GJB548B_2005微电子器件试验办法和程序文件
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GJB 548B-2005是微电子器件试验方法和程序的标准。
这个标准规定了军用微电子
器件的环境、机械、电气试验方法和试验程序,以及为保证微电子器件满足预定用途所要求的质量和可靠性而必须的控制和限制措施。
如果承制方标明或声称其半导
体集成电路符合本标准的规定,则必须满足方法5004、5005或5010(对复杂微电路)的要求,混合集成电路应满足GJB 2438的要求,同时应满足本标准的一般要求和所引用的其他试验方法的要求,而且产品规范应经标准化机构确认。
GJB 548B-2005 微电子器件试验方法和程序点击次数:181 发布进度:2011-3-1 14:24:07GJB 548B-2005 代替 GJB 548A-1996中华人民共和国国家军用标准微电子器件试验方法和程序Test methods and procedures for microelectronic device方法 1009.2 盐雾(盐汽)1 追求本试验是为了模拟海边空气对器件影响的一个加速的腐蚀试验1.1 术语和定义1.1.1 腐蚀 corrosion指涂层和(或)底金属由于化学或电化学的作用而逐渐地损坏1.1.2 腐蚀部位 corrosion site指涂层和(或)底金属被腐蚀的部位,即腐蚀位置1.1.3 腐蚀生成物(淀积物) corrosion product(dcposit)指腐蚀作用的结果(即锈或氧化铁、氧化镍、氧化锡等)。
腐蚀生成物可能在原来腐蚀部位,或者由于盐液的流动或蔓延而覆盖非腐蚀区域。
1.1.4 腐蚀色斑 corrosion stain腐蚀色斑是由腐蚀产生的半透明沉淀物。
1.1.5 气泡 blister指涂层和底金属之间的局部突起和分离1.1.6 针孔 pinhole指涂层中产生的小孔,它是完全贯穿涂层的一种缺陷。
1.1.7 凹坑 pitting指涂层和(或)底金属的局部腐蚀,在某一点或小区域形成空洞1.1.8 起皮 flaking指局部涂层分离,而使底金属显露2 设备盐雾试验所用设备应包括:a) 带有支撑器件夹具的试验箱。
该箱及其附件应彩不会与盐雾发生作用的材料(玻璃、塑料等)制造。
在试验箱内,与试验样品接触的所有零件,应当用不产生电解腐蚀的材料制造。
该箱应适当通风,以防止产生“高压”,并保持盐雾的均匀分布。
b) 能适当地防止周围环境条件对盐溶液容器的影响。
如需要,为了进行长进度试验,可采用符合试验条件C和D(见3.2)要求的备用盐溶液容器。
c) 使盐液雾化的手段,包括合适的喷嘴和压缩空气或者由20%氧、80%氮组成的混合气体(应防止诸如油和灰尘等杂质随气体进入雾化器中);d) 试验箱应能加热和控制e) 在高于试验箱温度的某温度下,使空气潮湿的手段。
G J B B微电子器件试验方法和程序集团档案编码:[YTTR-YTPT28-YTNTL98-UYTYNN08]G J B548B-2005微电子器件试验方法和程序点击次数:181 发布时间:2011-3-1 14:24:07GJB 548B-2005 代替 GJB 548A-1996?中华人民共和国国家军用标准微电子器件试验方法和程序Test methods and procedures for microelectronic device方法盐雾(盐汽)1 目的本试验是为了模拟海边空气对器件影响的一个加速的腐蚀试验术语和定义1.1.1 腐蚀 corrosion指涂层和(或)底金属由于化学或电化学的作用而逐渐地损坏腐蚀部位 corrosion site指涂层和(或)底金属被腐蚀的部位,即腐蚀位置腐蚀生成物(淀积物) corrosion product(dcposit)指腐蚀作用的结果(即锈或氧化铁、氧化镍、氧化锡等)。
腐蚀生成物可能在原来腐蚀部位,或者由于盐液的流动或蔓延而覆盖非腐蚀区域。
