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化学药品杂质谱的研究及控制化学药品的质量是保证药物疗效和安全性的重要因素，其中杂质是影响药品质量的一个重要指标。
研究和控制化学药品的杂质谱是提高药品质量的重要手段之一、本文将从杂质的概念、类型、研究方法以及控制措施等方面进行详细探讨。
研究药物的杂质谱是了解药品质量的基础性工作。
该研究工作可以通过药品的物理化学性质、质谱分析、红外光谱、核磁共振等技术手段进行。
其中，质谱分析是辨别和定量分析药物杂质的重要手段。
质谱技术通过对样品中的分子进行加热裂解或电离，然后对产生的离子进行质量-电荷比的分析，可以得到杂质的质谱图谱信息，从而确定其结构和含量等特征。
质谱分析技术主要包括质谱仪、质谱数据分析系统和质谱数据库等。
质谱仪主要有质量分析仪、离子阱质谱以及飞行时间质谱等，其中质量分析仪和离子阱质谱在药物杂质分析中应用较为广泛。
杂质的控制措施主要包括以下几个方面：一是优化合成工艺，减少杂质生成的机会。
合成过程中需要选择适当的原料和辅料，高效地控制反应条件，避免副反应的发生。
二是加强工艺研究，确保产物的纯度和杂质水平。
特别是要关注易生成的杂质，制定合理的探测方法。
三是改进贮存和包装条件，及时清除药品中的氧和水分等引发药品降解和产生杂质的因素。
四是建立完整的质保体系，强调杂质控制的重要性，制定严格的质量标准，落实质量管理的责任制。
五是加强检测手段的研究，提高杂质分析的准确性和灵敏度。
总之，研究和控制化学药品的杂质谱是提高药品质量的重要手段之一、减少杂质的产生和控制杂质水平对于保证药品的疗效和安全性有着重要的意义。
在药物研发的不同阶段都应该重视杂质的研究，并制定相应的控制措施，为合理使用和临床应用提供高质量的药物。
150ECOLOGY 区域治理作者简介：雷 燕，生于1987年，本科，研究方向为实验测试，食品检验检测。
气相色谱法测定DIANP 纯度标准物质中有机杂质分析江西省地质矿产勘查开发局九一二大队 雷燕摘要：本文主要使用方法为气相色谱法。
经试验，完成对1,5-二叠氮基-3-硝基氮杂戊烷（DIANP）的测定，在纯度标准物质中，可有效检测出相关杂质，即DCM、DMSO、1-羟基-5-叠氮基-3-硝基-3-氮杂戊烷。
其中，溶剂使用样品THF，通过有效溶解，并采取气相色谱法，予以升温分离，以外标法内容作为参考，实现定量。
总体而言，使用气相色谱法，操作相对简单，并且测定速度较快，可有效实现DIANP杂质检测。
关键词：气相色谱法；DIANP；有机杂质中图分类号：TL271+.4文献标识码：A文章编号：2096-4595（2020）35-0150-0001DIANP 多见于双基发射药中，还可以将其应用在高能液推进剂中，有十分显著的应用效果，并且通过与C3H5N3O9相组合，在混合增塑剂作用下，可使发射药物温度降低，促进其低温力学强度。
同时，当发射药中含有DIANP ，在低烧蚀、高燃速方面具有明显优势，具有良好的化学安定性。
但是在研发该类药物过程中，通过传递标准药物，才能够确定DIANP 含量，但是一些杂质的出现，将会对传递工作造成影响。
因此，需要对其展开有效分析。
一、实验在本文实验中，主要取用气相色谱仪作为实验仪器。
DCM、DMSO 来源于分析纯，经有效手段，自制99%纯度以上的1-羟基-5-叠氮基-3-硝基-3-氮杂戊烷。
在色谱纯中，选择THF 。
在色谱条件中，主要使用设备为毛细管气相色谱柱，完成相应的参数设置，涉及参数包括：在温度方面，进样器、检测器分别设置为250℃、260℃。
合理控制柱箱温度，当处于初始温度阶段，应将温度控制在100℃，在停留该温度6min 后，保持30℃/min ，逐步作升温处理，最终温度要求达到220℃，并继续停留10min 。
如何做好化学合成原料药的杂质谱分析摘要：药物杂质与药物的临床使用安全性、药品的稳定性密切相关。
因此，对药物的杂质进行充分的研究和控制，是确保药品安全性的必要环节。
对原料药中的杂质进行研究，对保证原料药的质量至关重要。
