的参数(比如颜色、剪裁屏蔽值、字体等等)。
它是一种服务器端资源,就像pixmap和窗口一样。
GC减少了Gdk绘图函数的参数个数,也减少了每个绘图请求从客户到服务器间传递的参数的数目。
与GdkWindowAttr类似,图形上下文可以用GdkGCValues结构创建。
结构中包含了图形上下文中所有的特性,还可以传递gdk_gc_new_with_values()标志指出哪一个成员是有效的。
其他的成员保留其缺省值。
还可以用gdk_gc_new()函数(这种方法通常更容易)创建一个全为缺省值的GC。
创建GC之后,还有一些函数用来改变GC的设置,但是要记住,每次改变GC设置值都需要一条消息传递到X服务器。
所有的GC都是不可以互换的,它们都与特定的深度和视件相关联。
GC的深度和视件必须与要绘图的可绘区的深度和视件相匹配。
GC的深度和视件是从传递到gdk_gc_new()函数的GdkWindow*参数中获得的,所以处理这种问题的最容易的方法就是在要绘图的窗口上创建GC。
下面是GdkGCValues结构的定义:typedefstruct_GdkGCV aluesGdkGCV alues;struct_GdkGCValues{GdkColorforeground;GdkColorbackground;GdkFont*font;GdkFunctionfunction;GdkFillfill;GdkPixmap*tile;GdkPixmap*stipple;GdkPixmap*clip_mask;GdkSubwindowModesubwindow_mode;gintts_x_origin;gintts_y_origin;gintclip_x_origin;gintclip_y_origin;gintgraphics_exposures;gintline_width;GdkLineStyleline_style;GdkCapStylecap_style;GdkJoinStylejoin_style;};前景色(foreground成员)是画线、圆或其他形状时的“画笔颜色”。
背景色(background 成员)的用处依赖于特定的绘画操作。
这些颜色必须是用gdk_color_alloc()函数在当前颜色font成员没有用到:在Xlib中绘制文本时用它指定字体。
在Gdk以前的版本中,它也有同样的作用;但是新的绘制文本的Gdk程序都要求一个GdkFont*参数。
一个Xlib图形上下文只能存储无格式的字体,但是GdkFont能够代表一个字体集(用以绘制一些外语文字)。
function成员指定要画的像素点与可绘区上已有的像素点如何结合起来。
有许多种可能取值,但是只有两种是最常用的:GDK_COPY:缺省值。
它忽略已存在的像素点(只是将新的像素点画在上面)。
GDK_XOR:将旧的和新的像素点一种可反转的方式结合起来。
也就是,如果执行两次GDK_OR操作,头一次绘图就会被第二次操作取消。
GDK_XOR通常用于“擦除”,可以恢复可绘区原来内容。
GdkGCValues的fill成员决定如何使用GdkGCValues中的tile和stipple成员。
其中tile 成员是一个与目的可绘区深度相同的pixmap图片,它被反复复制到目的可绘区,将它们拼贴起来—第一次拼贴的原点是(ts_x_origin,ts_y_origin)。
而stipple成员是一个位图(深度为1的pixmap);它也是从(ts_x_origin,ts_y_origin)开始拼贴的。
下面是fill的可能取值:GDK_SOLID:忽略tile和stipple成员。
绘图形状是用前景色和背景色绘制的。
GDK_TILED:绘图形状用tile成员指定的pixmap图片绘制,而不是用前景色和背景色。
用GDK_TILED模式绘画会擦除可绘区上的任何内容,显示由tile成员指定的图片的拼贴图形。
GDK_STIPPLED:用stipple中定义的位绘制图形。
也就是,在stipple成员中未设置的位不会绘出。
GDK_OPAQUE_STIPPLED:用前景色绘制在stipple中设置的位,没有在stipple中设置的位用背景色绘制。
有些X服务器并没有有效实现上面所有的fill模式值,所以使用时可能会很慢。
clip_mask 成员是可选的,它是一个位图,只有在这个位图中设置了的位才会画出。
从clip_mask到可绘区的映射是由clip_x_origin和clip_y_origin值决定的,这些定义了与clip_mask 中(0,0)对应的可绘区的坐标。
也可以设置一个剪裁矩形(最常用的、也是最有用的形式)或一个剪裁区域(区域就是在屏幕上的任意范围,典型情况是一个多边形或矩形列表)。
