镀膜工艺简介

塑料真空镀膜的相关概述介绍一、工艺流程塑料真空镀膜的常用工艺流程包括：基材表面处理、真空蒸发、离子镀膜、清洗与包装。

基材表面处理是首要步骤，其目的是清除塑料表面的污染物以提高镀膜质量。

真空蒸发是将要镀的材料加热至昇华状态，蒸发后附着在塑料表面形成镀层。

离子镀膜是在真空环境中通过离子束轰击镀层，使其更加致密、附着力更强。

最后进行清洗与包装，确保产品的质量和外观。

二、技术原理1.蒸发：将要镀的材料加热至昇华状态，使其转化为蒸汽形式，然后通过真空环境将蒸汽输送到塑料表面，形成附着在塑料表面的镀层。

2.离子镀膜：离子镀膜是在真空环境中，通过引入离子束轰击镀层，使其重排结构，提高附着力和密着度。

离子束轰击还能改善镀层中的应力和控制其颗粒大小。

3.基材表面处理：基材表面处理是清除表面的污染物、氧化物、油脂等，以便提高镀层的附着力。

常用的表面处理方法包括久置灰、化学清洗、离子轰击等。

三、应用领域1.电子产品：塑料真空镀膜能够使电子产品的外观更加美观，并提高耐磨性和耐化学性，例如镀膜后的手机外壳、鼠标等。

2.汽车行业：塑料真空镀膜能够提高汽车零部件的防腐、阻隔性和耐磨性，例如车内装饰品、外观件等。

同时还能提升汽车外观的质感。

3.包装行业：塑料真空镀膜可以提高包装材料的阻氧、阻湿、阻光性能，适用于食品、医药等行业的包装材料，延长产品保质期。

4.家用电器：塑料真空镀膜技术可以为家用电器增添高端质感，提高产品外观的吸引力和市场竞争力。

5.其他领域：塑料真空镀膜技术还可以应用于玩具、眼镜、手表、珠宝等各个领域，为其增加附加值和市场竞争力。

总结：塑料真空镀膜技术是一种常用的塑料表面处理技术，通过工艺流程包括基材表面处理、真空蒸发、离子镀膜、清洗与包装等步骤来实现。

该技术的原理主要包括蒸发、离子镀膜和基材表面处理。

塑料真空镀膜广泛应用于电子产品、汽车行业、包装行业、家用电器等各个领域，提高产品的外观和性能，增加市场竞争力。

pcb镀膜工艺技术
PCB镀膜工艺技术是指将一层薄膜涂覆在PCB（Printed
Circuit Board，印刷电路板）的表面，用于保护电路板免受环
境污染和氧化腐蚀。