本文对如何做好化学合成原料药的杂质谱分析进行了探讨。
关键词：化学合成原料药；杂质谱；分析中国的原料药处于世界领先的地位，虽然原料药不是药，但是他却是保证制剂质量的重要前提之一。
药物杂质与药物的临床使用安全性、药品的稳定性密切相关。
因此，对药物的杂质进行充分的研究和控制，是确保药品安全性的必要环节。
对原料药中的杂质进行研究，对保证原料药的质量至关重要。
一、药品杂质概述杂质是指药物在生产或贮藏过程中引入的，无治疗作用或影响药物的稳定性和疗效，甚至对人健康有害的物质。
杂质谱（Impurity Profile）是药品中有机杂质、副产物、聚合物、异构体、多晶型杂质、无机杂质（阴离子、阳离子、金属催化剂、过滤介质、活性炭）、有机挥发性化合物（各种溶剂）、其他杂质、外来物质的总称。
药品在临床使用中产生的不良反应除了与药品本身的药理活性有关外，有时与药品中存在的杂质也有很大关系。
例如，青霉素等抗生素中的多聚物等高分子杂质是引起过敏的主要原因。
杂质作为药物的一项关键质量属性，是研发工作的一项重要研究内容。
按杂质的化学类别和特性，可分为有机杂质、无机杂质、有机挥发性杂质。
杂质谱分析是对药品中各种可能存在的杂质的概貌掌握，通过全面的杂质谱分析，可指引药品制备工艺的开发和优化、质量控制策略的制定；可使杂质检查工作有的放矢，根据不同杂质的特性来针对性的建立检查方法，有助于检查方法的建立和验证。
杂质影响药品安全，尤其是高毒性杂质，必须对杂质进行充分的研究和控制。
杂质充分研究，是以杂质谱为基础，针对工艺中的每个杂质，以科学合理的理论基础来进行风险评估，针对评估结果，再进一步进行研究。
杂质谱是杂质的总档案。
有经验的合成研发人员，只要看到路线，可能就知道终产品中可能最会产生哪些杂质，这凭的是对工艺深刻认知的基础上，知道其中的风险，能够很快的做出评估，尤其是经过对工艺详细的考察和优化之后，对于风险认识的更加深刻。
3.2.P.5.5杂质谱分析模板的整理格式模板首先列出产品的杂志谱列表，比如：****产品杂质情况分析表反应过程的描述：1、详细的反应方程式，包括结构式，反应温度，所有试剂，助剂，溶剂，催化剂等。
2、结合CTD资料的其他部分，对物料控制进行说明，包括起始物料、其他原料、溶剂、辅料（活性炭，硅藻土，硅胶等。
）。
3、起始物料说明。
起始物料符合广泛、易得、质量稳定，适合保存运输等的原则；还应对多个供应商提供的多批次物料进行质量研究，同供应商签署的质量协议以及供应商工艺变更告知义务等协议。
比如头孢克洛，要对起始物料7-ACCA的工艺、杂质控制和质量情况进行详细的说明。
4、说明制定起始物料的质量控制策略的依据，比如头孢克洛的起始物料7-ACCA的关键杂质△异构体，结合工艺和实验数据，说明杂质产生来源，分布，控制策略等。
第2、3、4内容可以在CTD的其他部分，比如物料说明部分进行。
但是本部分内容讨论的展开需要物料控制说明作为基本的理论依据。
5、关于ICH的杂质鉴定、报告和质控限度：主要参考ICHQ3A（R2）到ICHQ3D的相关规定2 克/天结合上述反应过程对杂质谱进行分析，主要分起始物料引入杂质，反应杂质，降解杂质等。
第一部分：起始物料引入的杂质分析（比如头孢克洛的起始物料7-ACCA 引入的杂质）N SOH OONO 2OH N OC 22H 19N 3O 7S MW: 469.47NON OH SOOK C 16H 17KN 2O 4S MW: 372.48Br2+NON OH SOONO 2C 23H 23N 3O 6S MW: 469.51C 7H 6BrNO 2MW: 216.03PAA22N OH NOH S OONO 2OC 23H 23N O S MW: 485.51TMP toluene N S NH HOOO23H 21N 3O 5S N S N H HOH OO2OC 22H 19N 3O 6S MW: 453.47CH 2Cl 2/CH 3OHO 3, TMPCH 2Cl 2/TEBAC TsClmorpholineN S N HHN OONO 2OOC 26H 26N 4O 6S MW: 522.571) Br 2-pyrindineCH 2Cl 2N SCl OO2O2NC 14H 1235MW: 406.00HClHCl 1) (PhO)3P/CH 2Cl 22) N,N-dimethyl aniline, PCl 5 i BuOHNa 2S 2O 42N SOHOCl OH 2NH C 7H 7ClN 2O 3S MW: 234.661、 无机杂质：说明引入情况和消除渠道；以及相关的控制方法和标准以及依据。
