化学镍金制程分析
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化镍金生产流程及工艺简介目前PCB业界流行的表面处理制程有喷锡、抗氧化(OSP)、电镍金、化镍金、化银、化锡等几种。
化镍金(ENIG=electroless nickel and immersion gold)制程主要应用于笔记本电脑主板、各种电脑内存条、声卡、显卡、路由器、手机板、数码相机主板、各种存储块以及摄相机等高难度线路板的制造。
化镍金制程优点1、表面平坦;2、可焊接,可打线;3、可接触导通;4、可散热(高温不氧化);5、可耐多次回流焊。
几种PCB表面处理对比化镍金流程简介1、一般化镍金流程:水平前处理→上料→除油→水洗→水洗→微蚀→水洗→水洗→酸洗→纯水洗→纯水洗→预浸→活化→纯水洗→纯水洗→纯水洗→化学镍→纯水洗→纯水洗→化金→回收→纯水洗→纯水洗→下料→洗板→检板2、厚化金流程水平前处理→上料→除油→水洗→水洗→微蚀→水洗→水洗→酸洗→纯水洗→纯水洗→预浸→活化→纯水洗→纯水洗→纯水洗→化学镍→纯水洗→纯水洗→预浸金→厚化金→回收→纯水洗→纯水洗→下料→洗板→检板化镍金各工序原理及说明1、水平前处理通过水平前处理将铜面的过度氧化及污染,以机械法和化学法相结合的方法去除,协助清洁能力不太强的除油槽,使后续的沉镍金得以顺利进行。
常见的方法有微蚀+尼龙磨刷,微蚀+喷砂,纯微蚀水平前处理等等。
2、除油去除铜面轻微氧化及污染,降低槽液的表面张力,使药水在对象表面扩张,达到浸润的效果。
除油剂一般为有机酸型,容易滋生霉菌,保养时要注意槽壁的清洗。
由于含有界面活性剂,因此其后的第一道水洗不开打气或轻微开打气,槽液本身更无需空气搅拌,防止气泡过多不易清洗。
除油槽液要求充分的循环过滤,避免出现浑浊现象。
CuO +2 H+ →Cu2++ H2O3、微蚀去除铜面氧化,使铜表面微粗化,并化学镍层保持良好的结合力。
NaS2O8 + H2O → Na2SO4 + H2SO5H2SO5 + H2O → H2S O4 + H2O2H2O2 + Cu → CuO + H2OCuO + H2SO4 → CuSO4 + H2O为了保持比较稳定的微蚀速率,溶液中的铜离子一般要求控制在3-20g/l,因此在配新槽时需要保留1/5-1/3的母液,或添加适量的硫酸铜。
∙化学镍金工艺探讨∙化学镍金镀层集可焊接、可接触导通,可打线、可散热等功能于一身,是PCB板面单一处理却具有多用途的湿制程。
目前尚无其它的工艺可与之抗衡。
但该制程不好做已时日已久,问题常常出现且不易重工,问题的解决须从源头开始。
对此,本人将工作过程中遇到的品质问题同业界前辈探讨一下。
首先从化学镍金的反应机理入手。
一、化镍镍盐:以硫酸镍为主,也有氯化镍、乙酸镍还原剂:次磷酸二氢钠,NaH2PO2反应机理:说明:①次磷酸二氢钠的次磷酸根离子水解并氧化成磷酸根,同时放出两个活性氢原子吸附在铜底钯面上。
②镍离子在活化钯面上迅速还原镀出镍金属。
③小部分次磷酸根在催化氢的刺激下,产生磷原子并沉积在镍层中。
④部分次磷酸根在催化环境下,自己也会氧化并生成氢气从镍面上向外冒出。
∙二、化金当PCB板面镀好镍层放入金槽后,其镍面即受到槽液的攻击而溶出镍离子,所抛出的两个电子被金氰离子获得而在镍面上沉积出金层。
反应机理:Ni→Ni2+2eAu(CN)2-+e→Au+2CN-由此可知,一个镍原子溶解可获得两个金原子的沉积,又因金层上有许多疏瓦,故表面虽已盖满了金层,但仍可让疏孔的镍面溶解而继续镀出金层,只是速度越来越慢而已。
其次,化学镍金各流程的管控。
一、前处理。
