第4章 射线透照工艺
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第四章射线透照工艺前言(一)X射线能量的选择:选择的首要条件时应具有足够的穿透力,但过高对射线照相的灵敏度不利。
因为随管电压的升高,衰减系数μ减少对比度D∆降低,固有不清晰度Ui增大,底片颗粒度增大,其结果是射线照相灵敏度下降。
因此原则是:在保证穿透力的前提下选择能量较低的X射线。
所以,标准规定了对不同厚度允许使用的最高管电压并要求有适当的曝光量(如AB级不小于15mA.min;焦距700)(二)曝光量:E=I.t (或A. t)互易律:当采用铅箔增感屏或无增感屏时,遵守互易律,即只要两者乘积E值不变。
即射线强度和时间相应变化,底片黑度不变。
平方反比定律:辐射强度与距离平方成反比。
(三)焊缝透照方法要考虑的因素:1、必须确定的事项:射线源位置、透照方向、象质计、标记的放置、散射线的屏蔽。
2、必须确定的几何参数:焦距(L1和L2);一次透照长度L3;环焊缝100%,透照时的最少曝光次数N。
3、同时需考虑的相关因素:几何不清晰度U g ;透照厚度比K ; 横向裂纹检出角Q ;有效评定长度Leff 。
100%透照时,相邻两片的搭接长度 L 。
一、关于U g 值的问题:U g :几何不清晰又称半影宽度。
U g =12.L L df JB928-67标准为一固定值,U g =0.2、0.4㎜,要减小U g 值从公式中可以看出提高焦距可以减少U g 。
但要增加曝光量(t 、KV )为了互相的制约,使用德国标准DIN54111规定:A 级dfL1≥7.5L 232B 级dfL 1≥15L 232JB4730-94标准采用此标准并增加了AB 级即:AB 级:dfL1≥10L 232A 级 L 1≥7.5df.L 232AB 级 L 1≥10df.L 232B 级 L 1≥15df.L 232如果把:df=21.L L U g 代入以上公式得:A 级:U g ≤5.71L 231 AB 级:U g ≤101L 231B 级:U g ≤151L 231从公式可以看出U g 是一个变量,它随工件透照厚度(L 2)的增加而有所增加。
射线透照工艺射线透照工艺是指为达到一定要求而对射线透照过程规定的方法、程序、技术参数和技术措施等,也泛指详细说明上述方法、程序、参数、措施的书面文件。
射线透照工艺文件有两种,一种称通用工艺规范,依照有关管理法规和技术标准,结合本单位具体情况(涉及的产品范围和现有设备条件)编制而成。
其内容除包括从试件准备直至资料归档的射线照相全过程,还包括对人员、设备、材料的要求以及一些基本技术数据,如曝光曲线等图表。
另一种称专用工艺,其内容比较简明,主要是与透照有关的技术数据,用于指导给定试件的透照工作。
因其通常用卡片形式填写,所以有时称为透照工艺卡。
工艺条件是指工艺过程中的有关参变量及其组合。
射线透照工艺条件包括设备器材条件,透照几何条件,工艺参数条件,工艺措施条件等。
本章重点介绍一些主要的工艺条件对照相质量的影响及应用选择原则。
4.1透照设备器材4.1.1射线源1、射线源分类X射线:400KV以下,可通过调节KV选择能量大小,穿透厚度上限达70-90mm左右。
Y射线:能量不可改变,只能根据工件厚度选择源的种类。
常用Y射线源的特性参数高能X射线:由加速器产生,能量1—30MeV,穿透厚度100—300mm,设备昂贵,适用于厚壁容器制造企业。
2、射线能量(射线源种类)的选择考虑因素:穿透力照相灵敏度设备特点选择原则:1)对于较薄材料(50mm以下)的透照,尤其是钢板对接,应优先选择X射线,可获得较好的照相灵敏度。
2)厚度50以上的透照,采用X射线、Y射线获得的照相灵敏度相近,根据工件及现场情况选择。
3)透照困难的现场,如狭小空间、架空管道等,可考虑采用Y射线。
4)环焊缝X射线透照,焦距满足要求的情况下,尽量采用锥靶周向X射线机,一来可提高工效,二来可减小缺陷影像的畸变。
4.1.2胶片1、胶片分类按现行承压设备射线检测标准(JB/T4730.2—2005):胶片系统按照GB/T19384.1分为四类,即T1、T2、T3和T4类。