3.2.P.5.5杂质谱分析模板的整理格式模板首先列出产品的杂志谱列表，比如：****产品杂质情况分析表反应过程的描述：1、详细的反应方程式，包括结构式，反应温度，所有试剂，助剂，溶剂，催化剂等。
2、结合CTD资料的其他部分，对物料控制进行说明，包括起始物料、其他原料、溶剂、辅料（活性炭，硅藻土，硅胶等。
）。
3、起始物料说明。
起始物料符合广泛、易得、质量稳定，适合保存运输等的原则；还应对多个供应商提供的多批次物料进行质量研究，同供应商签署的质量协议以及供应商工艺变更告知义务等协议。
比如头孢克洛，要对起始物料7-ACCA的工艺、杂质控制和质量情况进行详细的说明。
4、说明制定起始物料的质量控制策略的依据，比如头孢克洛的起始物料7-ACCA的关键杂质△异构体，结合工艺和实验数据，说明杂质产生来源，分布，控制策略等。
第2、3、4内容可以在CTD的其他部分，比如物料说明部分进行。
但是本部分内容讨论的展开需要物料控制说明作为基本的理论依据。
5、关于ICH的杂质鉴定、报告和质控限度：主要参考ICHQ3A（R2）到ICHQ3D的相关规定结合上述反应过程对杂质谱进行分析，主要分起始物料引入杂质，反应杂质，降解杂质等。
第一部分：起始物料引入的杂质分析（比如头孢克洛的起始物料7-ACCA 引入的杂质）N SOH OONO OH N OC H N O S MW: 469.47NON OH SOOK C H KN O S MW: 372.48BrNO +NON OH SOONO C H N O S MW: 469.51C H BrNO MW: 216.03N OH NOH S OONO OC H N O S MW: 485.51TMP toluene N S NH HOOOH N O S N S N H HOH OOOC H N O S MW: 453.47CH Cl /TEBAC TsClmorpholineN S N HHN OONO OOC H N O S MW: 522.571) Br -pyrindineCH Cl N SCl OOONC H MW: 406.00HClHCl 1) (PhO)P/CH Cl 2) N,N-dimethyl aniline, PCl i BuOHNa S O N SOHOCl OH NH C H ClN O S MW: 234.661、 无机杂质：说明引入情况和消除渠道；以及相关的控制方法和标准以及依据。
药品杂质谱判断标准药品杂质谱的判断标准是根据药品的质量标准和相关的法规要求来确定的。
以下是一些基本的判断标准：1. 质量标准规定：药品生产厂商需要遵守国家或国际药品监管机构发布的质量标准。
这些标准通常详细说明了药品中允许存在的杂质种类和数量上限。
例如，中国药典、美国药典（USP）、欧洲药典（EP）等都有对药品杂质的具体规定。
2. 杂质种类：药品杂质可以分为多种类型，包括工艺杂质（如未反应完全的反应物、中间体、副产物等）、降解产物（如因存储条件不当或时间延长而产生的）、残留溶剂（如有机溶剂等）等。
不同类型的杂质可能有着不同的限值要求。
3. 毒性分类：杂质按照其毒性可以被分为毒性杂质和普通杂质。
毒性杂质可能会对人体健康造成严重影响，因此其限值通常要严格控制。
4. 来源分析：判断杂质来源是制定控制策略的基础。
通过对生产工艺、起始物料、中间体和副产物的分析，可以初步预测产品的杂质谱，并制定相应的控制措施。
5. 检测方法：有效的杂质检测方法也是判断标准的一部分。
常用的检测方法包括高效液相色谱法（HPLC）、气相色谱法（GC）、质谱法（MS）等。