1.1.4 腐蚀色斑 corrosion stain腐蚀色斑是由腐蚀产生的半透明沉淀物。
气泡 blister指涂层和底金属之间的局部突起和分离针孔 pinhole指涂层中产生的小孔,它是完全贯穿涂层的一种缺陷。
凹坑 pitting指涂层和(或)底金属的局部腐蚀,在某一点或小区域形成空洞起皮 flaking指局部涂层分离,而使底金属显露2 设备盐雾试验所用设备应包括:a) 带有支撑器件夹具的试验箱。
该箱及其附件应彩不会与盐雾发生作用的材料(玻璃、塑料等)制造。
在试验箱内,与试验样品接触的所有零件,应当用不产生电解腐蚀的材料制造。
该箱应适当通风,以防止产生“高压”,并保持盐雾的均匀分布;b) 能适当地防止周围环境条件对盐溶液容器的影响。
如需要,为了进行长时间试验,可采用符合试验条件C和D(见要求的备用盐溶液容器;c) 使盐液雾化的手段,包括合适的喷嘴和压缩空气或者由20%氧、80%氮组成的混合气体(应防止诸如油和灰尘等杂质随气体进入雾化器中);d) 试验箱应能加热和控制e) 在高于试验箱温度的某温度下,使空气潮湿的手段;f) 空气或惰性气体于燥器;g) 1倍~3倍、10倍~20倍和30倍~60倍的放大镜。
WORD 格式整理GJB 548B-2005 微电子器件试验方法和程序点击次数: 181 发布时间: 2011-3-1 14:24:07GJB 548B-2005 代替 GJB 548A-1996中华人民共和国国家军用标准微电子器件试验方法和程序Test methods and procedures for microelectronic device方法 1009.2盐雾(盐汽)1目的本试验是为了模拟海边空气对器件影响的一个加速的腐蚀试验1.1术语和定义1.1.1腐蚀corrosion指涂层和 ( 或 ) 底金属由于化学或电化学的作用而逐渐地损坏1.1.2腐蚀部位corrosion site指涂层和 ( 或 ) 底金属被腐蚀的部位,即腐蚀位置1.1.3腐蚀生成物(淀积物) corrosion product(dcposit)指腐蚀作用的结果 ( 即锈或氧化铁、氧化镍、氧化锡等 ) 。
腐蚀生成物可能在原来腐蚀部位,或者由于盐液的流动或蔓延而覆盖非腐蚀区域。
1.1.4腐蚀色斑corrosion stain腐蚀色斑是由腐蚀产生的半透明沉淀物。
1.1.5气泡blister指涂层和底金属之间的局部突起和分离1.1.6针孔pinhole指涂层中产生的小孔,它是完全贯穿涂层的一种缺陷。
1.1.7凹坑pitting指涂层和 ( 或 ) 底金属的局部腐蚀,在某一点或小区域形成空洞1.1.8起皮flaking指局部涂层分离,而使底金属显露2设备盐雾试验所用设备应包括:a)带有支撑器件夹具的试验箱。
该箱及其附件应彩不会与盐雾发生作用的材料( 玻璃、塑料等) 制造。
在试验箱内,与试验样品接触的所有零件,应当用不产生电解腐蚀的材料制造。
该箱应适当通风,以防止产生“高压”,并保持盐雾的均匀分布;b)能适当地防止周围环境条件对盐溶液容器的影响。
如需要,为了进行长时间试验,可采用符合试验条件 C 和 D(见 3.2) 要求的备用盐溶液容器;c)使盐液雾化的手段,包括合适的喷嘴和压缩空气或者由 20%氧、80%氮组成的混合气体 ( 应防止诸如油和灰尘等杂质随气体进入雾化器中);d)试验箱应能加热和控制e)在高于试验箱温度的某温度下,使空气潮湿的手段;f)空气或惰性气体于燥器;g)1 倍 ~3 倍、 10 倍~20 倍和 30 倍 ~60 倍的放大镜。
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腐蚀生成物可能在原来腐蚀部位,或者由于盐液的流动或蔓延而覆盖非腐蚀区域。
1.1.4 腐蚀色斑 corrosion stain腐蚀色斑是由腐蚀产生的半透明沉淀物。
1.1.5 气泡 blister指涂层和底金属之间的局部突起和分离1.1.6 针孔 pinhole指涂层中产生的小孔,它是完全贯穿涂层的一种缺陷。