第四章:射线透照工艺4.1透照工艺条件的选择射线基本透照参数有射线能量、焦距、曝光量。
射线透照工艺是指为达到一定要求而对射线透照过程规定的方法、程序、技术参数和技术措施,也指详细说明上述方法、程序、技术参数和技术措施的说明文件。
工艺条件是指工艺过程中的有关参数变量及其组合。
射线透照工艺条件包括;设备器材条件,透照几何条件,工艺参数条件和工艺措施条件等。
下面将主要介绍基本透照参数的选择及它们对射线照相质量的影响和工艺编制的原则。
3.2.1射线源和能量的选择1.射线源的选择射线源的选择原则首先要考滤射线源对被检工件应有足够的穿透力。
对X射线来说,穿透力取决于管电压。
管电压越高射线的线质越硬,在试件中的衰减系数越小,穿透厚度越大。
例如100KV的 X射线高灵敏度法最大穿透力为10 mm,射线低灵敏度法最大穿透力为25 mm。
对于r射线来说,穿透力取决于射源的种类,常用的r射线源适用的透照范围Ir192 20mm-90mm(高灵敏度),10-100mm(低灵敏度法),Co60 50-150mm (高灵敏度)30-200mm(低灵敏度法)。
由于放射性同位素的能量不能该变,所以不仅规定了透照厚度的上限(考虑到穿透力),同时规定了透照厚度的下限(考虑到灵敏度)。
选择射线源时必须注意到X射线和r射线照相灵敏度的差异。
由工艺基础理论得知,对比度 D,不清晰度U和颗粒度σ是左右射线影象质量的三大要素,现以Ir192为例与X射线相比较对着三大要素的影响。
我们知道对比度又正比于比衬度 Cs, Cs= /1+n,由图3-1可以看出对45mm以下的钢,用Ir192透照所得射线底片其对比度比X射线底片对比度要差的多。
以25mm 厚度钢为例前者要比后者的对比度低40%。
对比度自然会影响到像质计灵敏度。
另外Ir192的固有不清晰度Ui…值(0.17)比400KV的X射线还大,它分别是100KV、200KV、300KV X射线Ui值的3.4倍,1.8倍,1.4倍。
射线透照工艺射线透照工艺是指为达到一定要求而对射线透照过程规定的方法、程序、技术参数和技术措施等,也泛指详细说明上述方法、程序、参数、措施的书面文件。
射线透照工艺文件有两种,一种称通用工艺规范,依照有关管理法规和技术标准,结合本单位具体情况(涉及的产品范围和现有设备条件)编制而成。
其内容除包括从试件准备直至资料归档的射线照相全过程,还包括对人员、设备、材料的要求以及一些基本技术数据,如曝光曲线等图表。
另一种称专用工艺,其内容比较简明,主要是与透照有关的技术数据,用于指导给定试件的透照工作。
因其通常用卡片形式填写,所以有时称为透照工艺卡。
工艺条件是指工艺过程中的有关参变量及其组合。
射线透照工艺条件包括设备器材条件,透照几何条件,工艺参数条件,工艺措施条件等。
本章重点介绍一些主要的工艺条件对照相质量的影响及应用选择原则。
4.1 透照设备器材4.1.1 射线源1、射线源分类X射线:400KV以下,可通过调节KV选择能量大小,穿透厚度上限达70-90mm左右。
γ射线:能量不可改变,只能根据工件厚度选择源的种类。
高能X射线:由加速器产生,能量1-30MeV,穿透厚度100-300mm,设备昂贵,适用于厚壁容器制造企业。
2、射线能量(射线源种类)的选择考虑因素:穿透力照相灵敏度设备特点选择原则:1)对于较薄材料(50mm以下)的透照,尤其是钢板对接,应优先选择X 射线,可获得较好的照相灵敏度。
2)厚度50以上的透照,采用X射线、γ射线获得的照相灵敏度相近,根据工件及现场情况选择。
3)透照困难的现场,如狭小空间、架空管道等,可考虑采用γ射线。
4)环焊缝X射线透照,焦距满足要求的情况下,尽量采用锥靶周向X射线机,一来可提高工效,二来可减小缺陷影像的畸变。
4.1.2 胶片1、胶片分类按现行承压设备射线检测标准(JB/T 4730.2-2005):胶片系统按照GB/T 19384.1分为四类,即T1、T2、T3和T4类。
