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the appearance evaluation, friction and firmness of the coating, in which PEG200DA : PVPK90 = 35 : 65, Irgacure2959 was 2 wt% of the coating and the concentration was 6.5 wt%.The coefficient of friction (0.0075) of the surface of the guide wire modified by hydrophilic coating decreased by 98% compared with that (0.375) of unmodified guide wire, showing excellent lubricity. Finally, the appearance, structure, contact angle, water absorption, precipitation of PVPK90 and microparticle test of this hydrophilic coating were carried out.Key Words：Surface Modification of Polyurethane; Hydrophilic Coating; Lubricity; Firmness- III -目录摘要 (I)Abstract (II)引言 (1)1 文献综述 (2)1.1 介入医疗器械 (2)1.1.1 介入治疗 (2)1.1.2 介入导丝 (3)1.2 聚氨酯材料的特征 (3)1.2.1 疏水特性 (3)1.2.2 结构特征 (4)1.3 亲水超滑涂层 (4)1.3.1 亲水超滑涂层的定义 (4)1.3.2 亲水超滑涂层的由来 (4)1.3.3 亲水涂层常用的聚合物 (4)1.3.4 亲水超滑涂层的制备方法 (6)1.4 紫外固化技术 (8)1.4.1 紫外固化技术的优点 (8)1.4.2 紫外光引发剂 (9)1.4.3 紫外聚合单体 (10)1.5 立题依据及意义 (10)1.6 课题研究内容及目的 (11)1.6.1 整体规划 (11)1.6.2 底层实验内容及目的 (11)1.6.3 面层实验内容及目的 (12)2 底层制备与表征 (13)2.1 PUA的合成及过程控制方法 (13)2.1.1 实验原料 (13)2.1.2 合成步骤 (13)2.1.3 过程控制方法 (14)- IV -2.2 PUA合成工艺的确定 (16)2.2.1 第一步反应温度、时间的确定 (16)2.2.2 第二步反应温度、时间的确定 (18)2.3 PUA 结构表征与结果分析 (18)2.3.1 PUA的红外表征 (18)2.3.2 PUA的DSC表征 (19)2.3.3 PUA的TGA表征 (20)2.4 底层涂料和涂膜的制备 (20)2.4.1 底层涂料的制备 (20)2.4.2 涂膜的制备 (21)2.5 底层涂料配方的确定 (21)2.5.1 光引发剂含量的确定 (21)2.5.2 PEG200DA含量的确定 (22)2.6 固化膜的表征分析 (26)2.6.1 固化膜的红外表征 (26)2.6.2 固化膜的DMA表征 (27)2.6.3 固化膜的TGA表征 (27)2.7 本章小结 (28)3 面层制备与表征 (29)3.1 实验原料与仪器 (29)3.2 PEG4000DA的合成 (30)3.2.1 合成原料 (30)3.2.2 合成方法 (30)3.2.3 表征分析 (31)3.3 