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场致发射原理范文场致发射（Field Emission）是一种利用电场高强度的原理，从密集的金属尖端（例如钨尖、铕尖等）发射出电子的现象。
它是一种重要的电子发射机制，广泛应用于电子显微镜、射频微波器件、荧光显示器等领域。
本文将详细介绍场致发射的基本原理及其应用。
场致发射的原理基于量子力学的隧道效应。
当金属中存在一个极强的电场时，电子将被束缚在金属表面的费米能级附近。
如果金属尖端存在几何形状的尖缘，尖缘周围的电场会进一步增强，使得费米能级在尖端附近弯曲。
当电场强度超过一些阈值（一般为10^7～10^8V/m），电子有足够的能量穿过势垒，从金属尖端逸出发射。
场致发射的电子具有高速、高亮度和稳定性的特点，适用于要求高分辨率和高灵敏度的应用。
场致发射的机理可以通过费米面的形变来解释。
当金属尖端附近的电场强度增加时，费米面在尖端附近形成一个“弯曲”，即费米能级随距离的变化而变化。
这个费米面的弯曲导致了能态在空间上的重叠，即形成了一系列的波函数。
根据波函数的正交性，这些波函数中的一部分将趋向无穷大，使电子能够隧道穿过势垒，从而实现发射。
为了实现场致发射，需要满足一定的条件。
首先，金属尖端的半径应该尽量小，以增大周围的电场强度。
其次，金属尖端的表面应该尽量光滑，以防止电子被表面缺陷散射。
同时，正常的材料表面都会存在气体吸附，吸附的气体会降低电子隧穿经过的概率，因此需要对尖端进行氧化处理等，减少气体吸附。
最后，为了保证金属尖端之间形成足够的电场强度，通常需要对尖端进行高电压的加速。
场致发射在电子技术中有着广泛的应用。
最常见的应用之一是电子显微镜。
电子显微镜利用场致发射的高能电子来替代传统的光学显微镜，可以获得更高的分辨率和放大倍数。
此外，场致发射还用于制造射频微波器件，例如场发射管和冷阴极管。
在场发射管中，电场强度被用于控制电子的发射和加速；而在冷阴极管中，场致发射的电子作为多个发射源之一，被用于激发荧光屏。
此外，场致发射还用于荧光显示器和光电倍增管等领域。
第五章 场致电子发射场致发射：依靠外加强电场压抑物体表面势垒，使势垒高度降低，势垒宽度变窄，这样物体内的电子通过隧道效应穿透过表面势垒而逸出。
优点：电流密度大，107A/cm 2，热发射，几百A/cm 2；冷阴极（无须加热阴极）问题：发射的稳定性，阴极寿命还未完全解决产生强电场的方法：1、 提高电压，发射体做成曲率半径很小的尖端形式。
2、 采用薄膜技术，缩短阴阳极间距离。
5.1 金属场致发射理论一、与经典理论的矛盾 加速场：肖特基效应||'εϕϕke e −=，)||44.0exp(0εT j j a = 1、 E 较强时，实验结果得出的电流大于上式2、 E 较强时，低温时（T<1000K ），电流与温度无关二、场致发射的定性解释 场致发射：)exp(2EB AE j E −= A ，B 是与φ有关的常数 E x 大于Wa 的电子，仍有可能被势垒反射回金属内部 E x 小于Wa 的电子，也可能“穿透势垒”而逸出――隧道效应势垒曲线a ：零场，理查生－德施曼方式（势垒无限宽，考虑偶电层力，镜像力） 曲线b ： 弱电场，肖特基效应（势垒高度降低，宽度变窄，只考虑了势垒高度的降低，是弱电场的热发射。
温度对发射的影响远大于电场对发射的影响）微粒性 势垒很宽：热反射电子数目》遂穿电子数目曲线c ：低温、强电场，隧道效应（势垒高度进一步降低，宽度变窄到电子波长数量级，隧道效应起主要作用，隧穿电子数目）热反射电子数目，j 可达108A/cm 2，T<1000K 场致发射，温度对发射的影响则不大。
）波动性 曲线d ：极强电场，成本高，没有必要隧道效应粒子能穿透比动能更高的势垒的现象，隧道效应是微观粒子具有波动性的表现，隧道效应对势垒宽度十分敏感如一个α粒子穿过一个势垒：V 0－E 势垒宽度a 透射系数|T|21MeV ~10-14m 10−41MeV ~10-13m ~10-38对于宏观物体，隧道效应在实际上已经没有意义。
场致发射原理场致发射原理是指在强电场或强磁场的作用下，材料中的电子受到激发而从固体表面发射出来的现象。
这种发射方式与传统的热发射和光电发射不同，它不需要高温或光照，而只需要外加电场或磁场的作用即可实现电子的发射。
场致发射在电子学、光电子学、材料科学等领域具有重要的应用价值。
场致发射的原理是基于量子力学的电子隧穿效应。
在材料中，电子被束缚在原子核附近的能级中。
当外加电场或磁场达到一定强度时，电子的能量会增加，足以克服束缚力，从而逃逸出来。
这个过程可以用电子隧穿效应来解释，即电子通过量子隧道从材料中逃逸。
在场致发射中，电子的逃逸受到多种因素的影响。
首先是材料的性质，包括禁带宽度、电子亲和能、晶格结构等。