常见的PCB镀膜工艺技术包括喷涂、浸涂、浸镀、喷镀等。

1. 喷涂：直接用喷枪将防腐膜涂覆在PCB表面。

该工艺简单，但效果较差，易产生浮白和脱落现象。

2. 浸涂：将PCB放入含有防腐膜的槽中，通过液力将膜涂覆
在PCB表面。

该工艺需要控制液体的温度和浓度，以保证膜
的均匀性和质量。

3. 浸镀：将PCB放入含有金属材料（如锡、银）的浸涂槽中，通过电化学反应使金属材料镀到PCB表面。

该工艺可以提高PCB的导电性和抗氧化能力。

4. 喷镀：类似于喷涂工艺，将金属材料（如锡、银）以液态喷射到PCB表面。

喷镀工艺可以在不使用电流的情况下进行，
适用于一些对电流敏感的电路板。

通过PCB镀膜工艺技术，可以增加PCB的抗氧化能力，减少PCB与环境因素的接触，延长电路板的使用寿命。

不同的镀
膜工艺技术适用于不同的应用场景，制造商需要根据自身需求和要求选择适合的工艺技术。

真空镀膜工艺
1 基本介绍
真空镀膜技术是一种具有特殊功能的热处理工艺，它将具有一定
特性的薄膜镀到金属表面或非金属表面，并因此实现特定的功能。

主
要用于表面处理，如抗摩擦，防腐蚀，防污染，抗火花等。

2 表面镀膜工艺
实施真空镀膜的步骤有：(1) 清洁加工，一般采用物理清洁和化
学清洁；(2) 光刻，可以改善表面质量和减少表面粗糙度； (3) 真空
镀膜，在真空中将特殊合成成分镀层附着在物体表面； (4) 检查清洗，检查环境与清洁工艺确保膜层的质量； (5) 模具处理，主要涉及模具
的清洗、润滑、热处理和外观修整；(6) 热处理，一般采用常压下的
热处理工艺来提高表面的硬度； (7) 完成准备工作，做最后的装配。

3 应用介绍
真空镀膜技术应用广泛，主要用于汽车、航空、航天、电子信息
和其他制造业。

在汽车行业，真空镀膜技术用于汽车零部件的保护和
表面处理，包括发动机舱、发动机舱墙面、内衬和刹车踏板等；在航
空航天行业，真空镀膜技术可用于涂层航空飞机舱门，以提高舱体耐
火性能，并在航空零部件上应用金属薄膜改善耐蚀性；电子制造业应
用真空镀膜技术，可以改善产品的性能。

4 特点
真空镀膜有良好的表面突出和功能方面的性能，如抗摩擦性、热传导性、抗腐蚀性等，同时对精密零件表面和粉末冶金表面保护作用显著。

有利于确保机械零件的性能，改善生产环境，提高工艺品质，降低生产成本。

5 结论
真空镀膜技术是表面处理的一种非常重要的技术，其膜层特性有助于提高表面的耐磨性、表面的抗腐蚀性和耐火性，对于改善机械零件的性能有着关键作用，广泛应用于各种行业。

PVD镀膜工艺简介PVD镀膜（Physical Vapor Deposition）是一种利用物理气相沉积的技术，在高真空环境下，通过蒸发、溅射等方式将金属、合金、化合物等材料以薄膜的形式沉积到基材表面的一种工艺。