面层涂料配方和涂层工艺的确定 (32)3.3.1 面层涂料的配制 (32)3.3.2 涂层的制备 (32)3.3.3 涂料配方筛选方法 (33)3.3.4 聚乙二醇二丙烯酸酯分子量对涂层性能的影响 (34)3.3.5 聚乙烯吡咯烷酮分子量对涂层润滑性和牢固度的影响 (35)3.3.6 单体配比对涂层润滑性和牢固度的影响 (36)3.3.7 浓度对涂层润滑性和牢固度的影响 (40)- V -3.3.8 固化时间对涂层润滑性和牢固度的影响 (42)3.4 本章小结 (45)4 亲水涂层的性能表征与测试 (46)4.1 亲水涂层的外观表征 (46)4.2 亲水涂层的结构分析 (46)4.3 亲水涂层的接触角测试 (47)4.4 亲水涂层的附着量和吸水率测试 (48)4.5 亲水涂层的PVPK90析出测试 (49)4.6 亲水涂层的微粒测试 (50)4.7 本章小结 (51)结论 (52)参考文献 (53)攻读硕士学位期间发表学术论文情况 (56)致谢 (57) (58)- VI -引言介入治疗手术是微创医学领域的新技术，已经形成了与外科、内科并列的三大临床医学之一，而影像设备和介入器械是介入医学的支柱[1]。
芯片超纯水设备的工艺流程与优点2020年3月25日芯片超纯水设备是根据用户的特殊需求设计生产的新型水处理设备。
主要采用的是将电渗析与离子交换有机结合的技术，可以有效的去除污染物以及深度除盐。
同时可以根据实际用量，调整设备的出水量，避免造成不必要的浪费。
芯片超纯水设备工艺流程1、采用离子交换方式，其流程如下：原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性碳过滤器→软水器→精密过滤器→阳树脂过滤床→阴树脂过滤床→阴阳树脂混床→微孔过滤器→用水点2、采用两级反渗透方式，其流程如下：原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性碳过滤器→软水器→精密过滤器→第一级反渗透→PH调节→中间水箱→第二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点3、采用EDI方式，其流程如下：原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性碳过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点芯片超纯水设备优点1、无需酸碱再生：在混床中树脂需要用化学药品酸碱再生，而EDI则消除了这些有害物质的处理和繁重的工作。
保护了环境。
2、连续、简单的操作：在混床中由于每次再生和水质量的变化，使操作过程变得复杂，而EDI的产水过程是稳定的连续的，产水水质是恒定的，没有复杂的操作程序，操作大大简便化。
3、降低了安装的要求：EDI系统与相当处理水量的混床相比，有较小的体积，它采用积木式结构，可依据场地的高度灵活的构造。
模块化的设计，使EDI在生产工作时能方便维护。
芯片超纯水设备运行稳定、自动化控制、运行成本低、出水水质符合国家水质标准。
以上为大家介绍的就是芯片超纯水设备的工艺流程与优点，希望对大家有帮助。
临床医学工程Clinical Medical Engineering在介入治疗中，导丝应具备良好的生物相容性，而亲水涂层润滑性可以有效提高导丝表面生物相容性[1~5]。
本文以利用紫外光接枝固化方法对医用导丝进行亲水改性，并对性能进行表征。
1.实验材料与方法1.1材料与仪器导丝、底层溶液、面层溶液、75%医用酒精、蒸馏水；XP504DR分析天平；PS-100T超声波清洗机；紫外线固化机；SL200C2全自动接触角仪；752紫外可见分光光度计；紫葳科试验机。
