电子技术基础1.4(半导体器件)
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《电子技术基础》复习要点课程名称:《电子技术基础》适用专业:2018级电气工程及其自动化(业余)辅导教材:《电子技术基础》张志恒主编中国电力出版社复习要点第一章半导体二极管1.本征半导体❑单质半导体材料是具有4价共价键晶体结构的硅Si和锗Ge。
❑导电能力介于导体和绝缘体之间。
❑特性:光敏、热敏和掺杂特性。
❑本征半导体:纯净的、具有完整晶体结构的半导体。
在一定的温度下,本征半导体内的最重要的物理现象是本征激发(又称热激发),产生两种带电性质相反的载流子(空穴和自由电子对),温度越高,本征激发越强。
◆空穴是半导体中的一种等效+q的载流子。
空穴导电的本质是价电子依次填补本征晶体中空位,使局部显示+q电荷的空位宏观定向运动。
◆在一定的温度下,自由电子和空穴在热运动中相遇,使一对自由电子和空穴消失的现象称为复合。
当热激发和复合相等时,称为载流子处于动态平衡状态。
2.杂质半导体❑在本征半导体中掺入微量杂质形成的半导体。
体现的是半导体的掺杂特性。
◆P型半导体:在本征半导体中掺入微量的3价元素(多子是空穴,少子是电子)。
◆N型半导体:在本征半导体中掺入微量的5价元素(多子是电子,少子是空穴)。
❑杂质半导体的特性◆载流子的浓度:多子浓度决定于杂质浓度,几乎与温度无关;少子浓度是温度的敏感函数。
◆体电阻:通常把杂质半导体自身的电阻称为体电阻。
◆在半导体中,存在因电场作用产生的载流子漂移电流(与金属导电一致),还才能在因载流子浓度差而产生的扩散电流。
3.PN结❑在具有完整晶格的P型和N型半导体的物理界面附近,形成一个特殊的薄层(PN结)。
❑PN结中存在由N区指向P区的内建电场,阻止结外两区的多子的扩散,有利于少子的漂移。
❑PN结具有单向导电性:正偏导通,反偏截止,是构成半导体器件的核心元件。
◆正偏PN结(P+,N-):具有随电压指数增大的电流,硅材料约为0.6-0.8V,锗材料约为0.2-0.3V。
◆反偏PN结(P-,N+):在击穿前,只有很小的反向饱和电流Is。
《电子技术基础(张龙兴版)全套教案》之第一至五章第一章:电子技术导论1.1 电子技术的定义与发展历程1.2 电子技术的基本组成部分1.3 电子技术的主要应用领域1.4 学习电子技术的方法与意义第二章:电子元件2.1 半导体器件的基本原理与特性2.2 晶体管的结构与类型2.3 电阻、电容、电感的作用与计算2.4 常用电子元件的识别与选用第三章:基本电路分析3.1 电路的基本概念与基本定律3.2 简单电阻电路的分析与计算3.3 交流电路的分析与计算3.4 电路仿真软件的使用与实践第四章:放大电路4.1 放大电路的基本原理与类型4.2 晶体管放大电路的设计与分析4.3 放大电路的频率响应与稳定性4.4 放大电路的应用实例第五章:数字电路基础5.1 数字电路的基本概念与逻辑门5.2 组合逻辑电路的设计与分析5.3 时序逻辑电路的设计与分析5.4 数字电路仿真与实践第六章:信号与系统6.1 信号的分类与特性6.2 系统的性质与分类6.3 信号的时域分析6.4 信号的频域分析第七章:模拟电子技术7.1 模拟电路的基本概念7.2 运算放大器的基本原理与应用7.3 滤波器的设计与分析7.4 模拟信号处理实例第八章:数字信号处理8.1 数字信号处理的基本概念8.2 数字滤波器的设计与分析8.3 快速傅里叶变换(FFT)8.4 数字信号处理在实际应用中的实例第九章:电子测量技术9.1 电子测量的基本概念与方法9.2 常用电子测量仪器与仪表9.3 测量误差与数据处理9.4 电子测量实验指导第十章:电子技术实验与实践10.1 电子技术实验的基本要求与流程10.2 常用实验仪器的使用与维护10.3 经典电子技术实验介绍第十一章:通信原理基础11.1 通信系统的概述11.2 模拟通信系统11.3 数字通信系统11.4 通信系统的性能评估第十二章:微电子技术与集成电路12.1 微电子技术概述12.2 集成电路的类型与设计12.3 半导体器件的封装与测试12.4 集成电路的应用实例第十三章:电源技术与电子负载13.1 电源技术的基本概念13.2 开关电源的设计与分析13.3 电子负载的设计与应用13.4 电源系统的测试与保护第十四章:嵌入式系统与微控制器14.1 嵌入式系统的基本概念14.2 微控制器的结构与工作原理14.3 嵌入式系统的编程与开发14.4 嵌入式系统的应用实例第十五章:电子技术在现代社会中的应用15.1 电子技术在通信领域的应用15.2 电子技术在计算机领域的应用15.3 电子技术在医疗领域的应用15.4 电子技术在交通领域的应用重点和难点解析第一章:电子技术导论重点:电子技术的定义与发展历程、电子技术的主要应用领域。