PVD镀膜工艺被广泛应用于各个领域，如光学、电子、机械、汽车、建筑等。

蒸发是PVD镀膜中最早应用的一种工艺。

通过加热源将材料加热至蒸发温度，使其转变为气态，然后在真空室内的基板上形成薄膜。

蒸发工艺可以通过电阻加热、电子束加热等方式来进行。

这种工艺的特点是操作简单，成本较低，但适用于蒸发温度较低的材料。

溅射是PVD镀膜中应用较广泛的一种工艺。

通过高能粒子的轰击使靶材表面的原子或离子脱落，然后被沉积在基板表面上形成薄膜。

溅射工艺一般可分为直流溅射、射频溅射、磁控溅射等不同方式。

这种工艺具有较高的沉积速率和较好的膜层均匀性，适用于多种材料的沉积。

离子镀是一种利用离子轰击作用在基材表面上形成薄膜的工艺。

通过向沉积膜层的材料供应高能离子，使其在基板表面发生化学反应并沉积形成薄膜。

离子镀工艺能够提高薄膜的致密性和附着力，适用于复杂形状的基板和高精密要求的镀膜。

在PVD镀膜过程中，需要注意以下几个关键环节。

首先，要确保真空室内的气压稳定，并保持高真空状态，以避免杂质对薄膜质量的影响。

其次，镀膜前需对基材进行表面处理，如清洗、抛光等，以提高薄膜的附着力。

再次，镀膜材料的纯度和均匀性对薄膜性能起着重要影响，因此需要对材料进行精细的处理和选择。

最后，要通过适当的加热、冷却以及离子轰击等方式，使沉积的薄膜具有良好的致密性和均匀性。

PVD镀膜工艺具有许多优点。

首先，它可以在室温下进行，避免了高温对基材产生的热应力和变形。

其次，沉积的薄膜具有较高的质量和均匀性，具有良好的机械性能和化学稳定性。

再次，PVD镀膜可用于多种材料的沉积，如金属、合金、化合物等，具有较大的灵活性和可扩展性。

此外，PVD镀膜还具有低污染性、无溶剂使用、高效节能等环保优势。

镀膜工艺流程
《镀膜工艺流程》
镀膜工艺是一种常用的表面处理技术，旨在为材料表面增加一层膜，从而改善其性能和外观。

镀膜工艺可以应用于金属、塑料、陶瓷等各种材料上，用途广泛。

下面将介绍镀膜工艺的主要流程。

1. 表面处理：在进行镀膜之前，首先需要将材料的表面进行处理，以确保膜层能够牢固地附着在其上。

通常，表面处理包括去油、除锈、打磨、清洗等步骤。

2. 镀前处理：将经过表面处理的材料放入镀前处理液中进行处理，以增强膜的附着性。

镀前处理一般包括清洗、酸洗、活化等步骤。

3. 镀膜：将经过镀前处理的材料放入镀膜槽中进行镀膜。

镀液中通常含有金属离子，通过电化学方法将金属离子还原成金属层，从而在材料表面形成一层金属膜。

4. 后处理：对镀膜后的材料进行清洗、干燥、抛光等后处理工艺，以确保膜层光滑、均匀、无缺陷。

以上就是镀膜工艺的主要流程。

通过上述步骤，可以为材料表面增加一层薄膜，提升其耐腐蚀性、硬度、光泽度等性能。

镀膜工艺不仅可以用于美化产品外观，还可以增强材料的使用寿命和耐用性，因此在工业生产中具有重要的应用价值。

镀膜工艺技术镀膜工艺技术是一种将膜物质涂覆在工件表面的方法，使工件具有特定的性能或外观效果的技术。

镀膜工艺技术广泛应用于电子、航空航天、光学、汽车等领域。

一、镀膜工艺技术的分类根据涂覆物的不同，镀膜工艺技术可以分为化学镀膜、物理镀膜和电化学镀膜三种。

1. 化学镀膜技术化学镀膜是利用化学反应将膜物质溶解在化学溶液中，通过反应物分子在工件表面形成一层薄膜，从而改善工件表面的性能。

常用的化学镀膜技术有镀金、镀铬、镀镍等。

2. 物理镀膜技术物理镀膜是利用物理方法将膜物质蒸发或溅射到工件表面，形成一层薄膜。

常见的物理镀膜技术有真空蒸发、物理气相沉积等。

3. 电化学镀膜技术电化学镀膜是利用电解溶液中的阳离子在阳极处发生离子化，经过电场作用，将离子在阴极处还原，形成一层薄膜。

常见的电化学镀膜技术有镀锌、镀铜、镀锡等。

二、镀膜工艺技术的应用1. 保护性镀膜镀膜可以在工件表面形成一层保护性膜，防止工件与外界环境接触，延长其使用寿命。

例如，汽车零部件镀锌可以防止钢铁零件锈蚀，延长其使用寿命。

2. 装饰性镀膜镀膜可以使工件表面具有金属质感或其他特殊效果，提高其装饰性。

例如，首饰镀金可以使首饰更加闪亮、美观。

3. 功能性镀膜镀膜可以赋予工件特定的功能，如增加工件的导电性、耐磨性或降低摩擦系数等。

例如，光学镀膜可以使镜片具有优良的透光性和抗反射性能。

三、镀膜工艺技术的发展趋势1. 绿色环保化随着环保意识的提高，镀膜工艺技术向着绿色环保化的方向发展。

例如，采用无铬镀膜工艺替代传统的六价铬镀膜，可以减少对环境的污染。

2. 高效节能化工艺技术的不断创新，使得镀膜过程中的能源消耗大大减少，提高了工艺的效率和节能性。

3. 自动化智能化镀膜工艺技术在自动化和智能化方面的应用越来越广泛，大大提高了生产效率和产品质量。

例如，采用机器人来进行膜物质的涂覆，可以保证涂覆的均匀性和一致性。

总之，镀膜工艺技术是一项重要的表面处理技术，具有广泛的应用前景。

PECVD镀膜工艺膜层结构计算一、概述1.1 PECVD镀膜工艺简介PECVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition)是一种常用的薄膜沉积工艺，通过在放电等离子体环境中使气体化学反应沉积薄膜。

