1)聚磷酸盐(六偏磷酸钠、三聚磷酸钠)阻垢剂。使用时加入水中浓度为0.5～10ppm，适合于低压锅炉。
. z- M g; T% d: ^ ①六偏磷酸钠(NaPO3)6，由磷酸二氢钠脱水经高温(600～650℃)处理后，急剧冷却而制得。- H5 c4 z4 R4 j: ]: p, I; F6 D
②三聚磷酸钠，即三磷酸钠(Na5P3O10)，由磷酸二氢钠和磷酸氢二钠充分混合，加热脱水，再高温熔融而成。' a+ f& h- X6 Q) \0 ~
(2)膦酸盐阻垢剂! B- @: D8 }4 w5 E- ^7 {' S
常用的药剂有以下几种：( h% Z/ W8 T/ w; F$ H C* _
①羟基乙叉二膦酸，结构式为：
" y8 U; N1 }6 g% |( @$ R) t3 Q 别名为HEDP，含量为50%，为**透明粘稠液体，显强酸性(pH=2～3)，具腐性。羟基乙叉二膦酸多由三氯化磷与醋酸等原料制成，其合成反应如下：' r# `) X8 W7 A' ]$ X 【用途】HEDP为阴极型缓蚀剂。在水溶液中，HEDP可解离成5个正、负离子，可与金属离子形成六员环螯合物，尤其是与钙离子可以形成胶囊状大分子螯合物，阻垢效果较佳。
/ L6 @) _0 s) K* l( _( D HEDP与其它缓蚀剂、阻垢剂配合使用，具有协同效应，可提高药效。例如与铬酸盐、钼酸盐、硅酸盐、亚硝酸盐、聚丙烯酸盐、锌盐等配合使用，多用于锅炉水处理、冷却水的处理，使用量一般低于1～3ppm，适用于低、中压锅炉用水的处理。. m& @9 g9 f% Z* `9 a: K0 W$ h
②乙二胺四甲叉四膦酸，其结构式为：
; i" ^" L3 E3 ]7 p- U 别名为EDTMP，其钠盐为棕**透明粘稠液体，含量为28%～30%，pH=9～10。EDTMP多由甲醛、乙二胺、三氯化磷为原料制成。其合成反应如下：6 U, ~) ^' A# B M 【用途】EDTMP为有机多元膦酸阴极缓蚀剂。在水中，EDTMP能解离成8个正、负离子，可以和两个或多个金属离子螯合，形成两个或多个立体结构大分子粘状络合物，松散地分散于水中，使钙垢的正常结晶破坏，减少垢的形成。EDIMP多用于锅炉水的阻垢。加入水中浓度为1ppm，适用于中、低压锅炉。
/ ?# e# ^/ r: A) k ③氨基三甲叉膦酸，其结构式为：+ ]+ x( F5 M4 L: z1 t, m 别名为ATMP，含量为50%，为淡**液体。本品多由三氯化磷、铵盐、甲醛等原料反应制得，其反应原理为：
2 Z& a$ `# H+ t X; M( Y
3 y N PCl3+3H2O→H3PO3+3HCl ) {" r$ L* Z I. A3 | 3H3PO3+NH4Cl+HCHO→ATMP+CO2+3H2O
7 ~' Y2 a. x! X6 [ 【用途】ATMP为阴型缓蚀剂。在水溶液中ATMP经解离成六个正离子和六个负离子，能与水中Caサ，Mgサ形成多元螯合物。这个大分子螯合物以松散的方式分散于水中，使钙、镁等垢的正常结构遭到破坏，所以ATMP有阻垢效果。多用于锅炉用水，印染用水、油田注水的防垢，一般用量为3～10ppm。
8 U, v9 V* Q& b, d0 @$ R) g(3)氨基化合物阻垢剂6 G3 n6 y4 U) g
常用的药剂有：
' j0 o- E5 V) t: e v# y5 y& b3 x- B" d9 [* l
①二乙撑三胺，其结构式：
7 F- c- c8 ], D, ?3 `4 b% `% d H2N(CH2)2NH(CH2)2NH2
8 f, Z8 `( t2 P ②三乙撑四胺，其结构式：: r9 g4 T1 t1 ]& b* J; T1 {, M
2 j& E# s6 \4 |( x. _
H2N(CH2)2NH(CH2)2NH(CH2)NH20 y* e- @1 q! c, A8 ^: w+ X
③四乙撑五胺，其结构式：
% e0 o/ J/ [" q3 k0 F% R: O0 }6