1.1.7 凹坑 pitting指涂层和(或)底金属的局部腐蚀,在某一点或小区域形成空洞1.1.8 起皮 flaking指局部涂层分离,而使底金属显露2 设备盐雾试验所用设备应包括:a) 带有支撑器件夹具的试验箱。
该箱及其附件应彩不会与盐雾发生作用的材料(玻璃、塑料等)制造。
在试验箱内,与试验样品接触的所有零件,应当用不产生电解腐蚀的材料制造。
该箱应适当通风,以防止产生“高压”,并保持盐雾的均匀分布;b) 能适当地防止周围环境条件对盐溶液容器的影响。
如需要,为了进行长时间试验,可采用符合试验条件C和D(见3.2)要求的备用盐溶液容器;c) 使盐液雾化的手段,包括合适的喷嘴和压缩空气或者由20%氧、80%氮组成的混合气体(应防止诸如油和灰尘等杂质随气体进入雾化器中);d) 试验箱应能加热和控制e) 在高于试验箱温度的某温度下,使空气潮湿的手段;f) 空气或惰性气体于燥器;g) 1倍~3倍、10倍~20倍和30倍~60倍的放大镜。
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腐蚀生成物可能在原来腐蚀部位,或者由于盐液的流动或蔓延而覆盖非腐蚀区域。
1.1.4 腐蚀色斑 corrosion stain腐蚀色斑是由腐蚀产生的半透明沉淀物。
1.1.5 气泡 blister指涂层和底金属之间的局部突起和分离1.1.6 针孔 pinhole指涂层中产生的小孔,它是完全贯穿涂层的一种缺陷。
1.1.7 凹坑 pitting指涂层和(或)底金属的局部腐蚀,在某一点或小区域形成空洞1.1.8 起皮 flaking指局部涂层分离,而使底金属显露2 设备盐雾试验所用设备应包括:a) 带有支撑器件夹具的试验箱。
该箱及其附件应彩不会与盐雾发生作用的材料(玻璃、塑料等)制造。
在试验箱内,与试验样品接触的所有零件,应当用不产生电解腐蚀的材料制造。
该箱应适当通风,以防止产生“高压”,并保持盐雾的均匀分布;b) 能适当地防止周围环境条件对盐溶液容器的影响。
如需要,为了进行长时间试验,可采用符合试验条件C和D(见3.2)要求的备用盐溶液容器;c) 使盐液雾化的手段,包括合适的喷嘴和压缩空气或者由20%氧、80%氮组成的混合气体(应防止诸如油和灰尘等杂质随气体进入雾化器中);d) 试验箱应能加热和控制e) 在高于试验箱温度的某温度下,使空气潮湿的手段;f) 空气或惰性气体于燥器;g) 1倍~3倍、10倍~20倍和30倍~60倍的放大镜。
G J B B微电子器件试验方法和程序Revised final draft November 26, 2020G J B548B-2005微电子器件试验方法和程序点击次数:181 发布时间:2011-3-1 14:24:07GJB 548B-2005 代替 GJB 548A-1996?中华人民共和国国家军用标准微电子器件试验方法和程序Test methods and procedures for microelectronic device方法盐雾(盐汽)1 目的本试验是为了模拟海边空气对器件影响的一个加速的腐蚀试验术语和定义1.1.1 腐蚀 corrosion指涂层和(或)底金属由于化学或电化学的作用而逐渐地损坏腐蚀部位 corrosion site指涂层和(或)底金属被腐蚀的部位,即腐蚀位置腐蚀生成物(淀积物) corrosion product(dcposit)指腐蚀作用的结果(即锈或氧化铁、氧化镍、氧化锡等)。
腐蚀生成物可能在原来腐蚀部位,或者由于盐液的流动或蔓延而覆盖非腐蚀区域。
1.1.4 腐蚀色斑 corrosion stain腐蚀色斑是由腐蚀产生的半透明沉淀物。
气泡 blister指涂层和底金属之间的局部突起和分离针孔 pinhole指涂层中产生的小孔,它是完全贯穿涂层的一种缺陷。
凹坑 pitting指涂层和(或)底金属的局部腐蚀,在某一点或小区域形成空洞起皮 flaking指局部涂层分离,而使底金属显露2 设备盐雾试验所用设备应包括:a) 带有支撑器件夹具的试验箱。