其优点是可在较低的温度下进行，对于柔性基板和有机材料具有较好的适用性。

1.2 膜层结构及其重要性膜层结构在薄膜技术中有着重要的作用，不同的结构对薄膜性能有着显著的影响。

准确地计算膜层结构是非常重要的，可以帮助工程师更好地理解薄膜性能，并对工艺参数进行优化。

二、PECVD镀膜工艺膜层结构的计算方法2.1 常用的计算方法一般来说，可以采用理论计算和实验测试相结合的方法来计算PECVD 镀膜工艺膜层结构。

理论计算可以采用蒙特卡洛方法模拟沉积过程，通过模拟分子在表面的扩散、吸附和反应等过程来得到膜层的结构信息。

实验测试方面可以采用X射线衍射、扫描电镜等手段来对膜层进行分析。

2.2 蒙特卡洛方法蒙特卡洛方法是一种基于概率统计原理的计算方法，可以模拟分子在表面的扩散、吸附和反应等过程。

通过在计算机上建立模拟系统，模拟大量粒子在给定条件下的运动，可以得到膜层的结构信息。

2.3 X射线衍射X射线衍射是一种通过对材料进行X射线照射，然后由材料表面散射出的X射线进行分析，从而得到材料结构信息的方法。

可以通过X射线衍射的峰位和峰型来分析膜层的结构特征。

2.4 扫描电镜扫描电镜是一种能够对样品进行高分辨率表面成像的仪器，通过对膜层表面进行扫描，可以得到膜层的微观结构信息。

可以观察膜层的厚度、颗粒大小、表面形貌等特征。

三、膜层结构计算在PECVD镀膜工艺中的应用3.1 对薄膜性能的影响膜层结构对薄膜的光学、电学、机械等性能都有着重要的影响。

薄膜的光学性能受到膜层的厚度、晶粒大小等因素的影响；电学性能则受到了膜层的电子结构、电子迁移率等因素的影响。

了解膜层结构对于理解薄膜性能具有重要意义。

塑料镀膜工艺技术
塑料镀膜工艺技术是一种在塑料表面形成一层保护膜的工艺。

通过镀膜，可以提高塑料表面的耐磨性、抗化学腐蚀性和外观质量，延长其使用寿命。

以下是塑料镀膜工艺技术的简要介绍。

首先，塑料镀膜的前处理非常重要。

在进行镀膜之前，需要对塑料表面进行清洁、去污、除油等处理，以确保膜层与塑料表面的粘结力。

这可以通过物理或化学方法实现，如用溶剂擦拭或光束等。

其次，选择合适的镀膜材料。

常用的塑料镀膜材料包括金属、陶瓷和聚合物等。

选择合适的镀膜材料需要考虑到塑料表面的性质和应用环境等因素。

例如，如果需要提高塑料的导电性，可以选择金属镀膜材料。

然后，进行镀膜过程。

塑料镀膜的方法有很多种，例如真空蒸发镀膜、电镀、喷涂等。

选择合适的镀膜方法需要考虑到塑料材料的特性和要求。

例如，真空蒸发镀膜适用于高温塑料和对温度敏感的塑料；电镀适用于要求膜层均匀、厚度可控的塑料。

最后，进行后处理。

镀膜完成后，需要对塑料进行后处理以提高镀膜层的表面质量和性能。

常用的后处理方法包括烘干、热固化、抛光等。

这些后处理方法可以提高镀膜层与塑料表面的结合力和耐磨性。

总结起来，塑料镀膜工艺技术是一种重要的表面处理技术，可以提高塑料的表面性能和外观质量。

在实际应用中，我们需要
根据具体情况选择合适的镀膜材料和方法，并进行前处理和后处理以确保镀膜层的质量和效果。

随着科技的发展，塑料镀膜技术将不断进步和改进，为塑料制品的应用提供更多的可能性。

pecvd镀膜工艺膜层结构计算膜层结构计算在PECVD（等离子体增强化学气相沉积）镀膜工艺中扮演着重要的角色。

本文将介绍PECVD镀膜工艺以及如何计算膜层结构，为读者提供相关知识和技术指导。

一、PECVD镀膜工艺简介PECVD是一种常用的薄膜沉积技术，通过高频电离气体，使气相前体分子在电场的作用下激发、电离，并生成活性离子，最终在衬底表面沉积出所需的薄膜。