用gdk_gc_set_clip_rectangle()设置剪裁矩形:GdkRectangleclip_rect;clip_rect.x=10;clip_rect.y=20;clip_rect.width=200;clip_rect.height=100;gdk_gc_set_clip_rectangle(gc,&clip_rect);要关闭“剪裁”,将剪裁的矩形、区域或剪裁屏蔽值设置为NULL。
GC的subwindow_mode 只与可绘区是否为一个窗口有关。
缺省设置是GDK_CLIP_BY_CHILDREN;这意指子窗口不会被在父窗口上的绘图影响。
这会造成一个假象:子窗口在父窗口的“上面”,并且子窗口是不透明的。
GDK_INCLUDE_INFERIORS在所有在“上面”的子窗口上绘制,改写子窗口上包含的任何图形—通常不使用这种模式。
如果确实在使用GDK_INCLUDE_INFERIORS模式,可能要使用GDK_XOR作为绘图函数,因为它允许恢复子窗口原先的内容。
graphics_exposures是一个布尔值,缺省是TRUE,它决定gdk_window_copy_area()是否产生expose事件。
GC的最后四个值决定怎样画线。
这些值用于画线,包括未填充多边形的边框以及弧线。
line_width域决定线的宽度(以像素计)。
宽度为0的线称为一条“细线”,细线是一个像素宽的线,绘制得非常快(通常使用硬件加速),但是画的具体像素依赖于所使用的X服务器。
为了一致性,最好使用宽度为1的线。
line_style域可以是下面三种值:GDK_LINE_SOLID是缺省值;一条实线。
GDK_LINE_ON_OFF_DASH用前景色画一条虚线,将虚线的off(关闭)部分空着。
GDK_LINE_DOUBLE_DASH用前景色画一条虚线,但是虚线的off(关闭)部分用背景色绘制。
虚线是gdk_gc_set_dashes()指定的;GdkGCValues中并不包括这个域。
gdk_gc_set_dashes()需要三个参数:dash_list是一个虚线长度的数组。
偶数号的长度是“on”(打开)部分,它们是用前景色绘制的;奇数号的长度是“off”(关闭)部分,它们不画出,或者用背景色绘制,具体绘制方法依赖于line_style。
长度值不能是0,所有的值必须是正数。
dash_offset是在虚线列表中第一个像素的索引号。
也就是,如果在dash_list中指定了5个on和5个off,并且dash_offset是3,绘制的线将从第3个on虚线开始。
N是在dash_list中的元素的个数。
可以设置一个古怪的虚线模式,例如:gchardash_list[]={5,5,3,3,1,1,3,3};gdk_gc_set_dashes(gc,0,dash_list,sizeof(dash_list));缺省的dash_list是{4,4},偏移量是0。
图16-1显示了一些用GDK_LINE_DOUBLE_DASH画的虚线。
图形上下文的前景色是黑色,背景色是亮灰色。
头5根线是缺省的{4,4}虚线模式,偏移量分别是0、1、2、3和4。
记住,缺省值是0。
图16-2显示了这5根线的放大图。
最后的一根线就是上面提到的古怪虚线模式,它的放大图显示在图16-3。
cap_style决定X怎样画线的端点(或虚线端点)。
它有4种可能取值:GDK_CAP_BUTT:是缺省值,它意味着线的端点是正方形的。
GDK_CAP_NOT_LAST:对应一个像素宽度的线,最后一个像素忽略不画。
其他与GDK_CAP_BUTT一样。
GDK_CAP_ROUND:在线的端点画一个小弧线,由线的端点向两边延伸。
弧线的中心是线的端点,半径是线宽的一半。
对一个像素宽的线,它没有什么效果(因为没有办法画一个像素宽的弧线)。
GDK_CAP_PROJECTING:将线延伸,越过它的终点半个线宽。
它对一个像素的线没有效果。
join_style参数影响画多边形或在一个函数中画多条线时,各线之间如何连接。
如果把线想象成一个细长的矩形,就很容易弄清楚线之间并不是平滑连接的。
在连接的两个端点之间有一个凹槽。
对这个凹槽有三种处理方法,也就是join_style的三种可能取值:GDK_JOIN_MITER:是缺省值,在线交叉的地方画一个尖角。
GDK_JOIN_ROUND:在交叉的凹槽处画一个弧线,画一个圆形的转角。
GDK_JOIN_BEVEL:用最小的可能的形状填充凹槽,画一个平坦的转角。
函数列表:GdkGC#include<gdk/gdk.h>GdkGC*gdk_gc_new(GdkWindow*window)GdkGC*gdk_gc_new_with_values(GdkWindow*window,GdkGCValues*values,GdkGCValuesMaskvalues_mask)voidgdk_gc_set_dashes(GdkGC*gc,gintdash_offset,gchardash_list,gintn)voidgdk_gc_unref(GdkGC*gc)。