该箱及其附件应彩不会与盐雾发生作用的材料(玻璃、塑料等)制造。
在试验箱内,与试验样品接触的所有零件,应当用不产生电解腐蚀的材料制造。
该箱应适当通风,以防止产生“高压”,并保持盐雾的均匀分布;b) 能适当地防止周围环境条件对盐溶液容器的影响。
如需要,为了进行长时间试验,可采用符合试验条件C和D(见要求的备用盐溶液容器;c) 使盐液雾化的手段,包括合适的喷嘴和压缩空气或者由20%氧、80%氮组成的混合气体(应防止诸如油和灰尘等杂质随气体进入雾化器中);d) 试验箱应能加热和控制e) 在高于试验箱温度的某温度下,使空气潮湿的手段;f) 空气或惰性气体于燥器;g) 1倍~3倍、10倍~20倍和30倍~60倍的放大镜。
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腐蚀生成物可能在原来腐蚀部位,或者由于盐液的流动或蔓延而覆盖非腐蚀区域。
1.1.4 腐蚀色斑 corrosion stain腐蚀色斑是由腐蚀产生的半透明沉淀物。
1.1.5 气泡 blister指涂层和底金属之间的局部突起和分离1.1.6 针孔 pinhole指涂层中产生的小孔,它是完全贯穿涂层的一种缺陷。
1.1.7 凹坑 pitting指涂层和(或)底金属的局部腐蚀,在某一点或小区域形成空洞1.1.8 起皮 flaking指局部涂层分离,而使底金属显露2 设备盐雾试验所用设备应包括:a) 带有支撑器件夹具的试验箱。
该箱及其附件应彩不会与盐雾发生作用的材料(玻璃、塑料等)制造。
在试验箱内,与试验样品接触的所有零件,应当用不产生电解腐蚀的材料制造。
该箱应适当通风,以防止产生“高压”,并保持盐雾的均匀分布;b) 能适当地防止周围环境条件对盐溶液容器的影响。
如需要,为了进行长时间试验,可采用符合试验条件C和D(见3.2)要求的备用盐溶液容器;c) 使盐液雾化的手段,包括合适的喷嘴和压缩空气或者由20%氧、80%氮组成的混合气体(应防止诸如油和灰尘等杂质随气体进入雾化器中);d) 试验箱应能加热和控制e) 在高于试验箱温度的某温度下,使空气潮湿的手段;f) 空气或惰性气体于燥器;g) 1倍~3倍、10倍~20倍和30倍~60倍的放大镜。
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腐蚀生成物可能在原来腐蚀部位,或者由于盐液的流动或蔓延而覆盖非腐蚀区域。
1.1.4 腐蚀色斑 corrosion stain腐蚀色斑是由腐蚀产生的半透明沉淀物。
1.1.5 气泡 blister指涂层和底金属之间的局部突起和分离1.1.6 针孔 pinhole指涂层中产生的小孔,它是完全贯穿涂层的一种缺陷。
1.1.7 凹坑 pitting指涂层和 ( 或 ) 底金属的局部腐蚀,在某一点或小区域形成空洞1.1.8 起皮 flaking指局部涂层分离,而使底金属显露专业知识分享2设备盐雾试验所用设备应包括:a) 带有支撑器件夹具的试验箱。
该箱及其附件应彩不会与盐雾发生作用的材料( 玻璃、塑料等) 制造。
在试验箱内,与试验样品接触的所有零件,应当用不产生电解腐蚀的材料制造。
该箱应适当通风,以防止产生“高压”,并保持盐雾的均匀分布;b)能适当地防止周围环境条件对盐溶液容器的影响。
如需要,为了进行长时间试验,可采用符合试验条件 C 和 D(见 3.2) 要求的备用盐溶液容器;c)使盐液雾化的手段,包括合适的喷嘴和压缩空气或者由 20%氧、80%氮组成的混合气体( 应防止诸如油和灰尘等杂质随气体进入雾化器中);d)试验箱应能加热和控制e)在高于试验箱温度的某温度下,使空气潮湿的手段;f)空气或惰性气体于燥器;g)1 倍 ~3 倍、 10 倍~20 倍和 30 倍 ~60 倍的放大镜。
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GJB548B-2005代替GJB548A-1996
?中华人民共和国国家军用标准
微电子器件试验方法和程序
方法
1目的