1.2实验方法将导丝放入酒精中超声20min后干燥待用；将导丝浸到底层溶液3s后以20mm/min提拉后固化60s；底层固化完毕后再浸面层溶液3s后以20mm/min速度提拉后固化100s。
1.3导丝水接触角测试1.3.1改性前水接触角测试通过液滴法测量导丝表面接触角，通过水接触角对导丝表面亲水性进行表征[6~7]。
1.3.2改性后水接触角测试将改性后导丝浸泡于蒸馏水中，用接触角测量仪分别测量浸泡不同时间后导丝表面接触角变化情况。
1.4导丝涂层附着性测试1.4.1制备PVP标准吸收曲线将干燥后的PVP和蒸馏水配置成浓度为1g/l的标准溶液，在标准溶液的基础上将其稀释成浓度为0.001g/l~1g/l 的对照溶液；在PVP最大吸收波长221nm处通过紫外分光光度计进行测定并绘制PVP标准吸收曲线[8~9]，如图1所示。
1.4.2导丝涂层附着量测试用电子天平对导丝称重m1，改性后再称重m2，其中m2-m1为涂层附着量。
将已知涂层附着量的导丝浸泡在容量瓶中，并每30min取浸泡液测试PVP紫外吸光度并将溶液倒回，绘制PVP吸光度变化曲线。
1.5吸水率的测定将改性前、后导丝干燥并称重，将改性后导丝在蒸馏水中分别浸泡1min，30min，60min，90min，120min，150min，180min，取出用滤纸吸去表面的水滴进行称重。
医用导丝亲水涂层的制备尚磊上海康德莱医疗器械股份有限公司（上海 201803）文章编号：1006-6586(2016)07-0028-03 中图分类号：TQ316.6 文献标识码：A内容提要：通过紫外光接枝的方法对导丝进行表面亲水改性，通过测定水接触角、附着性、吸水率和摩擦力等来表征涂层的润滑性、吸水性和耐水持久性。
微流控芯片制作的工艺微流控芯片制作工艺微流控芯片是一种在微米尺度下操作液体的芯片，它具有高度集成化和高效性能的优点，广泛应用于生物医学、化学分析、环境监测等领域。
在微流控芯片的制作过程中，需要经过一系列工艺步骤，以实现精确的控制和操控微小液滴的目的。
微流控芯片的制作一般采用光刻技术。
这是一种利用光敏胶的特性进行图形转移的工艺。
具体步骤包括：在硅片上涂覆光敏胶层，然后将光掩模放置在胶层上，通过紫外光照射，使得胶层在光掩模的掩盖区域发生化学反应，形成图案。
接着，通过显影和清洗等步骤，将未曝光的胶层去除，得到所需的芯片结构。
微流控芯片的制作还需要进行湿法腐蚀。
湿法腐蚀是指通过将芯片浸泡在酸性或碱性溶液中，使得芯片表面的某些区域被溶解掉，从而形成所需的微通道结构。
湿法腐蚀的工艺参数要根据具体的芯片设计需求进行选择，包括溶液的浓度、温度和腐蚀时间等。
然后，微流控芯片的制作还需要进行胶粘剂的加工。
胶粘剂主要用于将芯片与其它器件进行粘接，以实现整体的封装和固定。
胶粘剂的选择要考虑其对微流控芯片和液体样品的相容性，以及粘接的强度和稳定性等因素。
微流控芯片的制作还需要进行微通道的封闭。
微通道封闭是指使用合适的材料对芯片上的微通道进行封堵，以避免液体泄漏和交叉污染。
常用的封闭材料有PDMS（聚二甲基硅氧烷）和热熔胶等。
封闭材料的选择要考虑其与芯片材料的相容性、封堵效果和操作的方便性等。
微流控芯片的制作还需要进行芯片测试和封装。
测试是指对制作好的芯片进行性能评估和功能验证，以确保其达到设计要求。
封装是指将芯片封装在适当的载体上，以方便连接和使用。
常用的封装方式有贴片封装和薄膜封装等。
微流控芯片的制作工艺包括光刻、湿法腐蚀、胶粘剂加工、微通道封闭、芯片测试和封装等步骤。
这些工艺步骤的精确控制和操作能力对于制作高质量的微流控芯片至关重要。
随着微纳制造技术的不断发展，微流控芯片的制作工艺也将不断完善和创新，为微流控技术的应用提供更多可能性。
医用导管亲水涂层的制备
