晶体加工工艺总结（德清华瑞光学）
晶体加工
1、方解石：光轴面抛光后不能用白胶布保护，必需用黑胶布。光轴面B=Ⅲ，用玻璃盘细磨，细磨光圈半个左右。抛光：用绸布（真丝布）绑在抛光好的平玻璃板上，一定要平，然后用704粘合剂均匀地涂在绸布上，未干时放在平玻璃板上轻轻磨一下，然后等完全干透。
2、白宝石、红宝石：要求B=Ⅳ，θ=1′，N=1，ΔN=1/2。一般用钢盘加研磨膏抛光，钢盘一定要改好。如果B要求较高，可用特殊胶盘。细磨一定要好。
3、磁光（旋光）晶体：YIG、GGG。细磨一定用碳化硼280#，20#，抛光先用宝石粉W2.5抛亮后，再用刚玉微粉W1.5抛，用水晶作垫子。
4、BBO，微潮，磨砂用302#、302.5#。在铁盘或玻璃盘上磨。抛光用CeO2可抛好。晶体易开裂，加工时及加工前后均应注意保持恒温。并要求选取无包裹的纯单晶加工，有方向要求。BBO晶体较软，易划伤，抛光面不可与任合物擦拭。BBO晶体易潮解，抛光后置于红外灯下烘干，然后置于密封干燥的容器中保存。
5、氟化钙（CaF2）B=Ⅲ，可用CeO2抛好。用302#、303#磨砂，用宝石粉抛亮后，改用钻石粉水溶液抛光圈和道子。用宝石粉W1抛光很快，然后用W0.5 抛光圈和道子。用聚胺树脂作抛光模范，也可用宝石粉抛亮后用氧化铬抛光，胶盘用软胶盘，工件最好抛高光圈，但不必高太多。
6、LBO材料硬度与K9相似，点胶上盘，如封蜡可用电烙铁直接封，研磨、抛光同K9玻璃相似，用CeO2抛光。
7、氟锂锶锂：软晶体、易坏，B=Ⅱ，上盘用红外灯慢慢加热。在清洗时不可多擦表面，否则易出道子。用氟化锂做保护片，W1.５刚玉粉抛亮后改用Ｗ０.５钻石微粉水溶液抛光。用CeO2抛光也可抛好。（５００目）
8、KTP晶体：硬度和ＺＦ相差不多，用ＺＦ做保护片，进行抛光。ＫＤ＊Ｐ、ＫＴ＊Ｐ，用软胶盘（一般用特殊配制的胶盘），也可用１＃（天较冷）２＃（天较热）号胶盘，抛光后用洗砂倒边。ＫＤ＊Ｐ易潮解、易碎，抛光时温度、湿度要求较高。
9、双４５°ＬＮ电光Ｑ开关：双４５°ＬＮ电光Ｑ开关是一种利用ＬＮ晶体作材料加工成的斜方棱镜，有六个加工面，其中四个面抛光，另两个面只须定向和研磨。在四个抛光面中，入射面、出射面为晶体Ｙ晶面。入射面、出射面的夹角为４５°±１′，电极面为Ｘ晶面，须镀金。加工时首先要确定Ｙ基准面，Ｘ、Ｙ晶面的衍射角为θ（１１０）＝１７°２４′和θ（３００）＝３１°１２′。上盘用石膏模固定，配盘材料用ＬＮ或与ＬＮ相似的Ｋ９玻璃。加工时入射面、出射面主要控制几何尺寸和平行度，技术要求：Ｎ＝１/４、Ｂ＝Ⅲ，θ≤１０〞。加工第一个４５°反射面主要控制角度和塔差，第二个４５°反射面除控制零件的长度外，还要控制光线经过四个抛光面反射后所反映出来的综合平行度。由于光线在晶体内部经过四次反射，因此测量综合平行度只是分划板读数的１／４n（n为ＬＮ折射率）通常要求θ≤１０〞。ＬＮ电光Ｑ开关的两个４５°反射面的粗糙程度的好坏与晶体抗激光损伤能力密切相关。ＬＮ属于铁电晶体，当抛光级剂选用不当时会出现抛不亮或返毛现象，可通过选高熔点的抛光剂或在溶液中加入ＨＣＬ或肥皂粉，如果仍不行须重新磨砂。
10、Mg2SiO4 (镁橄榄石)晶体，莫氏硬度为7，抛光较难。
1、用聚胺树脂硬胶盘加Ｗ3.５、Ｗ2.５宝石研磨膏抛光，大约要5~6小时，一天左右可抛亮。
2、抛亮厚用Ｗ０.５钻石微粉水溶液改光圈。低光圈较难改。
11、SeZn晶体，软晶体。磨砂用302#、302.5#在玻璃盘上，抛光用软胶盘，先用W1.