1.刷磨:使用高目数的尼龙刷(1000-1200目)对板面进行轻刷(刷磨电流2.0±0.2A)除去访垢和氧化物.在刷磨后接板时必须戴干净的手套避免接触成型线内的待镀区,以免后续做板出来后板面上有花斑。
2.去脂:去徐油脂及有机物,只能采用非离子型遥介面活性剂,仅具润湿效果而已,不能用太强的板子型活性剂,以防止防焊漆表面或基材上带有静电而上镍或损伤水性碱液显影的防焊漆而溶出碳份污染槽液。
3.微蚀:通常只咬铜30-40µm即可,如果发现有星点露铜现名象,很可能为湿膜制程之显影不洁或显影后水洗不净造成。
此时可适当延长微蚀时间以便除之。
4.酸洗:去除微蚀生成的铜盐。
機密等級: 普日期: 2003/05/01化學鎳NPTH孔處理流程1.前言由於NPTH孔(定位孔/工具孔)經過化學銅後,孔內吸附了膠體鈀,在蝕銅後鈀仍殘留在孔內。
鈀爲化學鎳的啓始催化劑,從而使NPTH孔內上鎳金。
爲了杜絕此現象的發生,特建議如下解決方法:解決方法一: 鑽二次孔(二次孔不經PTH)。
解決方法二: 採用硫脲或其他廠商專用的鈀抑制劑(其也爲一種硫化物,可使孔內鈀生成PdS,PdS不溶于酸和水)來毒化NPTH孔內的殘留的膠體鈀。
2.流程負片流程: 化學銅(鈀)→一次銅→D/F→二次銅錫/鉛→蝕銅→鈀抑制劑→剝錫鉛→化學鎳金正片流程: 化學銅(鈀)→全板鍍厚銅→D/F→蝕銅→鈀抑制劑→剝D/F→化學鎳金3.說明方法一: 鑽二次孔成本較高,並且容易造成刮傷。
方法二: 鈀抑制劑使孔內鈀毒化,採用噴淋,連續生産成本低,同時可使線路邊上因殘留蝕銅柱角而産生的“滲鍍”得到改善。
4.建議廠商專密配方的鈀抑制劑比普通硫脲效果好,同時比二次鑽孔成本低,並可使滲鍍不易發生,不易造成刮傷,建議使用鈀抑制劑。
機密等級: 普日期: 2003/05/01 化學鎳金前處理﹑后處理流程一﹑前處理流程功能﹕經過前處理﹐使鍍銅表面保持清潔﹐去除銅面氧化以及殘膜等雜物﹐保持銅面平整以減少或避免化學鎳金后之不良板的產生。
流程﹕放板→噴淋酸性脫脂→高壓噴淋水洗→噴淋微蝕→高壓噴淋水洗→磨刷(上下各兩組)→高壓噴淋純水洗→超音波純水洗→吹干→烘干→空調冷卻→收板備注﹕1.磨輪﹕材質為硬尼龍前上下800-1000#后上下1000-1200#2.左右擺動頻率﹕ 120來回/min以上3.擺幅±0.5〞/來回二﹑后處理流程功能﹕防止化學鎳金后由于水洗不淨而導致金面氧化。
流程﹕放板→噴淋活化酸洗→高壓噴淋純水洗→噴淋抗氧化→噴淋高厭純水洗→超音波純水洗→吹干→烘干→空調冷卻→收板機密等級: 普日期: 2003/05/01 化學鎳/金 (Electroless Nickel & Immersion gold) 製程及控制要點一. 特色1. 在綠漆之後施行選擇性鍍鎳/金, 採掛籃式作業, 無須通電.2. 單一表面處理即可滿足多種組裝須求.集可焊接、可接觸導通、可打線、可散熱等功能於一身.3. 板面平整、SMD焊墊平坦, 適合於密距窄墊的鍚膏熔焊.二.作用及反應式1. 酸性清潔劑 AC-10主成份 (1) 硫酸(2) 潤溼劑(非離子界面活性劑)作用 (1) 去除銅面輕微氧化物及污物.(2) 降低液體表面張力,將吸附於銅面之空氣排開,使藥液在其表面擴張, 達潤溼效果.反應式CuO + 2 H+→ Cu2+ + H2O2Cu + 4H+ + O2→ 2Cu2+ + 2H2O2. 微蝕主成份 (1) 過硫酸鈉(2) 硫酸作用 (1) 去除銅面氧化物.(2) 銅面微粗化,使與化學鎳鍍層有良好的密著性.機密等級: 普日期: 2003/05/01 反應式Na2S2O8+ H2O → Na2SO4+ H2SO5H2SO5+ H2O → H2SO4+ H2O2H2O2+ Cu → CuO + H2OCuO + H2SO4→ CuSO4+ H2O3. 