医用导管亲水涂层的制备主要采用溅射技术，是一项技术性和精密度
要求较高的技术。
制作过程中，首先需要准备好亲水溅射材料，一般来说，由不同浓度的水或气体构成的单液溅射剂可以满足医疗导管表面的亲水性
要求；其次，将亲水溅射材料通过溅射喷雾头排出；接下来，医用导管表
面通过连续沿水平线移动，让亲水溅射材料形成涂层；最后，将亲水溅射
涂层烘干即可完成医用导管的表面处理。
亲水涂层处理完成后，能够显著
提升医疗导管表面湿滑性，减少拨结，提高医用导管的操作效果和安全性。
光刻机中光学元件的超薄膜涂覆技术突破提高透射率表面平整度和制造精度光刻机是半导体制造过程中不可或缺的重要设备，它承载着将芯片信息投影到硅片上的关键任务。
在光刻机中，光学元件的性能直接影响到最终芯片的质量和效率。
为了提高透射率表面平整度以及制造精度，研究人员在超薄膜涂覆技术方面取得了一系列的突破。
一、超薄膜涂覆技术简介超薄膜涂覆技术是特定液体溶液均匀地涂覆在基片表面，形成一层薄膜的过程。
在光刻机中，超薄膜涂覆技术主要应用于光学元件的制造过程中，以提高器件的性能和质量。
二、超薄膜涂覆技术在提高透射率方面的突破透射率是衡量光学元件性能的重要指标之一。
通过超薄膜涂覆技术，可以在光学元件的表面形成一层均匀且具有较高透射率的薄膜。
随着技术的进步，研究人员在材料选择、涂覆工艺以及薄膜设计等方面做出了创新和突破。
首先，在材料选择方面，研究人员针对光学元件的特性，选择了适合的材料。
例如，为了提高透射率，可以选择具有高折射率和低吸收率的材料进行涂覆。
此外，还可以通过多层膜设计来控制光的干涉效应，进一步提高透射率。
其次，在涂覆工艺方面，研究人员优化了涂覆过程的参数，以获得更好的涂覆效果。
例如，控制涂覆液的粘度和表面张力，调整涂布速度和厚度等。
通过精确的控制，可以实现光学元件表面的均匀涂覆，并减少涂层的不良现象，提高透射率。
最后，在薄膜设计方面，研究人员通过先进的计算机模拟和优化算法，设计出具有精确光学性能的多层膜结构。
这些薄膜结构在光学元件上形成一系列的干涉薄膜，通过光的干涉作用来增强透射率。
通过合理的设计，可以实现高透射率和宽光谱响应。
三、超薄膜涂覆技术在提高表面平整度和制造精度方面的突破除了透射率，表面平整度和制造精度也是光学元件性能的关键指标。
通过超薄膜涂覆技术，可以在光学元件的表面形成一层光滑均匀的薄膜，提高表面平整度和制造精度。
首先，在超薄膜涂覆工艺中，研究人员利用高精度的涂覆设备和优化的工艺参数，实现了对薄膜厚度和均匀性的高度控制。
LM改性纳米防水涂料涂膜防水施工工法中建六局建设发展有限公司 ZJLJ-01-07-0012范宇1 前言随着城市化进程的加快，地下室的工程建设规模越来越大、越来越深，然而地下室属于隐蔽工程，因而地下防水工程的施工质量就显得尤为重要和突出。
防水工程主要分为结构自防水和附加防水，附加防水材料一般有防水砂浆、水泥基渗透结晶型防水材料等刚性防水以及高分子涂料防水、卷材防水、涂膜防水等柔性防水。
LM改性纳米复合防水涂料是以合成高分子材料为基料，加入纳米固化剂和纳米助剂以及改性剂，生产而成的双组份防水涂膜材料。
其中的纳米粒子能大幅度提高涂料产品的各项物理和化学性能（如涂膜的耐低温性能等）。
其施工方法简单，能在基层潮湿条件下施涂，施工速度快，特别是在耐低温性能上克服了常规防水涂料不能在零度以下环境温度施工的特点。
2 特点2.1可以在潮湿的基层上进行，既能渗透又能成膜，固化成膜后渗透基层为0.3mm～0.5ｍｍ，从而提高了与基层的粘结强度，达到了1.72MPa以上，而且成膜后具有透气不透水的化学分子筛结构的特征；实用文档2.2对施工环境温度要求不严格，可在－10℃以上的低温环境下施工，克服了冬季施工期间的环境影响，大大缩短了表干和实干时间，从而极大地加快了施工进度；2.3采用的材料无毒、无污染，是环保型防水涂料。