这些方法的灵敏度和精确度直接影响到杂质谱的准确判断。
6. 风险评估：对杂质进行风险评估是重要的判断依据。
评估包括分析杂质的可能性、毒性、暴露量以及对药品疗效和安全性可能产生的影响。
7. 控制策略：根据杂质的判断结果，制定相应的控制策略，包括工艺改进、杂质去除步骤的优化、质量控制点的设置等。
8. 持续监控：药品生产过程中需要持续监控杂质的生成和控制效果，确保药品质量始终符合标准要求。
综上所述，药品杂质谱的判断标准是一个综合考量药品质量、安全性、有效性以及生产过程的复杂性等多个因素的体系。
药品生产厂商必须遵循严格的质量控制流程，确保其产品符合所有相关的标准和法规要求。
格式模板首先列出产品的杂志谱列表，比如：****产品杂质情况分析表1、详细的反应方程式，包括结构式，反应温度，所有试剂，助剂，溶剂，催化剂等。
2、结合CTD资料的其他部分，对物料控制进行说明，包括起始物料、其他原料、溶剂、辅料（活性炭，硅藻土，硅胶等。
）。
3、起始物料说明。
起始物料符合广泛、易得、质量稳定，适合保存运输等的原则；还应对多个供应商提供的多批次物料进行质量研究，同供应商签署的质量协议以及供应商工艺变更告知义务等协议。
比如头孢克洛，要对起始物料7-ACCA的工艺、杂质控制和质量情况进行详细的说明。
4、说明制定起始物料的质量控制策略的依据，比如头孢克洛的起始物料7-ACCA的关键杂质△异构体，结合工艺和实验数据，说明杂质产生来源，分布，控制策略等。
第2、3、4内容可以在CTD的其他部分，比如物料说明部分进行。
但是本部分内容讨论的展开需要物料控制说明作为基本的理论依据。
5、关于ICH的杂质鉴定、报告和质控限度：主要参考ICHQ3A（R2）到ICHQ3D的相关规定杂质，降解杂质等。
第一部分：起始物料引入的杂质分析（比如头孢克洛的起始物料7-ACCA引入的杂质）1、无机杂质：说明引入情况和消除渠道；以及相关的控制方法和标准以及依据。
比如上述列表中的钯元素控制。
2、普通有机杂质。
3、对映异构体（根据品种的情况具体分析）；考察不同的对应异构体对最终产品质量的影响情况。
4、非对映异构体：比如ACCA的△异构体；还包括非对应异构体自身的各种对映体。
第二部分：反应的每个步骤引入的杂质：需要结合实际反应监控（HPLC，LC-MS为主）过程对杂质消除过程以及对后续的影响进行实际说明。
这个内容主要在工艺描述部分进行，本部分引用工艺描述内容。
1、步骤1引入的杂质。
2、步骤2引入的杂质。
3、步骤3引入的杂质。
以及后续的步骤产生的杂质以及消除过程和简单的控制描述……4、精制过程引入的杂质。
第三部分：结合小试中试数据汇总列表、方法适用性、实际检测结果等内容说明各个有机杂质的分布情况。
杂质谱研究策略
杂质谱研究策略一般包括以下几个方面：
1. 采集样品：选择适当的样品进行研究，确保样品的纯度和可重复性。
2. 谱图解析：根据杂质谱图的各个峰的强度、相对分子质量等信息，结合已知化合物或者数据库的信息，进行谱图解析，确定杂质的结构。
3. 杂质定性：通过谱图解析，确定杂质的结构，并进行杂质的定性分析，即确定杂质的分子式和化合物种类。
4. 杂质定量：根据谱图中峰的强度，利用内标法或者外标法等方法，进行杂质的定量分析，确定杂质的含量。
5. 杂质来源分析：通过杂质谱研究，结合样品制备和贮存等过程中的条件，分析杂质的可能来源，确定杂质的形成机制。
6. 控制策略：根据杂质研究的结果，制定相应的控制策略，改进制备过程，降低杂质的形成和含量，确保产品的质量。
综上所述，杂质谱研究策略主要涉及样品采集、谱图解析、杂质定性、杂质定量、杂质来源分析和控制策略等方面，能够帮助人们理解杂质的结构、含量和来源，并制定相应的控制措施。
P杂质谱分析的
集团文件版本号：（M928-T898-M248-WU2669-I2896-DQ586-M1988）
格式模板首先列出产品的杂志谱列表，比如：****产品杂质情况分析表
1、详细的反应方程式，包括结构式，反应温度，所有试剂，助剂，溶
剂，催化剂等。
2、结合CTD资料的其他部分，对物料控制进行说明，包括起始物料、