1.1
1.1.1腐蚀
指涂层和(
1.1.2
指涂层和(
1.1.3
指腐蚀作用的结果(即锈或氧化铁、氧化镍、氧化锡等)。
腐蚀生成物可能在原来腐蚀部位,或者由于盐液的流
动或蔓延而覆盖非腐蚀区域。
1.1.4腐蚀色斑corrosionstain
腐蚀色斑是由腐蚀产生的半透明沉淀物。
1.1.5气泡blister
指涂层和底金属之间的局部突起和分离
1.1.6针孔pinhole
指涂层中产生的小孔,它是完全贯穿涂层的一种缺陷。
1.1.7凹坑pitting
指涂层和(或)底金属的局部腐蚀,在某一点或小区域形成空洞
1.1.8起皮
2设备
a))制造。
在试验
b)
验条件C
见3.2)
c)使盐液雾化的手段,包括合适的喷嘴和压缩空气或者由20%氧、80%氮组成的混合气体(应防止诸如油和灰尘
等杂质随气体进入雾化器中);
d)试验箱应能加热和控制
e)在高于试验箱温度的某温度下,使空气潮湿的手段;
f)空气或惰性气体于燥器;
g)1倍~3倍、10倍~20倍和30倍~60倍的放大镜。
3程序
3.1试验箱的维护和初始处理
试验箱的清洗是为了保证把会对试验结果产生不良影响的所有物质清除出试验箱。
使试验箱工作在(35±3)℃
,用去离子水或蒸馏水进行必要的清洗。
每当容器里的盐溶液用完时,就应当清洗试验箱。
某些试
(见3.2的试验
条件C和
的pH
保持在
3.1.1
的盐应为氯化钠,其碘化钠的质量百分比不得多于0.1%,且总杂质的质量百分比不得多于0.3%。
在(35±3)℃
下测量时,盐溶液的pH值应在6.5~7.2之间。
只能用化学纯的盐酸或氢氧化钠(稀溶液)来调整pH 值。
3.1.2引线的预处理
除另有规定外,试验样品不应进行预处理。
当有要求时(见4c),样品进行试验之前,器件引线应按方法2004试
验条件B1的要求,承受弯曲应力的初始处理。
如果进行试验的样品已经作为其他试验的一部分进行过所要求的初
始处理,那么,其引线无需重新弯曲。
3.1.3试验样品的安置
样品应按下述方位安置在固定的夹具上(有机玻璃棒、尼龙或玻璃纤维筛、尼龙绳等)。
样品应这样安置,使它
a)
双列封装
15°(见图
)
b)
平板封装
)1b)
c)
向15°~45
上。
剩下的样品
外壳向上。
其他封装都应盖板向上做试验(见图1c)。
d)无引线或有引线片式载体:盖板偏离垂直方向15°~45°,试验时一半样品盖板向上,剩余的样品盖板向下(
见图1d)
注1:对于要求进行两种取向的试验,应把规定的样品数分成两等份(或尽可能接近一半)。
在所有的情况下,
对所有的封装表面按3.4进行试验后的检查。
注2:对开有窗口的紫外线可擦器件进行试验时,要采取保护措施,以防止光感应电动势产生电解作用。
3.1.4试验箱的控制
按照第3见3.2)
在
g/()。
在试3.2
3.3
淀的盐。
而后样品用空气或惰性气体吹干,进行下述检查。
表1试验条件
试验条件??试验时间h
A??????????24
B??????????48
C??????????96
D??????????240
3.4失效判据
除3.4.1b)和3.4.1c)另有规定外,所有检查都应在放大10倍~20倍的情况下进行。
注3
3.4.1
a)5%。
照片(见图
b)
引线,或玻
璃封装中出现针孔、凹坑、气泡、起皮、腐蚀生成或腐蚀色斑的引线,应进一步做如下试验:在引线缺陷处弯曲
90°,使拉伸应力加到缺陷处。
若出现引线的断裂或底层金属的破裂面超过引线横截面积的50%,应拒收。
若有
多处出现缺陷,应在腐蚀最严重处进行弯曲。
对10根以上引线出现缺陷的封装,只需对最多10根腐蚀最严重引线
进行弯曲。
应放大30倍~60倍进行破裂情况检查。
c)规定标志的一部分脱落、褪色、弄脏、模糊或不可辨认。
该检查应在室内正常照明下放大1倍~3倍进行。
3.4.2封装元件
?
a)(例如外壳)镀
)
4说明
a)
b)试验后的测量和检查(除目检外)(见3.4)
c)预处理的要求(若需要)和程序(若不按3.1.2的规定)。