XPS峰拟合软件+ORIGIN完美拟合能谱数据方法

实验条件：样品用VG Scientific ESCALab220i-XL型光电子能谱仪分析。

激发源为Al KαX射线，功率约300 W。

分析时的基础真空为3×10-9 mbar。

电子结合能用污染碳的C1s峰（284.8 eV）校正。

X-ray photoelectron spectroscopy data were obtained with an ESCALab220i-XL electron spectrometer from VG Scientific using 300W AlKα radiat ion. The base pressure was about 3×10-9 mbar. The binding energies were referenced to the C1s line at 284.8 eV from adventitious carbon.处理软件：Avantage 4.15XPS数据考盘后的处理数据步骤Origin作图：1.open Excel文件，可以看到多组数据和谱图，一个sheet 对应一张谱图及相应的数据（两列）。

2.将某一元素的两列数据直接拷贝到Origin中即可作出谱图。

（注意：X轴为结合能值，Y轴为每秒计数）3. 如果某种元素有两种以上化学态，需要进行分峰处理时，按“XPS Peak 分峰步骤”进行。

XPS Peak分峰步骤1．将所拷贝数据转换成所需格式：把所需拟合元素的数据引入Origin后，将column A和C中的值复制到一空的记事本文档中（即成两列的格式，左边为结合能，右边为峰强），并存盘。

如要对数据进行去脉冲处理或截取其中一部分数据，需在Origin中做好处理。

2．打开XPS Peak，引入数据：点Data----Import(ASCII)，引入所存数据，则出现相应的XPS谱图。

3．选择本底：点Background，在所出现的小框中的High BE和Low BE下方将出现本底的起始和终点位置（因软件问题，此位置最好不改，否则无法再回到Origin），本底将连接这两点，Type可据实际情况选择。

Xps分峰拟合操作Xps数据avantage软件分峰拟合操作1.打开软件，选择⽬标⽂件，打开2.选中C 1s图谱，点击放⼤。

3.点击，弹出窗⼝4.选择Shirley，变为下图。

5.选取图谱中主峰两侧较为平滑的区域，分别将横坐标输⼊Start（⼤）和End（⼩），并可通过上下箭头进⾏微调。

确定合理后，点击Add，主峰下⽅会出现如图绿线。

⼯具栏下⽅会出现C1s相关信息表格，Peak BE即为C1s峰值。

与标准峰值284.8eV⽐较即可得出所得实验谱的偏差，本例为+3.2eV。

6.选择⽬标实验谱本例中为Mn2p，放⼤。

点击，弹出窗⼝，会观察到实验谱横坐标减⼩相应值，点击Close。

即完成能量校正。

8.点击，类似C1s校正，选择主峰对Mn2p3/2加峰9.选择Peak Fit，点击，弹出窗⼝，选择Add Fitted Peak，如图，并排三个书写框，PeakCentre即为某元素某化学态对应峰值，⾸先输⼊，FWHM Start其次输⼊，⼤⼩为峰值+0.5，FWHM End最后输⼊，为峰值-0.5，⽆误后点击Add Peak完成加峰。

10.对各状态对应峰值依次添加，加完之后，点击OK，如图。

11.对上图图谱下拉，对信息表格进⾏编辑。

删除主峰（本例为Mn2p）对应信息，点击左侧任意字母后，右键，取消Show Constraints对勾。

将Name改为易识别以区分的名字，然后将FWHM fit para全部改为1.25，并全选，点右键，锁定。

并将Peak BE也全部锁定。

峰，并将图谱中对应谱线下拉⾄底部。

13.根据操作者对样品的理解，先向上拖动主要状态对应谱线，最后拖动最少量状态对应谱线。

直⾄实验谱与拟合谱最⼤程度重合。

14.点击，再依次点击accep→tOK。

点击peaks，信息表中即出现各状态含量信息。

将C1s和Mn2p最后⼀栏取消勾选。

则倒数第⼆栏即为各状态的百分含量。

15.点击file→save as即可保存⼯程⽂件。

XPS 原始数据处理（含分峰拟合）1. XPS 高分辨谱可以拿到什么数据?般而言，大家在做高分辨谱的时候，是期望看到表面某些元素的电子结构信息,判断该元素的化学态以及所处的化学环境等等，进而说明样品的表面结构或其变化。