射线检测复习题第4章(JB/T4730-2005通用部分和钢材料部分)选择题@.对于厚度差较大的工件进行透照时,为了得到黑度和层次比较均匀的底片,一般做法是( B )A.提高管电流B.提高管电压C.增加曝光时间D.缩短焦距@在同一个暗盒中装两张不同感光速度的胶片进行曝光的主要目的是( D )A.为了防止暗室处理不当而重新拍片B.为了防止探伤工艺选择不当而重新拍片C.为了防止胶片上的伪缺陷而重新拍片D.用于厚度差较大工件的射线探伤,这样在不同厚度部位都能得到黑度适当的底片@.铅箔增感屏上的深度划伤会在射线底片上产生黑线,这是因为( B )A.铅箔划伤部位厚度减薄,对射线吸收减小,从而使该处透射线时增多B.划伤使铅箔表面增大,因而发射电子的面积增大,增感作用加强C.深度划伤与胶片之间的间隙增大,散射线增加D.以上都对@.由被检工件引起的散射线是( C )A.背散射B.侧向散射C.正向散射D.全都是@.用铅箔增感,焦距1200mm,曝光时间8min,得底片黑度1.5,现焦距为600mm,底片黑度不变,曝光时间应为( B )A.1.6minB.2minC.1.25minD.4min@.控制透照厚度比K值的主要目的是( A )A.提高横向裂纹检出率B.减小几何不清晰度C.增大厚度宽容度D.提高底片对比度@.小径管环焊缝双壁双影透照时,适合的曝光参数是( A )A.较高电压、较短时间B. 较高电压、较长时间C. 较低电压、较短时间D. 较低电压、较长时间@.曝光因子表达了哪几个参数的相互关系( C )A.管电压、管电流、曝光时间B. 管电压、曝光量、焦距C.管电流、曝光时间、焦距D. 底片黑度、曝光量、焦距@.在哪一种情况下,底片的有效评定范围会超出搭接标记以外( B )A.环缝双壁单影透照,搭接标记放在胶片侧B.环缝单壁外透法,搭接标记放在胶片侧C.纵缝单壁外透法, 搭接标记放在射源侧D.环缝中心透照法搭接标记放在胶片侧问答题@.何谓互易率?答:从照相学引用来的一条定律,它指出,决定光化学反应产物质量的条件,只总的曝光量相关,对于射线检测来讲,取决于辐射强度和时间的乘积,而与这两个因素的单独作用无关。
第四章射线透照工艺前言(一)X射线能量的选择:选择的首要条件时应具有足够的穿透力,但过高对射线照相的灵敏度不利。
因为随管电压的升高,衰减系数μ减少对比度D∆降低,固有不清晰度Ui增大,底片颗粒度增大,其结果是射线照相灵敏度下降。
因此原则是:在保证穿透力的前提下选择能量较低的X射线。
所以,标准规定了对不同厚度允许使用的最高管电压并要求有适当的曝光量(如AB级不小于15mA.min;焦距700)(二)曝光量:E=I.t (或A. t)互易律:当采用铅箔增感屏或无增感屏时,遵守互易律,即只要两者乘积E值不变。
即射线强度和时间相应变化,底片黑度不变。
平方反比定律:辐射强度与距离平方成反比。
(三)焊缝透照方法要考虑的因素:1、必须确定的事项:射线源位置、透照方向、象质计、标记的放置、散射线的屏蔽。
2、必须确定的几何参数:焦距(L1和L2);一次透照长度L3;环焊缝100%,透照时的最少曝光次数N。
3、同时需考虑的相关因素:几何不清晰度U g ;透照厚度比K ; 横向裂纹检出角Q ;有效评定长度Leff 。
100%透照时,相邻两片的搭接长度 L 。
一、关于U g 值的问题:U g :几何不清晰又称半影宽度。
U g =12.L L df JB928-67标准为一固定值,U g =0.2、0.4㎜,要减小U g 值从公式中可以看出提高焦距可以减少U g 。
但要增加曝光量(t 、KV )为了互相的制约,使用德国标准DIN54111规定:A 级dfL1≥7.5L 232B 级dfL 1≥15L 232JB4730-94标准采用此标准并增加了AB 级即:AB 级:dfL1≥10L 232A 级 L 1≥7.5df.L 232AB 级 L 1≥10df.L 232B 级 L 1≥15df.L 232如果把:df=21.L L U g 代入以上公式得:A 级:U g ≤5.71L 231 AB 级:U g ≤101L 231B 级:U g ≤151L 231从公式可以看出U g 是一个变量,它随工件透照厚度(L 2)的增加而有所增加。