1.3半导体中平衡状态载流子统计分布5(精)
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第三章 半导体中载流子的统计分布第三章 Part 1 3.1 状态密度 3.2 3 2 费米能级和载流子的统计规律 3.3 电子和空穴浓度的一般表达式 电子和空穴浓度的 般表达式 3.4 本征半导体的载流子浓度 3.5 杂质半导体的载流子浓度 3.6 杂质补偿半导体 3.7 3 7 简并半导体3.1 状态密度状态密度g(E)dZ(E) g( E ) = dE表示在能带中能量E附近单位能量间隔内的量子态数。
dZ 为E到E+dE内的量子态数 计算状态密度的方法:1、k空间的量子态密度 1 k空间的量子态密度 2、dZ或Z(E)dZ=k空间量子态密度×能量间隔对应的k空间体积 Z(E)=k空间量子态密度×能量为E的等能面在k空间的体积一、导带底附近的状态密度1、k空间的量子态密度对于边长为L的立方晶体,波矢 对于边长为L的立方晶体 波矢 k 的三个分量为 的三个分量为: n n n 即( k x = x , = y , z = z ) k ky k x ,k y ,k z L L L 其中 n x , n y , n z 取 0,±1,±2… 每 个代表点都与体积为 每一个代表点都与体积为 1 = 1 的一个小 的 个小 L3 V 立方体相联系 即 k 空间中,电子的状态密度是V 若考虑电子的自旋,量子态密度是2V。
若考虑电子的自旋 量子态密度是2V一、导带底附近的状态密度2、求dZ或Z 2 dZ Z①等能面为球面:1 h2k 2 假设导带底在k=0,即 E (k ) = EC + * 2 mn以k 为半径的球面对应E,以 k + d k 为半径的球面对应E+dEdZ = 2V × 4πk dk2由 E - k 关系可解得 关系可解得:(2m ) ( E - EC ) k= h2∗ n112m dE kdk = 2 h∗ n一、导带底附近的状态密度得到(2m ) dZ = 4π V ( E - EC ) dE h1 23 ∗ 2 n 3所以(2m ) g ( E ) = 4π V ( E - EC ) h3 ∗ 2 n 31 2一、导带底附近的状态密度②实际材料: 对于Si、Ge来说,在导带底附近等能面为旋转椭球面 假设有S个能谷,在每个能谷附近:2 2 ⎡ k x + k y k z2 ⎤ h E( k ) = Ec + + ⎢ ⎥ 2 ⎣ mt ml ⎦ 2将上式变形2 kx2mt ( E − Ec ) h2态数为+2 ky2mt ( E − Ec ) h2+k z2 2ml ( E − Ec ) h2=1能量为E的等能面在k空间所围成的s个旋转椭球体积内的量子4 2 mt ( E − Ec ) [2 ml ( E − Ec )]1 2 Z ( E ) = 2Vs π 3 h2 h一、导带底附近的状态密度则导带底(附近)状态密度为(8s m ml ) dZ ( E ) gC ( E ) = = 4π V dE h2 2 t 312⋅ ( E − Ec)12* mn = mdn = ( s 2 mt2 ml )1 3 令 ,称 m 为导带底电子状态密度 dn有效质量,则 有效质量 则(2m ) dZ d (E) = 4π V gC ( E ) = dE h* 32 n 3( E − Ec)12二、价带顶的状态密度①等能面为球面: ①等能面为球面h2k 2 E (k ) = Ev 2m* pg v ( E ) = 4π V ⋅(2 m * ) 3 2 p h3( Ev - E )1 2②实际材料: 价带顶在 价带顶在k=0,而且重空穴带 (mp)h和轻空穴带 (mp)l在布里渊区 而 空穴带 ( ( 在布 渊区 的中心处重合。
第四章 半导体中载流子的统计分布前章已讲过,完整半导体中的电子能级构成能带,有杂质和缺陷的半导体,在禁带中存在局域化能级。
实验证明,半导体的导电性强烈地随温度和杂质含量变化。
这主要是因为半导体中的载流子数目对温度和杂质是非常敏感的。
本章讨论热平衡情况下,载流子在各种能级上的分布,计算导带电子和价带空穴的密度,分析它们与半导体中杂质含量及温度的关系。
§ 4-1 状态密度大家已知道,在周期性势场中运动的电子,其波函数为布洛赫函数。
对于一个确定的能级,电子的运动状态可用一个波矢k 来标志。
在周期性边界条件限制下,波矢k 只能取一系列间断值,这些允许的k 在倒空间是均匀分布的,其密度为3)2(πV 。
考虑到电子自旋的两种取向后,在倒空间单位体积内电子的状态数(即密度)为3)2(2πV (4-1) 式中,V 是晶体的体积。
上式为一个普适公式,对任何晶体都适用。
在讨论具体问题时,通常使用以能量为尺度的状态密度N (E ),其定义为单位晶体体积、单位能量间隔中的状态数。
对于半导体来说,导带中的电子一般集中在导带底附近的状态中,而价带中的空穴一般集中在价带顶附近的状态中。
因此,只需考虑导带底和价带顶附近的情况。
一.导带状态密度)(E N cGe 、Si 是最重要的半导体,它们的导带都属于多能谷情况。
设想导带有M个彼此对称的能谷,在每个能谷处,能量作为k 的函数可表示为)(23232221212m k m k m k E E c ∆+∆++∆+= (4-2) 式中,min E E c =为导带底能量,i i i k k k 0-=∆(i=1,2,3)为导带底附近的波矢k 与导带底处波矢0k 的坐标分量之差。
在k 空间中,由能量相等的波矢k 所构成的曲面称等能面。
因此,(4-2)式表示,在半导体的导带底附近,等能面为椭球面。
椭球中心在能量极小处,相应的能量为导带底E c 。
式中的m 1,m 2和m 3为沿椭球主轴方向上的有效质量分量。