故此，XPS 的高分辨一定是有针对性的，所要测的元素也是大家很明了的。

在上一期我们说过，对于绝缘体或者半导体而言，具有荷电效应，因此除了大家 想要测的元素之外，一般测试的时候还需要测一个 C 的高分辨谱，用于荷电校正。

国内像XPS 这样的大型仪器一般都有专人进行测试，因此我们所得到的原始数据 般为xls 文件。

下图所示为PbQ 的XPS 原始数据，除了 Pb 0之外，还有C 的高 分辨谱以及各元素的半定量分析结果。

2. 荷电校正如何进行校正呢？上一期分享中我们已经说过，荷电校正一般将外来污染碳（284.8eV ）作为基准。

具体如何操作呢? 1）.计算荷电校正值。

45 67AxisEnergyEleaents-2016S C:\traLning\l iufu\ltLsc\E3peri*cnt\KonQ 650Um\Polnt <005\01s Scan. ¥GD131415 Einding Energy (£) 16 17 13药27J8293031毎一页代叢無一种元索的高分耕谱” peak table 给出的是半定量蜻果数扌亳•表*Counts / s545,oe55483. 7544.9855736.日 544. SE 55247.2 544,78 54363. 6 544,68 54709. 8 544, 58 55383.2 吕g 46 5431&. 3544, 38 54745.6 544.2054309. S 544.1855118.1 544. OB54741.7 543, 58544&3. 8 543. 88 53956.6 543. 7853763.4 543. ABj5R丘4曲7拿到XPS 高分辨谱，第步是要进行荷电校正，得到准确的结合能数据。

XPS峰拟合步骤及规则1.原始数据的处理:Ａ，与C1s比较标准化数据:将excel表格中的C1s数据的最高点对应的结合能与标准C1s结合能（一般为284.6）比较，算差值+（-）α；将需拟合元素（如Ir）的结合能-（+）α，得标准化数据。

注：若得到的C1s不平滑，先怀疑是否测试过程出现问题。

若无测试问题，数据可信，将C1s进行拟合得到一个最高点（可用XPSPEAK, origin等）。

拟合元素结合能-（+）α最好拷贝到另个excel中处理，得标准化数据。

Ｂ，转化成TXT:将标准化数据拷贝到TXT文本中（两列就足够了）2.下载安装XPS拟合处理软件.hk/%7Esurface/XPSPEAK/3.数据输入:运行XPSPEAK41，点data>Import(ASCII)>*.txt (转换好的标准化数据)，得谱线。

4.背景扣除:点Background，调high 和low BE的值，一般用Shirley背景扣除。

注：基线不能高于需拟合的曲线。

5.加峰:A,查需拟合元素标准结合能值/xps/；Search Menu＞Retrieve Data for a Selected Element＞Binding Energy ＞元素；查需拟合元素分裂能Doublet Separation ＞元素；B,加峰选Add Peak，选合适的Peak Type(如s,p,d,f),Position处选希望的峰位（参考所查标准结合能值），需固定时点fix前的小方框，否则所有Fix选项都不要选。

各项中的constaints可用来固定此峰与另一峰的关系，如Ir4f中同一价态的Ir4f7/2和Ir4f5/2的峰位间距可固定为2.98eV，峰面积比可固定为4:3等。

点击Optimise Peak对峰进行优化,最后点击Accept完成对该峰的设置。

点Delete Peak可去掉此峰。

再选择Add Peak可以增加新的峰，如此重复。

材料Ｘ射线光电子能谱数据处理及分峰的分析实例例：将剂量为1 107ions/cm2，能量为45KeV的碳离子注入单晶硅中，然后在1100C 退火2h进行热处理。

对单晶硅试样进行XPS测试，试对其中的C1s高分辨扫瞄谱进行解析，以确定各种可能存在的官能团。

分析过程：1、在Origin中处理数据图1将实验数据用记事本打开，其中C1s表示的是C1s电子，299.4885表示起始结合能，-0.2500表示结合能递减步长，81表示数据个数。