酸洗主成份 (1) 硫酸作用 (1) 去除微蝕後的銅面氧化物.反應式CuO + H2SO4→ CuSO4+ H2O4. 預浸(CP-41P)主成份 (1) 氯化氨作用 (1) 維持活化槽中的酸度.(2) 使銅面在新鮮狀態(無氧化物)下,進入活化槽.反應式CuO + H2SO4→ CuSO4+ H2O5. 活化(CA-41)主成份 (1) 氯化鈀(2) 氯化氨作用 (1) 在銅面置換上一層鈀,以作為化學鎳反應之觸媒.反應式Cu → Cu2+ + 2 e-Pd2+ + 2 e- → Pd機密等級: 普日 期: 2003/05/01Cu + Pd 2+ + 2NH 4Cl → Cu(NH 3)2Cl 2 + Pd + 2H + 6. 化學鎳(EN-51) 主成份 (1) 硫酸鎳 (2) 次磷酸二氫鈉 (3) 錯合劑(4) pH 調整劑(氫氧化鈉) (5) 安定劑 作用 (1) 提供鎳離子.(2) 使鎳離子還原為金屬鎳.(3) 與鎳形成錯離子,防止氫氧化鎳及亞磷酸鎳沉澱,增加浴安定性,pH 緩衝. (4) 維持適當pH.(5) 防止鎳在膠體粒子或其他微粒子上還原. 反應式3NaH 2PO 2+3H 2O +3NiSO 4熱觸媒→3Na 2HPO 3+3H 2SO 4+2H 2+3Ni ° 2H 2PO 2-+Ni +++2H 2O →2HPO 32-+H 2↑+2H ++Ni ° Ni +++H 2PO 2-+H 2O →Ni °+HPO 32-+3H +H 2PO 2-+H 2O 熱觸媒→ H ++HPO 32-+2H adsNi +++2H ads -→Ni °+2H + 2H ads -→H 2↑H 2PO 2-+H 2O 熱觸媒→2H 2PO 3-+H 2↑H 2PO 2-+H ads -→H 2O +OH - +P3 H 2PO 2-熱觸媒→H 2PO 32-+H 2O +2OH -+2PH 2PO 2-ads +OH -ads -→H 2PO 3-ads +H ads +e 或 H 2PO 2- +H 2O ads -→H 2PO 3-ads +H ++e H ++e ⇔H H +H ⇔H 2↑Ni ++H 2O ⇔NiOH +ads +H +機密等級: 普日期: 2003/05/01 NiOH+ads+2e→Ni°+ OH-H2PO2-ads+e→P+2OH-H2PO2-ads+2H+e-→P+2H2O7. 浸鍍金主成份 (1) 檸檬酸(2) 金氰化鉀作用 (1) 防止鎳面鈍化(保持在可溶解狀態)以沉積出金層.反應式Ni →Ni2+ + 2 e-Au(CN)2- + e- → Au + 2 CN-Ni + Au(CN)2-→ Ni2+ + Au + 2 CN-三. 製程控制要點:1.剝Sn/Pb線路上Sn/Pb須完全剝離.2.綠漆(1)選擇耐化性良好的綠漆.(2)印綠漆前銅面適當的粗化及避免氧化.(3)適當的厚度,稍強的曝光能量及降低顯像後的側蝕.(4)顯像後充分的水洗,避免任何顯像液在銅面殘留.(5)使用較低的硬化溫度.3.刷磨或Pumice處理使用 #1000 刷輪輕刷,注意刷幅及水壓, 避免銅粉在板面殘留.4.掛架PVC樹脂或TEFLON 包覆,破損時須重新包覆.機密等級: 普日期: 2003/05/01 定時將掛架上沉積的鎳金層剝離.5.微蝕咬銅 20 – 40 μ”即可,避免過度咬蝕.6.水洗各槽水洗時間要短, 進水量要大.7.預浸及活化使用過瀘循環,加熱區避免局部過熱.防止微蝕液帶入及化鎳藥液滴入.8.化學鎳槽體須用硝酸鈍化,防析出整流器控制電壓 0.9V.