杂质硅的原子图象和能带图 a) N型半导体 b) P型半导体
半导体 N型 P型
所掺杂质 施主杂质 受主杂质
多数载流子 (多子) 电子 空穴
少数载流子 (少子) 空穴 电子
特性
电子浓度nn≥空 穴浓度pn
电子浓度np≤空 穴浓度pp
PN结
1. PN结的形成
—— 空穴
—— 电子 —— 受主离子 —— 施主离子
Vbe
Vbc
截止 反偏 反偏, ib=ic =0,开关断开。 放大 正偏 反偏, ic = βib, 线性放大。 饱和 正偏 正偏, ib >Ibs , 开关闭合。
Vcc Vces ib I bs RC
,
Vces 0.7V
双极型三极管开关等效电路(理想情况下)
开关 闭合
当VI为高电平VIH时, T饱和
v1 VEE v B v1 R1 R1 R2
总结: 1. V1=V1L=0V 时 ,Vbe= -2V, 此时加在b-e结上的是反向电压,T可靠截止; ic=0, Vo= Vcc =VoH=5V
2. V1=V1H=5V 时 , Vbe=1.8V>VON , T导通,
是否深度饱和? V VON ib cc 0.44 mA RB
(2) 关闭时间toff 三极管从饱和到截止所需的时间。 toff = ts +tf ts :存储时间(几个参数中最长的;饱和越深越长) tf :下降时间
toff > ton 。 开关时间一般在纳秒数量级。高频应用时需考虑。 四. MOS管的开关特性(调到3.5节前讲)
§3—3 最简单的与、或、非门电路
0V 5V
D2 D 1
+VCC (+5V) R 3kΩ