从15842开始表示是光电子强度。

从15842以下数据选中Copy到Excel软件B列中，为光电子强度数据列。

同时将299.4885Copy到Excel软件A列中，并按照步长及个数生成结合能数据，见图2图2将生成的数据导入Origin软件中，见图3。

图3此时以结合能作为横坐标，光电子强度作为纵坐标，绘出C1s谱图，检查谱图是否有尖峰，如果有，那是脉冲，应把它们去掉，方法为点Origin 软件中的Data-Move Data Points，然后按键盘上的↓或↑箭头去除脉冲。

本例中的实验数据没有脉冲，无需进行此项工作。

将column A和B中的值复制到一空的记事本文档中（即成两列的格式，左边为结合能，右边为峰强），并存盘，见图4。

图42、打开XPS Peak，引入数据：点Data----Import (ASCII)，引入所存数据，则出现相应的XPS谱图，见图5、图6。

3、选择本底：点Background，因软件问题， High BE和Low BE的位置最好不改，否则无法再回到Origin，此时本底将连接这两点，Type可据实际情况选择，一般选择Shirley 类型，见图7。

图74、加峰：点Add peak，出现小框，在Peak Type处选择s、p、d、f等峰类型（一般选s），在Position处选择希望的峰位，需固定时则点fix前小方框，同法还可选半峰宽（FWHM）、峰面积等。

Origin9.0中全峰拟合过程教程（以Li3N|含有LiOH杂相|样品衍射图谱为例）：1.将XRD数据导入Origin 9.0中（此过程很简单，不再赘述），并画出其衍射图谱。

结果如下2.选择Analysis→Peaks and Baseline→Peak Analyzer→Open Dialog…打开峰分析导航器。

3.打开Peak Analyzer之后，在下方目标选择中选择Fit Peaks(Pro)，然后选择Next。

4.在基线模式中选择User Defined5.在基线锚点中将Window Size的值设置成5-15之间的数值，Threshold的值设置默认不变。

Number ofPoints to Find的值设置为15-20之间，最后点击Find。

一般来讲，Window Size的值控制的是局部平均法的步长（每次求平均所取的点数），可以目测基线的起伏程度，起伏越大，该值应越小，起伏越小，该值应越大。

总体来说，取10-20之间即可。

Threshold是控制基线的起伏阈值。

该值越大，基线锚点起伏越严重，该值越小，基线锚点的起伏程度越小，一般默认的0.05即可。

Number of Points to Find是锚点数，10°-80°的范围内，一般15-20点即可，平均起来也就是4-6°一个锚点。

自动查找的锚点不宜过多，因为无论你如何控制这些参数，最终还是需要手动去修改添加锚点。

6.在Enable Auto Find的方框中把勾去掉，然后下方的Add（添加）Modify/Del （修改/删除）Clear All（清除所有点）三个按钮即可释放。

7.选择origin中的放大按钮，将基线放大来观察。

基线放大不宜过大，应该使得锚点大小相对于噪声信号来说很小，同时能明显得目测出基线位置为宜。

放大按钮和缩小按钮是独立的，当不进行锚点修改的时候，可以对图像进行基线区域放大缩小或者局部放大缩小，这对于局部基线的锚点微调十分有利。

Origin软件分析XPS数据
纵坐标：Intensity(cps)
横坐标：bindingenergy（eV）
除了氢氦元素，其他的元素都可以进行分析；先进行宽扫，确定样品有何种元素，再对该元素进行窄扫。

该元素的不同键接方式都对应不同的峰，所以对元素窄扫的峰要进行分峰（分峰之前要进行调整基线）。

如何分峰，不同的键接方式会对应不同的结合能。

第一步：先把元素的窄扫峰用origin画出来；
纵坐标：Intensity(cps)
横坐标：bindingenergy（eV）
第二步：调整基线；
选择CeateBaseline-----next------next-----add/modify添加（双击）或去除（delete）基点，保证基线水平-----Finish
最小化图，会出现调整基线后的坐标。