其他原料、溶剂、辅料（活性炭，硅藻土，硅胶等。
）。
3、起始物料说明。
起始物料符合广泛、易得、质量稳定，适合保存运
输等的原则；还应对多个供应商提供的多批次物料进行质量研究，同供应商签署的质量协议以及供应商工艺变更告知义务等协议。
比如头孢克洛，要对起始物料7-ACCA的工艺、杂质控制和质量情况
进行详细的说明。
4、说明制定起始物料的质量控制策略的依据，比如头孢克洛的起始物
料7-ACCA的关键杂质△异构体，结合工艺和实验数据，说明杂质
产生来源，分布，控制策略等。
第2、3、4内容可以在CTD的其他部分，比如物料说明部分进行。
但是本部分内容讨论的展开需要物料控制说明作为基本的理论依据。
5、关于ICH的杂质鉴定、报告和质控限度：主要参考ICHQ3A（R2）
到ICHQ3D的相关规定
杂质，降解杂质等。
第一部分：起始物料引入的杂质分析（比如头孢克洛的起始物料7-ACCA 引入的杂质）
1、无机杂质：说明引入情况和消除渠道；以及相关的控制方法和标准
以及依据。
比如上述列表中的钯元素控制。
2、普通有机杂质。
3、对映异构体（根据品种的情况具体分析）；考察不同的对应异构体
对最终产品质量的影响情况。
4、非对映异构体：比如ACCA的△异构体；还包括非对应异构体自身
的各种对映体。
第二部分：反应的每个步骤引入的杂质：需要结合实际反应监控（HPLC，LC-MS为主）过程对杂质消除过程以及对后续的影响进行实际说明。
这个内容主要在工艺描述部分进行，本部分引用工艺描述内容。
1、步骤1引入的杂质。
2、步骤2引入的杂质。
3、步骤3引入的杂质。
以及后续的步骤产生的杂质以及消除过程和简
单的控制描述……
4、精制过程引入的杂质。
第三部分：结合小试中试数据汇总列表、方法适用性、实际检测结果等内容说明各个有机杂质的分布情况。
列表数据进行对比性说明。
第六部分：制剂中的特定杂质：主要分析制剂与原料药储存过程中降解产生的杂质，以及因为辅料和原料药相容性而产生的特定杂质：比如纤维素类的曼德拉反应产生的杂质等。
储存降解产生的杂质包括酸碱氧热光降解杂质，空气中水分造成的水解杂质，或者跟空气中二氧化碳反应产生的杂质。
1.说明各杂质的限度：
****杂质阈值（举例）
2..5.1潜在杂质的推测
由****公司提供**原料药简单工艺路线，分析整理本品的杂质见下表。
表** ，-------------潜在杂质推测
3.潜在杂质特征的鉴定
a)原料合成过程带入的相关杂质特征的鉴定
由厂家提供的原料药合成过程中所用的起始原料及各步中间产物的色谱行为和紫外光谱特征进行汇总分析，初步鉴定注射用头孢地嗪钠成品中原料合成过程中带入的杂质。
起始原料及各步中间产物鉴定特征如下表：
表-X ****原料合成过程相关杂质特征鉴定
b)注射用头孢地嗪钠强制降解试验中杂质的特征鉴定
试品与对照品强制降解试验
表** 热破坏试验主要降解产物色谱信息
表-50 酸破坏试验主要降解产物色谱信息
表-52 氧化破坏试验主要降解产物色谱信息
表-53 光照破坏试验主要降解产物
4.
a)以列表的方式列明产品中可能含有的杂质，分析杂质的产生来
源，结合相关指导原则要求，对于已知杂质给出化学结构并提供结构确证资料，并提供控制限度。
杂质的结构和种类的鉴定在其他模块或者附件中体现。
按照以前惯例，自制杂质的结构确认是通过工艺描述加氢谱确认即可，
特殊的需要提供其他佐证手段。
外购杂质的结构确认一般是要提
供完整的结构鉴定谱图。
b)说明各杂质在最终质量标准中是否进行控制以及控制的限度，并
提供充分的依据。
报告阈值是指所有高于此阈值的杂质及其含量均应在每批产品的检验报告中记录,并在申报资料中反映;鉴定阈值是指所有高于此阈值的杂质均应对其结构进行确证;合理限度是指只要质量标准中制订的杂质限度不高于此限度，就不需要提供该限度的制订依据,认为该限度是合理的。
c)提供详细的降解途径与降解产物研究资料与图谱。
应在对原料药
的降解途径与降解产物有充分了解的基础上，进行系统的降解途径与降解产物研究，明确说明本品的降解途径与降解产物
5.对比自制制剂片和原料药杂质谱以及纯度数据,
6.