第4章半导体器件习题解答习题4.1计算题4.1图所示电路的电位U Y 。
(1)U A =U B =0时。
(2)U A =E ,U B =0时。
(3)U A =U B =E 时。
解:此题所考查的是电位的概念以及二极管应用的有关知识。
假设图中二极管为理想二极管,可以看出A 、B 两点电位的相对高低影响了D A 和D B 两个二极管的导通与关断。
当A 、B 两点的电位同时为0时,D A 和D B 两个二极管的阳极和阴极(U Y )两端电位同时为0,因此均不能导通;当U A =E ,U B =0时,D A 的阳极电位为E ,阴极电位为0(接地),根据二极管的导通条件,D A 此时承受正压而导通,一旦D A 导通,则U Y >0,从而使D B 承受反压(U B =0)而截止;当U A =U B =E 时,即D A 和D B 的阳极电位为大小相同的高电位,所以两管同时导通,两个1k Ω的电阻为并联关系。
本题解答如下:(1)由于U A =U B =0,D A 和D B 均处于截止状态,所以U Y =0;(2)由U A =E ,U B =0可知,D A 导通,D B 截止,所以U Y =Ω+Ω⋅Ωk k E k 919=109E ;(3)由于U A =U B =E ,D A 和D B 同时导通,因此U Y =Ω+Ω×⋅Ω×k k E k 19292=1918E 。
4.2在题4.2图所示电路中,设VD 为理想二极管,已知输入电压u I 的波形。
试画出输出电压u O 的波形图。
题4.1图题4.2图解:此题的考查点为二极管的伏安特性以及电路的基本知识。
首先从(b)图可以看出,当二极管D 导通时,电阻为零,所以u o =u i ;当D 截止时,电第4章半导体器件习题解答阻为无穷大,相当于断路,因此u o =5V,即是说,只要判断出D导通与否,就可以判断出输出电压的波形。
要判断D 是否导通,可以以接地为参考点(电位零点),判断出D 两端电位的高低,从而得知是否导通。
场效应管是利用电场效应来控制电流的一种半导体器件,它的输出电流决定于输入电压的大小,基本上不需要信号源提供电流,所以输入电阻高,且温度稳定性好。
绝缘栅型场效应管
MOS管增强型NMOS管耗尽型NMOS管增强型PMOS管耗尽型PMOS管
1.4 绝缘栅场效应管(IGFET)
1. G 栅极D 漏极
S 源极B 衬极
SiO 2
P 型硅衬底耗尽层
N +
N +
栅极和其它电极之间是绝缘的,故称绝缘栅场效应管。
MOS
Metal oxide semiconductor
1.4.1 N 沟道增强型绝缘栅场效应管(NMOS)电路符号
D
G
S
G
D
S B
P
N +
N +
2. 工作原理
(1) U GS 对导电沟道的控制作用(U DS =0V)
当U GS ≥U GS(th)时,出现N 型导电沟道。
耗尽层
开启电压:U GS(th)
U
GS
N 型沟道
U GS 值越大沟道电阻越小。
G
D
S B
P
N +
N +
(2) U DS 对导电沟道的影响(U GS >U GS(th))
U
GS
U DD
R D
U DS 值小,U GD >U GS(th),沟道倾斜不明显,沟道电阻近似不变,I D 随U DS 线性增加。
I D U GD =U GS -U DS
当U DS 值增加使得U GD =U GS(th),沟道出现预夹断。
U DS =U GS -U GS(th)
随着U DS 增加,U GD <U GS(th),夹断区向
源区扩展;夹断后,I D =U DS /R DS ,表现为恒
流特性
1
234
U GS V
2
4
6I D /mA
3. 特性曲线
输出特性曲线:I D =f (U DS )
U GS =常数
转移特性曲线:I D =f (U GS )
U DS =常数
U GS =5V
6V 4V
3V
2V
U DS =10V
恒流区
U GS(th)
U DS /V
5
10
151
234
I D /mA
可变电阻区
截止区
U GD =U GS(th)
2
GS D DO GS(th)1U I I U ⎛⎫
=- ⎪
⎪⎝⎭
I DO 是U GS =2U GS(th)时的I D 值
I DO
U GD >U GS(th)
U GD <U GS(th)
1. 结构特点
1.4.2 N 沟道耗尽型绝缘栅场效应管G
D
S B
P
N +
N +
在SiO 2层中预埋正离子形成原始导电沟道
U
GS