PECVD工艺具有高效、低温、均匀性好等优点，被广泛应用于光电子、半导体、光伏等领域。

二、膜层结构计算方法1. 原子自排列模拟原子自排列模拟是一种常见的计算膜层结构的方法。

该方法通过分子动力学仿真的方式，模拟原子在薄膜表面的排列方式。

基于材料的能量最小化原理，计算出最稳定的膜层结构。

2. 密度泛函理论密度泛函理论是一种计算材料性质的理论方法，广泛应用于薄膜结构计算中。

该方法基于电子密度的描述，通过求解Kohn-Sham方程，计算出电子的能量和波函数，从而得到膜层结构和相关性质。

3. 经验公式计算除了基于理论的方法，经验公式也常用于膜层结构计算。

根据经验数据和实验结果，建立数学模型，通过计算得到膜层的结构参数。

这种方法计算快速，适用于一些简单的膜层结构。

三、应用案例以PECVD镀膜工艺中的氮化硅（SiNx）膜层为例，介绍如何计算膜层结构。

1. 原子自排列模拟法采用分子动力学仿真软件，建立氮化硅膜层的模型，并设置初始参数和相互作用势函数。

通过设置温度、压力、数学计算模式等参数，进行模拟计算，得到膜层的原子排列方式。

2. 密度泛函理论利用密度泛函理论软件，设定氮化硅膜层的结构参数、晶格参数等。

通过计算得到氮化硅膜层的电子能带结构、密度分布等信息，进而确定膜层的结构特征。

3. 经验公式计算法根据已有的实验数据和经验公式，通过计算得到氮化硅膜层的结构参数。

例如，通过膜层厚度与沉积速率的关系，可以计算出膜层的厚度。

四、结论膜层结构计算是PECVD镀膜工艺中的重要环节，可通过原子自排列模拟、密度泛函理论和经验公式等方法来实现。

金属镀膜工艺金属镀膜工艺简介•金属镀膜工艺是将一层金属覆盖在另一种金属或非金属表面的一种加工方法。

•通过金属镀膜可以改善材料的外观、增加耐腐蚀性、提高导电性等特性。

常见的金属镀膜工艺1.电镀–电镀是利用电解的原理，在材料表面上析出金属层的工艺。

–可以使用金属离子在电解质溶液中通过外加电流沉积在工件表面。

–常见的电镀金属包括铬、镍、银等。

2.热镀–热镀是通过将金属材料加热到高温，使金属粒子在材料表面重新结晶形成金属层的工艺。

–热镀常用的金属包括锌、镍等。

3.静电喷涂–静电喷涂是利用静电原理，使金属粉末在电场作用下沉积在材料表面的工艺。

–静电喷涂常用的金属粉末有铝、铜等。

4.水镀–水镀是利用化学反应，在水溶液中析出金属层的工艺。

–水镀常用的金属包括银、金等。

金属镀膜的应用领域•电子行业：金属镀膜可以提高电路板的导电性能，增加耐腐蚀性，保护电子元件的稳定性。

•汽车行业：金属镀膜可以提高汽车零部件的耐腐蚀性能，延长使用寿命。

•建筑行业：金属镀膜可以改善建筑物外观，提高耐候性，增加防火性能。

•饰品行业：金属镀膜可以提升饰品的外观质感，增加其价值和吸引力。

金属镀膜工艺的发展趋势1.环保性–近年来，对于化学物质的使用越来越受到关注，未来的金属镀膜工艺将更加注重环保，在减少有害物质的使用上进行改进。