n H2N(CH2)2NH(CH2)2NH(CH2)2NH(CH2)2NH2# i1 l# T9 f: l
: h& `4 B- a6 W% p* ~% G+ S0 [ ④聚丙烯酰胺，其结构式：# s8 L8 m m e# B& Z3 s 聚丙烯酰胺，由丙烯酸和丙烯酰胺两种单体共聚得到，也可由聚丙烯腈水解聚合制得。) f9 Q' |' E' g. }7 e 氨基化合物阻垢剂，使用时，加入水中浓度为0.2～2.5ppm.适用于中压锅炉炉水的处理，炉水的pH=8.5～11.5。
2 E# O; G* P. n( U5 m; b(4)氮三化合物类阻垢剂
- b" {. E. f8 F2 @" @6 A 名BTA，为淡褐色或白色结晶性粉末。工业上常采用邻苯二胺重氮化、环合，制备。: v( t0 m) \' t8 W R& Z
工业上多常用甲基邻苯二胺轻重氮化、环合制得。
6 _; V8 [5 {4 V' j 氮三化合物，适用于75个压力以下锅炉水的处理。
h n1 @+ L( q: w' R; a/ C(5)乙烯与无水马来酸聚合物复合阻垢剂。适用于中、高压钢炉，加入水中浓度为5～50ppm。2 h; @% D1 C4 Q6 }$ i h
(6)表面活性剂阻垢剂。它对阻止硫酸钙垢效果较好，常用的药剂有十二烷基苯磺酸钠、十二烷基氯化吡啶、聚丙烯酸钠、单宁酸等。
" W8 n6 d4 V9 @ g8 G(7)小型低压锅炉防垢剂
1 m8 q" m' Z0 q7 H; U/ F. q" C(8)复配无机盐防垢剂0 d3 T3 W; y8 [3 }9 A
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6 m, z4 d4 f, m% t
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【配方】二氧化硅 40(份)" x/ T7 Y* V- t& \, r7 I1 J: o' t& i
碳酸钠48
# Z8 o$ `. ^/ J6 h2 Y% W 六偏磷酸钠 81 h7 `% I# R: L: d. V
硼砂 2
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) F8 ]8 w' O; p 亚硝酸钠 2& }+ v" F7 e3 v) S
【制备方法】将上述原料混合，在1400～1500℃熔融，冷却结晶，再粉碎制成。8 C7 ]* D( m+ L* h/ t
2 [5 @+ H2 T: N; ^（9)锅炉防垢粉7 D+ k k* _+ I6 u
【配方】碳酸氢钠 87(份)7 K$ ^! I# {$ t* b& |' H9 m
磷酸三钠 100 i1 a" }* F7 H' M( G# n, A. @
淀粉 1
# [! v+ E) ^2 k/ @! | 丹宁酸22 v/ ]; [1 o4 U' K) t) @- Z
【制备方法】将上述各原料混合均匀，研细过筛即可。
8 U& x$ l, f/ l$ Y* ?3.冷却水处理剂
1 J) T& {8 Q! Q8 q; A1 ^ 冷却用水是工业中最大用量水。冷却水对金属不能有腐蚀和结垢，因此要进行处理，但因其用量大，考虑到经济性，因而没有必要象锅炉用水那样深度净化。# R& U4 c- A8 \ q3 O/ g" m 冷却水系统根据供水方式可分为两类，一类称开放式，也叫单级冷却系统，即冷却系统中的水用一次即被排除。这种用水一般可不用处理，或必要时作定期处理。另一类叫做密闭式，也叫循环冷却系统。它是把使用后的冷却水通过水塔或**池等专用设备，使其温度降低后又重新使用。此时易生成碳酸钙为主要组成的垢类，因而需加以处理。
$ e$ o! K f- Q$ X& L( r$ w( ]' z 对冷却水的化学处理俗称水质稳定，其化学药剂称水质稳定剂，它可使循环水系统达到缓蚀、阻垢和避免在水中繁殖细菌和藻类。一般按配方缓蚀剂所属种类，把水质稳定剂分成若干不同系列，如铬系、磷系、硅系、钼系等。所谓磷系水质稳
