优选提高络合滴定选择性的途径络合滴定方式
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浅谈提高配位滴定法的选择性与配位滴定方式摘要:本文从如何提高配位滴定法的选择性和配位滴定方式两个方面探讨了配位滴定条件的选择,希望能为广大同行的学习提高点滴帮助。
关键词:化学配位滴定法选择性方式引言配位反应具有极大的普遍性,金属离子在溶液中大多是以不同形式的配位化合物存在,但金属离子与无机配位剂形成的配位化合物多数不稳定,因此除个别反应外,大多数不能用于滴定分析。
20世纪中叶,以氨羧配位剂为代表的有机配位剂应用于滴定分析,使配位滴定迅速发展,成为广泛应用的分析方法之一。
目前最常用的氨羧配位剂是乙二胺四乙酸(EDTA).1 提高配位滴定的选择性1.1 选择性滴定的可能性判断在实际工作中,经常会遇到多种金属离子共存于同一溶液中,而EDTA可以与很多金离子形成稳定的配合物。
因此,判断能否进行分别滴定是非常有意义的。
首先讨论比较简单的情况。
设溶液中含有M、N两种金属离子,并且它们在化学计量点时的分析浓度分别为cM(sp)和cN(sp)。
若要在此条件下,准确地选择性地滴定M而不受N干扰,考虑到混合离子选择滴定的允许误差可以稍大,所以设△pM′=0.2,TE=0.3%,由林邦误差公式可得1.2 提高配位滴定选择性的方法1.2.1 应用掩蔽的方法提高配位滴定的选择性在滴定分析中,若待测离子M和干扰离子N共存,且不满足△lgcK′≥5的选择性滴定条件。
如果要选择滴定M,可先加入适当试剂与N反应,使N的浓度降低,达到△lgcK′≥5的条件后,则离子N的干扰被消除。
这种加入适当试剂降低干扰离子浓度,以提高测定选择性的方法称为掩蔽,所加入与干扰离子发生反应的试剂称为掩蔽剂。
根据掩蔽反应的类型,掩蔽法分为配位掩蔽法、沉淀掩蔽法和氧化还原掩蔽法,其中配位掩蔽法应用最多。
(1)配位掩蔽法:加入某种配位剂与干扰离子形成稳定的配合物,从而降低溶液中干扰离子浓度,达到选择性滴定M的目的,这种掩蔽法称为配位掩蔽法。
(2)沉淀掩蔽法:加入某种沉淀剂,使干扰离子生成沉淀,以降低其浓度,这种方法称为沉淀掩蔽法。