插入一列，
单机右键选择setcolumnvalues输入col（b）-col（d）：即开始纵坐标减去调整基线后的纵坐标。

再用横坐标与刚开始得到的纵坐标作图------调整基线后的XPS窄扫图。

第三步：对峰求积分面积；
选择integratepeaks-----next-------狂点------完成
即area为峰的面积。

第四步：分峰较难（有专门的分峰软件，origin也能分峰）
第五步：求组分元素比：
元素比等于：窄扫峰面积/XPS灵敏度因子（每一个元素的灵敏度因子不一致）
西北工业大学的XPS 设备选择的是铝板（AlKα）。

PeakFit 简明教程1、双击Pekfit软件图标，出现图1，点击continue将会出现图2。

图1图22、由图2可以看出PeakFit 菜单栏及工具栏图3图3从左到右数第八个为Xi和Xf的横坐标范围选择，即你所要选择拟合数据；第十三个为添加基线；第十四个为拟合界面。

3、点击File →Import导入数据如图4和图5，选中所要拟合数据图6点击打开，将出现图7。

点击OK，将会出现图8。

图4图5图6 图7图84、添加基线点击Peakfit 菜单栏与工具栏中的（前面有提到），将会出现图9，点击绿色对勾将会出现图10。

图9图105、选取要拟合谱峰的X轴区间点击Peakfit 菜单栏与工具栏中的，将会出现图11；输入适当的Xi 和Xf 值，点击Apply New将出现图12，合适后点击OK，将出现图13。

注意如果所选择的不合适重复以上步骤，直到要拟合的谱峰两边均留出一定的水平距离，并让谱峰尽量居中。

图11图12图136、XPS数据拟合点击Peakfit菜单栏与工具栏中的，将会出现图14，图中左侧面板各参数可以参照图14的设定；删掉多余的拟合谱峰：例如，图14中的谱峰我们可以拟合成三个峰，要删除其他峰可以通过双击多余峰顶的小方格，注意要对准否则会加峰；另一种删除多余峰方法单击如图14红框所圈出的蓝峰，鼠标右键蓝色峰将出现图15对话框，点击倒数第2 个按钮删掉蓝色峰；还可以或者点击图14左侧黄色灯泡自动减少谱峰数目。

删好后将出现图16。

点击图16 左侧面板最后一排工具栏的第1 个按钮，将会出现图17中的对话框，点击Addl Adjust 应用拟合。

重复此步骤，直到如图18中的Iteration 不变为止（一般为7），拟合度r2达到0.99左右。

注意：点击图16左侧面板最后一排工具栏的第2 个按钮同样可以进行拟合；这种拟合可以直观的看到谱峰图形的拟合过程，但与上述步骤中的拟合相比速度较慢。

这两种拟合的最后结果完全一致。

XPSPeak软件拟合数据的简单步骤XPS Peak软件拟合数据的简单步骤XPS Peak软件拟合数据的简单步骤:1. Excel中的数据转换成TXT格式从Excel中的数据只选择要进行拟合的数据点，copy至txt文本中，即ABC三列数据(其中B列为空的,只包含两列数据)2.XPS Peak41中导入数据打开xps peak 41分峰软件,在XPS Peak Fit窗口中,从Data菜单中选择Import (ASCII),即可将转换好的txt文本导入,出现谱线3.扣背底在打开的Region 1窗口中，点击Backgrond，选择Boundary 的默认值，即不改变High BE 和Low BE的位置，Type一般选择Shirley类型扣背底，不过有时也选择Liner类型扣除背景。

4.加峰选择Add Peak，选择合适的Peak Type(如s,p,d,f),在Position处选择希望的峰位，需固定时点fix前的小方框,同时还可选半峰宽（FWHM）、峰面积等。