防止活化液帶入.防析出棒不可與槽體接觸.防止局部過熱,加藥區須有充足的攪拌.5μm濾心連續過濾,循環量 3 – 6 cycle/hr.9.置換金如有需要可定時用活性碳濾心去除綠漆溶出物防止 Cu 污染.回收槽須定時更新10.線外水洗及烘乾水質要好,確實烘乾,待板子冷卻後才可疊板.避免與噴錫板共用水洗/烘乾機.11.包裝包裝前須防止放置於濕氣或酸氣環境.使用真空或氮氣充填包裝,內置乾燥劑.機密等級: 普日期: 2003/05/01化學鎳槽硝槽及鈍化程序一﹑將化學鎳藥液完全排出.二﹑加入50%(w/w)以上的硝酸﹐並啟動pump循環1小時後﹐靜置5小時以上。
莆田市佳宜电子文件编号JY-WI-016作业指导书版本 2.0标题: 化学镍金操作指引页码1/11一、目的:标准操作,维护品质.二、适用范围:适用于生产各种需要沉镍金的产品三、设备、工具及物料化学镍金线、清洗机、铁氟龙线.珠粒、周转盆、水盆、产品、化学镍金系列药水、手指套四、作业环境:温度:室温。
地面要求:无积水、无杂物空气要求:空气流通良好,无刺激性气味五、职责:工程部负责标准制作,生产部负责按标准要求操作,品管部负责监控。
六、内容6.1.工艺流程刷板→检查→预备工作→穿板→酸洗→双水洗→微蚀→双水洗→预浸→活化→双水洗→后浸→水洗→化镍→双水洗→化金→金回收→水洗→热水洗→卸板→放入水盆→烘干检查→生产完后关机6.2 刷板:刷轮 800#,1000#,每天进展刷幅测试,刷幅要求 0.8-1.2CM.6.3检查:全检铜刷板,板面无压坑,皱折,胶点,油污,手指印的合格,否则为不合格。
合格板才能进入沉金,不合格退回上工序或处理成为合格板。
6.4预备工作:1、设备点检〔具体见点检表〕2、更换每个药水缸后的第一道水洗,并将水加满3、补加各药缸液位,翻开加热器及过滤泵,通知化验室对药水进展分析且准时补加4、检查各药缸温度是否在工艺范围内.6.5穿板:穿板时必需将手指全部戴上手指套,穿板张数一挂不超过20PNL,且必需用珠粒隔开6.6检查:检查是否穿好。
制定日期核准日期6.7酸洗:除去板面氧化。
A.工艺参数操作条件范围推举值硫酸4-6%5%温度28-32℃30℃时间1-3min 2min分析频率 1 次/2 天B.配制 150 升槽液的程序:①开缸体积150L 开缸浓度:硫酸5%。
②清洗干净缸体,缸体内不能有任何灰尘杂物。
③向槽里参加 1/2 缸体的去离子水。
④参加 7.5L 硫酸。
⑤用去离子水补充到操作体积并开启过滤泵混匀。
⑥加热至要求值,分析补加。
C.酸洗缸保养:①每生产100±10m2补加一次,每次补加 0.5L 硫酸。
一、工艺简介沉金工艺之目的的是在印制线路表面上沉积颜色稳定,光亮度好,镀层平整,可焊性良好的镍金镀层。
基本可分为四个阶段:前处理(除油,微蚀,活化、后浸),沉镍,沉金,后处理(废金水洗,DI水洗,烘干)。
二、前处理沉金前处理一般有以下几个步骤:除油(30%AD-482),微蚀(60g/InaPS,2%H2SO4),活化(10%Act-354-2),后浸(1%H2S04)。
以除去铜面氧化物,并在铜面沉钯,以作沉镍活化中心。
其中某个环节处理不好,将会影响随后的沉镍和沉金,并导致批量性的报废。
生产过程中,各种药水必须定期分析和补加,控制在要求范围内。
较重要的比如:微蚀速率应控制在“25U—40U”,活化药水铜含量大于800PPM时必须开新缸,药水缸的清洁保养对联PCB的品质影响也较大,除油缸,微蚀缸,后浸缸应每周换缸,各水洗缸也应每周清洗。