夹断电压:U GS(off)<0
2. U GS 可正可负
U DD
R D
I D
电路符号
D
G S
B
3. 特性曲线(I D 参考方向为流入漏极)
2
GS
D DSS GS(off)1U I I U ⎛⎫=-
⎪ ⎪⎝
⎭
01
234
U GS /V
-3-11I D /mA U GS =0V
1V
-1V -2V -3V
U DS =10V
恒流区
U GS(off)
U DS /V 0
5
10151
2
34I D /mA 截止区
U GS =U GS(off)
-2I DSS U GD >U GS(off)
U GD <U GS(off)
1. 结构
G 栅极D 漏极
S 源极B 衬极
N 型硅衬底P +
P +
1.4.3 P 沟道绝缘栅场效应管(PMOS)增强型PMOS
D G
S
B
耗尽型PMOS
D
G
S
B
G
D
S
B
N P +
P +
2. 电源极性
(1) 增强型PMOS
U GS
U DD
R D I D
U GS(th)<0, U GS < U GS(th), U DS <0, I D <0(2) 耗尽型PMOS
G
D
S B
N P +
P +
U
GS
U DD
R D
I D
U GS(off)>0, U GS < U GS(off),U DS <0, I D <0
3. 增强型PMOS 特性曲线
01234-U GS /V
2
4
6-I D /mA
U GS =-5V
-6V -4V -3V -2V
U DS =-10V
恒流区
U GS(th)
-U DS /V 0
5
1015123
4-I D /mA
阻截止区
U GD =U GS(th)
U GS(th)<0, U GS < U GS(th , U DS <0, I D <0(实际流出漏极)
U GD >U GS(th)
U GD <U GS(th)
4. 耗尽型PMOS 特性曲线
01
234-U GS /V
-3-11-I D /mA U GS =0V
-1V
+1V +2V +3V
U DS =-10V
恒流区
U GS(off)
-U DS /V 0
5
101512
34-I D /mA
变截止区
U GD =U GS(off)
-2I
DSS U GS(off)>0, U GS < U GS(off), U DS <0, I D <0(实际流出漏极)
U GD <U GS(off)
U GD >U GS(off)
4.3.4 场效应管的参数
U GS(th)、U GS(off)、I DSS 、U (BR)GS 、U (BR)DS 、P DM 、R GS
低频跨导g m
DS D
m GS
U I g U =∆=
∆常数
I D
O
GS
I DQ
∆I D
∆U GS
U GSQ
Q
(a)
(c)
(d)例1.4.1: 根据下图中场效应管各极的电位判断其工作状态,设各场
效应管的开启电压或夹断电压的绝对值均为4V 。
8V
3V
1V
0V
8V
2V
−6V
0V
0V
3V
−20V
−2V
解:根据U GS 和U GD 的值来判断有无导电沟道以及导电沟道有无夹断。
(a) U GS(th)=4V , U GS =7V>U GS(th) 有导电沟道。
可变电阻区
U GD =5V>U GS(th) 导电沟道未夹断。
(a)
(c)
(d)例1.4.1: 根据下图中场效应管各极的电位判断其工作状态,设各场
效应管的开启电压或夹断电压的绝对值均为4V 。
8V
3V
1V
0V
8V
2V
−6V
0V
0V
3V
−20V
−2V
(b) U GS(off)=−4V , U GS =−2V>U GS(off) 有导电沟道。
可变电阻区U GD =−8V<U GS(off) 导电沟道在源极处出现了夹断。
恒流区
(a)
(c)
(d)例1.4.1: 根据下图中场效应管各极的电位判断其工作状态,设各场
效应管的开启电压或夹断电压的绝对值均为4V 。
8V
3V
1V
0V
8V
2V
−6V
0V
0V
3V
−20V
−2V
(c) U GS(th)=−4V , U GS =−6V<U GS(th) 有导电沟道。
可变电阻区U GD =−6V<U GS(th) 导电沟道未夹断。
恒流区可变电阻区
(a)
(c)
(d)例1.4.1: 根据下图中场效应管各极的电位判断其工作状态,设各场
效应管的开启电压或夹断电压的绝对值均为4V 。
8V
3V
1V
0V
8V
2V
−6V
0V
0V
3V
−20V
−2V
(d) U GS(off)=4V , U GS =5V>U GS(off) 没有形成导电沟道。
可变电阻区恒流区可变电阻区截止区。