各项中的constaints可用来固定此峰与另一峰的关系。

如W4f中同一价态的W4f7/2和W4f5/2的峰位间距可固定为2.15eV，峰面积比可固定为4:3等，对于% Lorentzian-Gaussian选项中的fix先去掉对勾，点击Accept 完成对该峰的设置。

点Delete Peak可去掉此峰。

再选择Add Peak可以增加新的峰，如此重复。

注意：% Lorentzian-Gaussian值最后固定为20%左右。

加峰界面举例：对峰的限制constraints，峰1的峰位=峰0峰位+1.55.拟合选好所需拟合峰的个数及大致参数后，点XPS Peak Processing 中的Optimise All进行拟合，观察拟合后总峰与原始峰的重合情况，如不好，可多次点Optimise All合适图谱6.参数查看拟合完成后，分别点XPS Peak Processing窗口总的Region Peaks下方的0、1、2等，可查看每个峰的参数，此时XPS峰中变红的曲线为被选中的峰。

材料Ｘ射线光电子能谱数据处理及分峰的分析实例例：将剂量为1 107ions/cm2，能量为45KeV的碳离子注入单晶硅中，然后在1100C 退火2h进行热处理。

对单晶硅试样进行XPS测试，试对其中的C1s高分辨扫瞄谱进行解析，以确定各种可能存在的官能团。

分析过程：1、在Origin中处理数据图1将实验数据用记事本打开，其中C1s 表示的是C1s电子，299.4885表示起始结合能，-0.2500表示结合能递减步长，81表示数据个数。

从15842开始表示是光电子强度。

从15842以下数据选中Copy到Excel软件B列中，为光电子强度数据列。

同时将299.4885Copy到Excel软件A列中，并按照步长及个数生成结合能数据，见图2图2将生成的数据导入Origin软件中，见图3。

图3此时以结合能作为横坐标，光电子强度作为纵坐标，绘出C谱图，检查谱1s图是否有尖峰，如果有，那是脉冲，应把它们去掉，方法为点Origin 软件中的Data-Move Data Points，然后按键盘上的↓或↑箭头去除脉冲。

本例中的实验数据没有脉冲，无需进行此项工作。

将column A和B中的值复制到一空的记事本文档中（即成两列的格式，左边为结合能，右边为峰强），并存盘，见图4。

图42、打开XPS Peak，引入数据：点Data--Import (ASCII)，引入所存数据，则出现相应的XPS谱图，见图5、图63、选择本底：点Background，因软件问题， High BE和Low BE的位置最好不改，否则无法再回到Origin，此时本底将连接这两点，Type可据实际情况选择，一般选择Shirley 类型，见图7。

图74、加峰：点Add peak，出现小框，在Peak Type处选择s、p、d、f等峰类型（一般选s），在Position处选择希望的峰位，需固定时则点fix前小方框，同法还可选半峰宽（FWHM）、峰面积等。

XPS分峰软件的使用和数据处理XPS（X-ray Photoelectron Spectroscopy，X射线光电子能谱）是一种常用的表面分析技术，广泛应用于材料科学、催化剂研究、纳米科学等领域。