５刚玉粉抛亮后改用Ｗ０.2刚玉粉水溶液抛光，或用氧化铬抛光。
12、NaF 氟化钠晶体，微潮解，不要求光圈，平行度一般。磨砂用302.5#、305#在玻璃盘上，抛光用聚胺脂硬胶盘加Ｗ1、Ｗ0.5研磨膏。然后用丝绸加酒精抛干即可。
13、KCl 晶体，微潮解，上盘干粘在玻璃板上，粘好后用303#砂研磨一下。要砂多水少。一般用干布擦干净，再用汽油擦一下，然后抛光，抛光不用胶盘，也不用湿CeO2抛光。应用干CeO2抛光。把绸布绑在一块平板玻璃上，然后把CeO2放在绸布上用酒精抛光，大约抛两小时左右，一定要把酒精抛干。注意：磨砂时用玻璃盘不用铁盘。对于NaCl、KBr等微潮晶体一般用砂纸磨砂，用CeO2抛亮后改用刚玉粉Ｗ０.2抛光，胶盘用软胶盘，粗磨成圆时用蜡粘起来，用砂纸滚圆。
14、砷化钾——微毒，磨砂用302#、302.5#，抛光用硬树脂抛光模，研磨膏用Ｗ2.5，然后用软抛光模，研磨膏用Ｗ0.5。
15、BGO比LiF硬比YAG软得多，BGO棒用CeO2抛光，但易出道子，用MgO抛光较好。
16、YAB YAB与YAG硬度差不多，抛光相同的垫子可通用。gW /i,D
17、LanYLi2O9铝酸钇镧，用Ｗ1.5刚玉粉抛，一般用宝石粉抛光也可用钻石粉，抛光时间较长。
18、氟化锂全解裂，上石膏。磨砂用玻璃盘，抛光1、用Ｗ1.5刚玉粉水溶液抛亮后，如果需要改平行度用刚玉粉改好。2、再用Cr2O3（蚕宝宝溶液）修光洁度。最好是高光圈改到底光圈，不可高太多，粗磨成型时最好避开解裂面，最好大于3°，胶盘最好用软胶盘，用透明胶保护。
19、氟化物玻璃硬度和磷玻璃差不多，易腐蚀，抛光时先用CeO2抛光，再用Cr2O3（蚕宝宝溶液）修光洁度。氟化物玻璃一般不用保护漆保护，用蜡封做好的面，也可用透明胶带保护，用磷玻璃作保护片。
20、YLF 氟化钇锂，加热一般用红外灯，不可用酒精灯，用黄蜡不可用虫胶片保护。加热时红外灯不可靠的太近，磨砂用302.5#直接研磨。抛光用CeO2抛亮后改用刚玉粉Ｗ０.2抛光，胶盘用软胶盘。
21、镐石棒1、垂直度硬度与YAG棒差不多，但在抛光时用W1抛光。等到抛亮后有砂眼，没有道子。越抛道子越多，有可能是发生了化学反应。用Ｗ0.2刚玉粉水溶液抛、CeO2抛都没结果。用Cr2O3（蚕宝宝溶液）道子和砂眼完全抛掉，单光圈不好，用钻石粉Ｗ0.2光圈可修好。
2、平行度一般镐石棒在磨砂后放在平板玻璃上用测角仪看平行度，一般平行度在30′/格。抛光好要差4—5格，且图象很模糊，所以平行度最好相差3—4格之间。