三、沉镍沉镍药水的主要成分为Ni2+(5.1-5.8g/1)和还原剂次磷酸钠(25-30g/1)以及稳定剂,由于化学镍对药水成分范围要求比较严格,在生产过程中必须每班分析化验两次,并依生产板的裸铜面积或经验补加Ni2还原剂,补加料时,应遵循少量,分散多次补料的原则,以防止局部镀液反应剧烈,导致镀液加速老化,PH值,镀液温度对镍厚影响比较大,镍药水温度抄袭控制在85℃-90℃。
PH在5.3-5.7,镍缸不生产时,应将镍缸温度降低至70℃左右,以减缓镀液老化,化学镍镀液对杂质比较敏感,很多化学成分对化学镍有害,可分为以下几类:抑制剂:包括Pb.Sn..Hg.Ti.Bi(低熔点的重金属),有机杂质包括S2,硝酸及阴离子润湿剂。
所有这些物质都会降低活性,导致化学镀速度降低并漏镀,严惩时,会导致化学镀镍工艺完全停止。
有机杂质:包括:除以上所提到的有机的稳定剂以外,还有塑料剂以及来自于设备和焊锡的杂质。
尽管可通过连续镀清除一部分杂质,但不能完全清除。
不稳定剂:包括Pd和少量的铜,这两种成分造在化学镍不稳定,使镀层粗糙,而且过多地镀在槽壁及加热器上。
化学镍金制程分析
Electroless Nickle / Immersion Gold Process
酸性清洁 CLEN
目的:去除铜箔表面的轻
微氧化物以及轻微的油
微
蚀
目的:使铜面产生一个良
好的粗糙面,促进铜面与
预
浸
目的:作为下一站钯活化
的预处理,保护活化槽不
活 化
目的:可以使裸露的铜表
面置换上一层钯金属,作
需有循环过滤装置(循环量6~8turn over ),加热
需有循环过滤装置(循环量6~8turn over ),加热
需有循环过滤装置(循环
化学反应式: Pd 2+
+CU Pd+CU
2+
化学镀镍
目的:为裸铜面提供一层要求厚度的镍层。
防止铜离化学浸金
目的:在镍层上镀上一定要求厚度的金层,保护镍层化学镍槽:不锈钢304或316;PP 需有循环
(过滤)装置(循主反应:
Ni 2+
+2H 2PO 2-
+2H 2O=Ni+2HPO 3
2-+4H +
+H 2
副反应: 4H PO -=2HPO
2-
+2P+2H O+H
需要有循环装置,加热装置(石英或铁弗龙)
主要反应:
2Au(CN)2-+Ni=2Au+Ni 2++4C N -
■原理:
■化学镀镍/金可焊性控制
1金层厚度对可焊性和腐蚀的影响
在化学镀镍/金上,不管是施行锡膏熔焊或随后的波峰焊,由于金层很薄,在高温接触的一瞬间,金迅速与锡形成“界面合金共化物”(如A uSn、Au Sn2 、Au Sn 3等)而熔入锡中。
故所形成的焊点,实际上是着落在镍表面上,并形成良好的Ni-Sn合金共化物Ni3Sn4,而表现固着强度。
换言之,焊接是发生在镍面上,金层只是为了保护镍面,防止其钝化(氧化)。
因此,若金层太厚,会使进入焊锡的金量增多,一旦超过3%,焊点将变脆性反而降低其粘接强度。
据资料报导,当浸镀金层厚度达0.1μm时,没有或很少有选择性腐蚀;金层厚度达0.2μm时,镍层发生腐蚀;当金层厚度超过0.3μm时,镍层里发生强烈的不可控制的腐蚀。
2镍层中磷含量的影响
化学镀镍层的品质决定于磷含量的大小。
磷含量较高时,可焊性好,同时其抗蚀性也好,一般可控制在7~9%。
当镍面镀金后,因Ni-Au层Au层薄、疏松、孔隙多,在潮湿的空气中,N i为负极,A u为正极,由于电子迁移产生化学电池式腐蚀,又称焦凡尼式腐蚀,造成镍面氧化生锈。
严重时,还会在第二次波峰焊之后发生潜伏在内的黑色镍锈,导致可焊性劣化与焊点强度不足。
原因是Au面上的助焊剂或酸类物质通过孔隙渗入镍层。
如果此时镍层中磷含量适当(最佳7%),情况会改善。
3镍槽液老化的影响
镍槽反应副产物磷酸钠(根)造成槽液“老化”,污染溶液。
镍层中磷含量也随之升高。