XPS分峰软件是对XPS数据进行分析和处理的工具，能够提取有关样品表面元素化学状态、化学成分和电子结构等信息。

1.数据导入：将XPS仪器获得的原始数据导入软件中。

数据通常以文本文件或仪器专用格式存储，分峰软件可以识别并导入这些数据。

在导入数据之前，应该先了解数据格式，并确定所需的数据范围和区域。

2. 背景修正：数据导入后，需要进行背景修正，以去除实验过程中的仪器背景和杂散光等干扰。

背景修正方法通常包括线性减法、谐波函数、Shirley函数等，具体方法根据实验条件和样品性质选择。

3. 峰形拟合：在背景修正后，需要对数据中的峰进行拟合。

峰拟合是将实验数据与已知的峰形函数进行匹配，以确定化学元素的存在和化学状态。

通常情况下，可以使用高斯-Lorentzian混合函数对峰进行拟合，拟合过程可以手动进行，也可以使用软件自动拟合功能。

4.能量标定：在进行峰形拟合之前，需要对X射线束进行能量标定。

能量标定是将X射线能量与测量数据进行关联，以确定化学元素的能级位置和化学键结构。

能量标定通常使用已知元素的能级作为标准，例如碳、氧、铜等元素。

5.数据处理和结果输出：在峰形拟合步骤完成后，可以根据需要进行数据处理和结果输出。

常见的数据处理包括计算元素丰度、化学键价、化学迁移率等。

结果输出可以以图表形式展示，也可以导出为表格或文本文件。

在使用XPS分峰软件时，有一些细节需要注意：1.导入数据前，应该了解数据的格式和采集参数，确保数据和软件相兼容。

2.在进行峰形拟合时，应该根据样品的特性和实验要求选择合适的峰形函数和拟合范围。

3.在选择背景修正方法时，应该根据数据的特点，选择适合的修正方法，并进行必要调整。

4.在能量标定时，应该使用合适的能级标准，并进行修正，以达到更准确的能量标定效果。

1.数据保存为txt格式，双击全谱图，即，然后点一下工具栏中的，即可。

2.校正：C峰的结合能是284.6ev，若样品和此数值相差太远的话，需要校正。

双击每个样品的C峰，在谱图上点一下，上部的工具栏就会变亮。

点击这个图标，就会出现如图所示的栏目，然后点击，就会显示出C的具体数据，然后看到，和284.6ev相差0.3ev，需要校正。

也可以通过直接将鼠标点在谱图中C峰的顶点，但此方法会有所偏差，这时出现一个数字，此值为测量值，出现在谱图的右上角，是284.89，如图所示。

这里我们以测量值284.9，标准值284.6为基准校准。

校准时，在谱图上点一下，上部的工具栏就会变亮。

点击这个图标，就会出现如图所示图标，这时点一下，会出现，在Measured里输入284.9，在True里输入284.6，然后点击。

C峰校准完成。

因为每一个元素都是从全谱里分出来的，所以C峰结合能移动多少值，其他元素也得移动多少值。

C峰中是在测量值的基础上减去0.3ev，那每一个元素也得在测量值的基础上减去0.3ev。

比如说同一个样品中的O峰，测量值是532.65ev（），这时真实值就是532.65-0.3ev=532.35ev，这时在校准表里直接输入测量值和真实值，点击即可。

3.数据的拟合：比如C峰：点击，，这时创建是C峰区域，可以拉动谱图两边的灰色区域来调整基线，如图左边，拉动后变成右边。

然后点击，再点击，点击一次，拟合一条曲线，在点击一次，拟合一条曲线。

拟合完成后，点击，，就可以啦。

如果您不需要的拟合线，可以选中B栏或者C栏，，点击，就把拟合线删除了。

4.元素含量的定量：双击，在谱图上点一下，上部的工具栏就会变亮。

点击这个图标，就会出现如图所示图标，点击，然后点击所需元素，点击，就会出现C、O含量比。

这时特别注意要调整每一个元素的基线以及灵敏度因子（R.S.F），（上网查），我常用的灵敏度因子，C（0.25），O（0.66），S（0.54），N（0.42），Br（0.83）。