7.
谱变化、图谱以及纯度数据。
*************************************************************** ******************************************
附件1：
《CTD申报资料中杂质研究的几个问题》这篇需要我们认真研究一下：下面做了简单的抄录。
（）
杂志谱研究需要以杂质谱分析为主线，安全性为核心，按照风险控制的策略，将杂质研究与CMC各项研究，乃至药理毒理及临床安全性研究等环节关联思考、综合考虑，而不仅仅拘泥于提供准确分析数据的传统思维，不是一项孤立的分析工作。
1、杂质控制要做到源头控制、过程控制与终点控制相结合的杂质控制理念：
CTD格式中杂质控制的考虑要体现在CMC的各个环节，而不是仅仅局限在“质量控制”模块。
比如原辅料首先要满足制剂质量要求；关键工艺步骤及参数的确立、工艺开发过程等要考虑以杂质是否得到有效控制为重点关注。
制剂相关特性中要体现与原研产品杂质谱等的对比情况；包材、贮藏条件以及有效期的确立等也要以杂质是否处于安全合理的可控范围内为核心。
2、关注杂质分析与控制的系统性与整体性，不能割裂各项内容的必然联系和有机统一：
，但杂质研究又是一项系统工程，具有统一的整体性。
因此，不要因为申报资料格式的模块化而人为割裂各项研究内容的相互联系。
3、从杂质谱分析入手确立科学的杂质研究基本思路。
杂质谱包括药物中所有杂质的种类、来源及特性等信息。
有针对性地选择合适的杂质分析方法，以确保杂质的有效检出和确认；通过与原研产品杂质谱的对比研究，根据各相应杂质的一致性求证，或跟踪杂质谱对安全性试验或临床试验结果产生的影响，评估各杂质的安全性风险和可接受水平；结合规模化生产时杂质谱的变化情况，确立安全合理的杂质控制水平。
4、分析方法的验证应具备针对性和全面性。
5、杂质限度的确定应符合相关技术指导原则的要求。
在分析方法相同的情况下，各特定杂质应不超过同品种或同类品种法定标准的相应限度；非特定杂质应采用LC/UV、LC/MS、PDA等多种方法与原研产品或ICH 成员国产品进行杂质比较，说明各杂质与原研产品的一致性，相同杂质限度可参考ChP、USP、BP/EP、JP等药典同品种最严格的单个杂质限度确定。
附件2：引用的5.30文件的要求：
化学仿制药电子通用技术文档申报指导原则（征求意见稿）
A.以列表的方式列明产品中可能含有的杂质，分析杂质的产生来源，结
合相关指导原则要求，对于已知杂质给出化学结构并提供结构确证资料，并提供控制限度
B.说明各杂质在最终质量标准中是否进行控制以及控制的限度，并提供
充分的依据。
C.提供详细的降解途径与降解产物研究资料与图谱。
应在对原料药的降
解途径与降解产物有充分了解的基础上，进行系统的降解途径与降解产物研究，明确说明本品的降解途径与降解产物
化学药品新注册分类申报资料要求（试行）-4类
A.以列表的方式列明产品中可能含有的杂质，分析杂质的产生来源，结
合相关指导原则要求，对于已知杂质给出化学结构并提供结构确证资料，并提供控制限度。
可以表格形式整理
B.说明各杂质在最终质量标准中是否进行控制以及控制的限度，并提供
充分的依据。
C.提供详细的降解途径与降解产物研究资料与图谱。
应在对原料药的降
解途径与降解产物有充分了解的基础上，进行系统的降解途径与降解产物研究，明确说明本品的降解途径与降解产物
化学药品新注册分类申报资料要求（试行）-3类
A.以列表的方式列明产品中可能含有的杂质，分析杂质的产生来源，结
合相关指导原则要求，对于已知杂质给出化学结构并提供结构确证资料，并提供控制限度。
B.对于最终质量标准中是否进行控制以及控制的限度，应提供依据。