2.高性能–随着科技的不断发展，对于金属镀膜的要求也越来越高，未来的金属镀膜工艺将更加注重提高质量、耐用性和功能性。

3.创新技术–随着科技的进步，可能会出现新的金属镀膜工艺，如纳米镀膜技术、等离子体镀膜技术等，这些创新技术将为金属镀膜带来更多可能性。

总结•金属镀膜工艺是一种重要的加工方法，可以改善材料的性能和外观。

•不同的金属镀膜工艺有不同的应用领域和特点。

•未来的金属镀膜工艺将更加注重环保、高性能和创新技术的发展。

以上是关于金属镀膜工艺的相关文章，希望对您有所帮助！金属镀膜工艺的优势1.提高耐腐蚀性：金属镀膜能够在材料表面形成一层保护层，有效防止材料受到外界的腐蚀侵袭。

镀膜工艺技术说明
镀膜工艺技术是一种在各种材料表面上形成保护层或改变材料外观的技术。

镀膜工艺技术被广泛应用于各个行业，例如电子、汽车、航空航天等领域。

首先，镀膜工艺技术的前期准备工作非常重要。

在进行镀膜之前，需要对材料的表面进行处理，以确保膜层能够牢固地附着在材料表面上。

通常的处理方法有磨光、除污、除油等。

此外，还需要准备合适的镀液和镀膜设备。

接下来是镀膜工艺的具体操作步骤。

首先，将准备好的镀液倒入镀膜设备中。

然后，将材料放入设备中，并调整设备的操作参数，如温度、电流等。

接着，通电使镀膜设备工作，电流通过液体中的镀液引发化学反应，形成膜层。

此过程中，还可通过控制电流密度和时间来控制膜层的厚度和质量。

在具体的材料表面处理过程中，有多种镀膜工艺可供选择。

例如，电镀工艺适用于金属材料，使用电解液中的金属离子在材料表面上形成金属膜层；喷涂工艺适用于非金属材料，通过将喷雾液体喷射到材料表面上，形成薄膜。

最后，需要进行膜层的后续处理和检测。

一般来说，镀膜后的材料需要进行清洗和干燥处理，以提高膜层的质量。

此外，还需要对膜层进行检测，以确保其质量和性能是否符合要求。

常用的检测方法有厚度测量、硬度测试、耐腐蚀性检测等。

总的来说，镀膜工艺技术是一项复杂的工艺，需要精细的操作
和完善的设备。

它具有提高材料表面性能、保护材料表面以及改变外观的功能。

随着科学技术的不断进步，镀膜工艺技术也在不断创新和发展，为各行各业提供了更多的应用和可能性。

镀膜工艺方案背景介绍镀膜工艺是一种将金属材料或其他表面涂覆上薄膜的工艺。

镀膜工艺可以提高材料的表面硬度、耐腐蚀性、防磨损性、光学透过率等性能，从而改善材料的性能。

应用广泛，如在电子、航天、航空、医疗器械、机械制造等行业都有着非常广泛的应用。

镀膜工艺分类根据不同的镀膜材料和特点，可以将镀膜工艺大致分为以下几类：1.金属镀膜：包括镀铬、镀镍、镀金等常见的金属镀膜。

2.合金镀膜：包括合金化铬、合金化硝酸镍等。

3.陶瓷/氧化物涂层：包括氮化硅、碳化钨等。

4.光学镀膜：包括各种光学薄膜。

5.生物医用镀膜：如生物医用涂层。

主要工艺流程镀膜工艺的主要流程包括：基材表面处理、预处理、表面处理、镀膜、后处理等。

1.基材表面处理：对金属或其他材料进行清洗、去污、去油等处理，以保证表面无杂质，有利于后续工艺的进行。