origin 峰值拟合曲线
Origin软件是一款常用的科学数据处理和图形绘制软件，可以用于峰值拟合和曲线绘制。

以下是使用Origin进行峰值拟合和曲线绘制的步骤：
1.数据导入：将需要拟合的数据导入Origin软件中，可以通过复制粘贴、导入数据文件等方式完成。

2.绘制曲线：在Origin中选择“绘图”菜单，选择适合的数据图表类型，例如散点图、线图等，然后将数据添加到图表中，即可绘制出相应的曲线。

3.峰值拟合：在Origin中选择“分析”菜单，选择“峰值分析”选项，并选择适合的峰值拟合函数类型，例如Lorentz函数、Gaussian函数等。

然后根据需要进行参数设置和调整，并点击“拟合”按钮，即可完成峰值拟合。

4.结果分析：Origin会给出拟合结果的详细信息，包括拟合函数参数、拟合优度等。

用户可以根据需要进行进一步的数据分析和处理。

需要注意的是，在进行峰值拟合时，应选择适合的拟合函数类型，并根据实际情况进行参数设置和调整。

同时，对于复杂的数据，可能需要采用多种方法进行拟合和分析，以获得更准确的结果。

材料Ｘ射线光电子能谱数据处理及分峰的分析实例例:将剂量为1 107ions/cm2，能量为45KeV的碳离子注入单晶硅中，然后在1100C 退火2h进行热处理。

对单晶硅试样进行XPS测试,试对其中的C1s高分辨扫瞄谱进行解析,以确定各种可能存在的官能团.分析过程：1、在Origin中处理数据图1将实验数据用记事本打开，其中C1s 表示的是C1s电子,299。

4885表示起始结合能，—0.2500表示结合能递减步长,81表示数据个数。

从15842开始表示是光电子强度。

从15842以下数据选中Copy到Excel软件B列中，为光电子强度数据列.同时将299.4885Copy到Excel软件A列中，并按照步长及个数生成结合能数据,见图2图2将生成的数据导入Origin软件中，见图3。

图3此时以结合能作为横坐标,光电子强度作为纵坐标，绘出C谱图,检查谱图是1s否有尖峰，如果有，那是脉冲，应把它们去掉,方法为点Origin 软件中的Data—Move Data Points,然后按键盘上的 或。

箭头去除脉冲.本例中的实验数据没有脉冲，无需进行此项工作.将column A和B中的值复制到一空的记事本文档中(即成两列的格式，左边为结合能，右边为峰强)，并存盘,见图4。

图42、打开XPS Peak，引入数据:点Data——Import （ASCII），引入所存数据，则出现相应的XPS谱图,见图5、图63、选择本底：点Background，因软件问题， High BE和Low BE的位置最好不改，否则无法再回到Origin，此时本底将连接这两点，Type可据实际情况选择，一般选择Shirley 类型，见图7。

图74、加峰：点Add peak,出现小框，在Peak Type处选择s、p、d、f等峰类型(一般选s）,在Position处选择希望的峰位，需固定时则点fix前小方框，同法还可选半峰宽(FWHM）、峰面积等。

材料Ｘ射线光电子能谱数据处理及分峰的分析实例例：将剂量为1´107ions/cm2，能量为45KeV的碳离子注入单晶硅中，然后在1100C高分辨扫瞄谱退火2h进行热处理。

对单晶硅试样进行XPS测试，试对其中的C1s进行解析，以确定各种可能存在的官能团。

分析过程：1、在Origin中处理数据图1将实验数据用记事本打开，其中C1s 表示的是C1s电子，299.4885表示起始结合能，-0.2500表示结合能递减步长，81表示数据个数。

从15842开始表示是光电子强度。

从15842以下数据选中Copy到Excel软件B列中，为光电子强度数据列。

同时将299.4885Copy到Excel软件A列中，并按照步长及个数生成结合能数据，见图2图2将生成的数据导入Origin软件中，见图3。

图3谱图，检查谱此时以结合能作为横坐标，光电子强度作为纵坐标，绘出C1s图是否有尖峰，如果有，那是脉冲，应把它们去掉，方法为点Origin 软件中的Data-Move Data Points，然后按键盘上的¯或­箭头去除脉冲。

本例中的实验数据没有脉冲，无需进行此项工作。

将column A和B中的值复制到一空的记事本文档中（即成两列的格式，左边为结合能，右边为峰强），并存盘，见图4。

图42、打开XPS Peak，引入数据：点Data----Import (ASCII)，引入所存数据，则出现相应的XPS谱图，见图5、图6。

3、选择本底：点Background，因软件问题， High BE和Low BE的位置最好不改，否则无法再回到Origin，此时本底将连接这两点，Type可据实际情况选择，一般选择Shirley 类型，见图7。

图74、加峰：点Add peak，出现小框，在Peak Type处选择s、p、d、f等峰类型（一般选s），在Position处选择希望的峰位，需固定时则点fix前小方框，同法还可选半峰宽（FWHM）、峰面积等。