老化的槽液中,阻焊膜渗出的有机物量增高,沉积速度减慢,镀层可焊性变坏。
这就需要更换槽液,一般在金属追加量达4~5MT O时,应更换。
4 PH值的影响
过高的P H,使镀层中磷含量下降,镀层抗蚀性不良,焊接性变坏。
对于安美特公司之Aurot ech (酸性)镀镍/金体系,一般要求PH不超过 5.3,必要时可通过稀硫酸降低PH。
5稳定剂的影响
稳定剂可阻止在阻焊Cu焊垫之间的基材上析出镍。
但必须注意,太多时不但减低镍的沉积速度,还会危害到镍面的可焊性。
6不适当加工工艺的影响
为了减少N i/Au所受污染,烘烤型字符印刷应安排在Ni/Au工艺之前。
光固型字符油墨不宜稀释,并且也应安排
在Ni/Au工艺之前进行。
做好Ni/A u之后,不宜返工,也不宜进行任何酸洗,因为这些做法都会使镍层埋伏下氧化的危险,危及可焊性和焊点强度。
7两次焊接的影响
对低档卡板只做一次焊接,一般不会有问题。
但如笔记型电脑的主板、手机或P C等高档板,一般需两次焊接。
第一次焊接后,助焊剂残余会浸蚀镍层。
第二次焊接的高温会促使氧化甚至变黑,其固有强度变坏,无法通过振动试验。
遇到这种情况,只能从槽液管理上入手进行改进,使镀镍层具有更好的抗蚀性能。
6 化学镀镍/金与其它表面镍金工艺
化学镀镍/金除了通常所指之化学镀薄金外,应打金线等需求,又派生出化学厚金工艺;出于耐磨导电等性能要求,也派生出化学镀镍金后的电镀厚金工艺;针对H DI板B GA位拉力要求,也派生出选择性沉金工艺。
■化学厚金工艺
1)工艺流程
除油®水洗®微蚀®水洗®预浸®活化®水洗®沉镍®水洗®化学薄金®回收®水洗®化学厚金®回收®水洗®干板
2)化学厚金之特点
化学厚金是指在还原条件下,金离子被还原为金单质(还原剂同化学镀薄金),均匀沉积在化学薄金上面,在自催化作用下,达到所需要的厚度。
一般情况下,印制板化学厚金的金厚控制在20μi n左右。
某些情况下,也有超过30μi n金厚的。
3)工艺控制
化学厚金最重要的是成本问题,所以,反应速度的控制尤为重要。
络合剂、还原剂、稳定剂以及温度,是影响反应速度的重要因素。
■沉金金手指电镀工艺
1)工艺流程
阻焊膜®沉镍金®干板®包胶纸®电镀金®去胶纸
其中,电镀金为如下工艺流程:
酸洗®水洗®刷磨®水洗®活化®水洗®镀金®回收®水洗®干板
2)沉金金手指电镀的特点
沉金金手指这种类型的板,在制作过程中,先将整板的露铜部分,包括金手指部分进行化学镀镍金。
然后,单独将金手指按客户要求之厚度进行电镀金。
这种工艺流程简单,性能可靠,既能满足客户元件粘贴要求,又能满足插接性能。
3)工艺控制
包蓝胶纸时,一定要防止药水渗漏,避免金药水污染。
此外,电镀厚金前,一定要将被镀表面磨刷干净,否则会引起分层。
刷磨时,不可吝啬沉金层的浪费,刷磨效果越好,电镀金层的结合力越牢固。
■选择性沉金工艺
1)工艺流程
阻焊膜®干菲林®曝光®显影®干板®沉镍金®褪菲林®干板®有机保焊涂敷
2)选择性沉金的特点
选择性沉金既具有元件粘贴平整的特点,又具有良好的装配焊接性能。
同时,针对H D I板B G A位等小型P a d位采用有机保焊涂覆(如C u106),避免因Pad位太小而造成镍金拉力不足的缺点。
而且,选择性沉金的成本低于整板沉金,是一种很有发展潜力的工艺。
3)工艺控制
干菲林是专用于沉镍金的类型,它不但应具有耐高温药液能力,且须具备良好的掩孔能力。
由于沉镍金疏孔的局限性,其表面对微蚀药水非常敏感,极易造成镍层腐蚀。
所以,在有机保焊涂覆制程中,微蚀率应在保证铜面清洁的前提下,控制的越低越好。
能够采用贴红胶纸的制板,最好能象喷锡板那样,贴红胶纸加以保护。