禁带宽度越小，电子逃逸的能量越低，逃逸的电子数目越多。
电子亲和能越小，电子逃逸的能量越低，逃逸的电子数目越多。
晶格结构对电子的逃逸也有一定影响，某些晶格结构能够提供更多的逃逸路径，从而增加逃逸电子数目。
其次是外加电场或磁场的作用强度。
当外加电场或磁场的作用强度越大时，电子逃逸所需的能量越小，逃逸的电子数目越多。
但是当作用强度过大时，可能会引起材料的损坏或失效，因此需要在适当的范围内选择。
温度也会对场致发射产生一定影响。
在一定温度下，材料中的电子具有一定的热运动能量，这会增加电子逃逸所需的总能量。
因此，较高的温度会减弱场致发射的效果。
场致发射具有一些独特的优点。
首先是发射电子的速度非常快，一般在纳秒或皮秒的时间尺度内完成。
这使得场致发射在高速电子学器件中具有重要的应用。
其次，场致发射不需要高温或光照，这样可以减少能量的消耗和材料的损伤。
此外，场致发射还具有很高的空间分辨率，可以实现微米甚至纳米级别的电子发射。
场致发射在许多领域有着广泛的应用。
在电子学中，场致发射被用于产生高速脉冲电子束，用于光电子学器件的驱动和调制。
在光电子学中，场致发射被用于产生高亮度的电子源，用于光阴极和显示器件。
在材料科学中，场致发射被用于研究材料的电子输运性质和表面形貌。
第一章习题答案一、填空题1. 投影型空间成像型直视型阴极射线管显示器平板显示器2. 主动发光型非主动发光型3. CRT投影技术LCD投影技术数字光处理器表面数字微晶装置4. 阴极射线管电子束电子枪阴罩荧光粉层5. 等离子体气体放电发光6. 半导体硅上的液晶玻璃半导体硅材料7. 头盔显示器全息显示器8. 真空荧光真空荧光管9. 无数个小发光二极管拼接10. 300mm×400mm 2二、名词解释1. 主动发光型显示器是指利用电能使器件发光，显示文字和图像的显示技术。
2. 被动发光型显示器是指器件本身不发光，需要借助于太阳光或背光源的光，用电路控制外来光的反射率和透射率，才能实现显示。
3. 投影型显示器是用显示器显示图像后，再经光学系统放大后投影到屏幕上的一种显示。
4. 空间成像型显示器是空间虚拟图像，也是投影显示的一种，代表技术是头盔显示器5. 电致发光显示器是利用某些材料在外界电场作用下发光实现显示的一种主动发光显示器。
6. 场致发射显示器是一种用冷阴极在高电场作用下发射电子，轰击涂覆在屏幕上的荧光粉发光实现显示的。
7. 发光二极管显示器是采用无数个小发光二极管拼接组成的显示器。
8. 响应时间是指显示器对输入信号的反应时间，如像素由暗转到亮，再由亮转到暗的图像完全显示所用的时间。
9. 亮度是指在单位面积上显示器画面明亮程度。
10. 开口率是像素的有效透光区面积与像素总面积的比值。
11. 对比度是指显示器的最大亮度与最小亮度的比值。
12. 灰度是指在白和黑之间的亮度层次分成几个等级，表示显示亮度不同的反差。
13. 拖尾是显示器在显示动态图像时出现的边缘模糊、看不清细节的现象。
14. 像素是平板显示图像的很多纵横排列的点中最小单位的点。
15. PPI，Pixels per inch，是每英寸所拥有的像素数目。
16. 画面尺寸是指显示区域对角线的长度。
17. 长宽比是显示画面横方向尺寸和纵方向尺寸的比。
场致发射中离子轰击问题的研究场致发射是一种通过在电场中加热材料并加速离子来实现的电子发射技术。
它在许多应用领域中都非常重要，包括电子显微镜、光电倍增管、微型电子器件等。
离子轰击是一种常见的场致发射问题，特别是在离子束技术中。
在这种情况下，离子束以高速击中靶材料，并导致材料表面的原子或分子通过电离或其他机制而被发射出来。
这些离子轰击所引起的电子发射可以通过场致发射机制进行调控和优化。
对于离子轰击问题的研究主要包括以下几个方面：1. 离子束特性：研究离子束的物理性质，包括离子能量、束流密度、离子种类等，以及离子束与靶材料之间的相互作用。
这些参数对离子轰击产生的电子发射效果有着重要影响。
2. 能量转移过程：研究离子轰击能量如何被转移到靶材料中的原子或分子，以及此过程如何影响材料表面的电子发射。
这涉及到离子与材料之间的相互作用机制，例如碰撞产生的能量转移、电离过程等。
3. 发射机制和效应：研究离子轰击导致的电子发射机制和效应，例如场致发射、次级电子发射、阳极发射等。
解析这些机制有助于更好地理解离子轰击过程中的电离和电子发射机制。
4. 优化和应用：基于对离子轰击问题的研究，提出优化离子轰击条件的方法，以增强电子发射效果。
这可以包括调节离子束参数、选择合适的靶材料、设计特殊的发射结构等。
此外，通过应用离子轰击技术，可以实现一些实际应用，如高分辨率成像、电子能量谱分析等。
总体来说，离子轰击问题的研究涉及多个学科领域，包括物理学、材料科学、工程学等。
通过深入理解离子轰击过程中涉及的物理机制，可以促进技术的发展和应用。