2.预处理：对表面进行一些物理和化学处理，以提高表面的粗糙度。

3.表面处理：将表面经过活化处理，使其能够与膜材料结合到一起，实现膜材料的粘附。

4.镀膜：将膜材料通过各种方法，如物理气相沉积、化学气相沉积、电化学沉积等，沉积到基材上。

5.后处理：对镀膜进行检验、包装以及质量控制等相应的处理过程。

选择合适的镀膜工艺方案选用合适的镀膜工艺方案，不仅可以大幅提高材料的性能，还可以降低成本，提高生产效率，具有非常重要的意义。

在选择合适的镀膜工艺方案时，我们应该考虑以下几个因素：1.材料的特性：根据材料的特性，我们可以选择合适的镀膜材料以及合适的镀膜工艺。

2.镀膜各项性能的要求：比如硬度、耐腐蚀性、光学透过率等，我们要根据实际的要求进行对应的选择。

3.生产效率和成本控制：我们要平衡生产效率和成本控制，选择适合自己实际情况的工艺方案。

结论镀膜工艺方案是一个相对复杂的技术问题，在实际应用中需要根据实际情况做出合理的选择。

我们在进行镀膜工艺设计的时候，应该充分考虑到各种因素，以达到最佳的效果。

镀膜工艺一、溅射是指在气相中，工艺气体离子穿过等离子体通过轰击来刻蚀镀膜材料的技术；离子要产生足够快大的加速度，所以用到了强电场；两种主要的溅射技术：直流－溅射；射频－溅射。

二、自发放电：通过撞击这些粒子，带电粒子在这里连续不断地产生。

条件：要有足够高的电压加速这些带电粒子，来进一步的离子化。

为什么用异常辉光放电作为沉积区？１.电流与电势是线性关系；２.离子有足够高的能量从被轰击的表面释放电子和原子三、溅射系统原理：在沉积腔室里，阳极被安装在阴极辉光区内，阴极与阳极的距离只有几厘米而已。

四、反应溅射化合物（氧化物，氮化物）作为沉积材料，可能出现的问题：１.靶材化合物的分裂；２.膜的特性发生改变；３.靶材表面中毒根据以下规则出现工作点是必要的１.工艺开始时没有氧气；２.然后加入氧气并且慢慢加入氧气量直到达到工作点五、两极溅射与磁控溅射：特性：１.没有磁场影响电子路径；２.溅射率非常低；３.放电电压高（>500V）；４.基片温度长得非常快（>500℃），因为高能量的电子撞击基片。

应用：两极溅射可用在金属靶材，绝缘靶材（射频－两极）和磁性靶材（如NiCr）。

两者区别：１.靶材利用率不同；２.设计要求不一样；３.靶材使用限度不一样；４.放电电流和放电电压不一样；５.溅射率不一样靶材利用率：TU＝（新靶－旧靶）[kg]/新靶[kg]靶材寿命：（TLT）靶材可使用的时间长度，以KWh作单位两极，磁控（动态和静态）溅射的TU和TLT比较：靶材利用率的影响因素：１.磁场的强度，磁场强度越强TU越小；２.磁体的安装；３.磁场在靶材表面的强度，这个会影响整个靶材的溅射率六、平面靶材：靶材可以通过多种方式安装在阴极表面，重要的是它们之间的热和电接触良好。

安装方式：1.焊接2.夹具固定七、旋转靶材：旋转靶材是磁控的。

靶材是做成圆铜形的，里面装有静止不动的磁体，以慢速转动。

其优点就是利用率高（>70%），缺点就是造价高。