2.4适用范围广，操作方便，特别是在地下防水工程中，可根据混凝土的表面随意涂刷成型，而且可在LM涂膜表面直接抹水泥砂浆或粘贴块料，不起鼓不裂纹，粘结牢固。
3 适用范围本工法适用于建筑施工中以混凝土或砂浆为基层的防水工程，特别适用于冬期施工期间需进行施工、工期较紧的大面积防水工程，在潮湿的基层（无明水即可）、基层外型变化较多、气温较低（－10℃）的施工环境下，本工法具有独特的优势。
4 工艺原理涂料中的纳米粒子独特的物理、化学性能及常规微粒所不具备的小尺寸效应、量子尺寸效应和表面界面效应，特别是对紫外光强烈的反射性能，能大幅度提高涂料产品的各项物理和化学性能（如涂膜的耐低温性能等），实现了有机物和无机物在纳米尺度上的完美结合。
(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201610861058.4(22)申请日 2016.09.29(71)申请人 成都德信安创新医疗技术有限公司地址 611130 四川省成都市温江区八一路北段18号1栋6单元(72)发明人 唐文睿 武迪蒙 江时喜 (51)Int.Cl.A61L 29/08(2006.01)A61L 29/14(2006.01)A61L 29/06(2006.01)A61L 29/04(2006.01)A61L 31/10(2006.01)A61L 31/06(2006.01)A61L 31/04(2006.01)A61L 31/14(2006.01)(54)发明名称一种用于医疗器械表面的亲水超滑涂层的制备方法(57)摘要本发明公开了一种用于医疗器械表面的亲水超滑涂层的制备方法，其特征在于包含以下重量份的原料：5～15质量份的羟基乙烯基吡咯烷酮聚合物、0.5～8质量份的异氰酸酯、0.2～8质量份的异氰酸酯交联剂、0.05～0.5质量份的流平剂、73.5～94.25质量份的溶剂A；制备亲水超滑涂层时于常温下按比例先将原料混合均匀并搅拌3～6h后制得涂层组合物，然后将涂层组合物采用浸涂或喷涂方式涂覆在医疗器械表面上，于50～60℃下烘干20～40min制得亲水超滑涂层，拥有持久发挥亲水超滑的优异效果。
本发明制备的亲水超滑涂层特别适用于聚氯乙烯、聚氨酯、尼龙、丙烯酸酯、聚醚醚酮等极性材料制作的医疗器械，如导尿管、输尿管支架、导丝、造影导管、内窥镜检查鞘管、球囊导管、引流管、中心静脉导管等。
权利要求书1页 说明书6页CN 106421934 A 2017.02.22C N 106421934A1.一种用于医疗器械表面的亲水超滑涂层的制备方法，其特征在于包含以下重量份的原料：5～15质量份的羟基乙烯基吡咯烷酮聚合物、0.5～8质量份的异氰酸酯、0.2～8质量份的异氰酸酯交联剂、0.05～0.5质量份的流平剂、73.5～94.25质量份的溶剂A；制备亲水超滑涂层时于常温下按比例先将原料混合均匀并搅拌3～6h后制得涂层组合物，然后将涂层组合物采用浸涂或喷涂方式涂覆在医疗器械表面上，于50～60℃下烘干20～40min制得亲水超滑涂层。
十大步骤详解芯片光刻的流程！在集成电路的制造过程中，有一个重要的环节——光刻，正因为有了它，我们才能在微小的芯片上实现功能。
现代刻划技术可以追溯到190年以前，1822年法国人Nicephore niepce在各种材料光照实验以后，开始试图复制一种刻蚀在油纸上的印痕（图案)，他将油纸放在一块玻璃片上，玻片上涂有溶解在植物油中的沥青。
经过2、3小时的日晒，透光部分的沥青明显变硬，而不透光部分沥青依然软并可被松香和植物油的混合液洗掉。
通过用强酸刻蚀玻璃板，Niepce在1827年制作了一个d’Amboise主教的雕板相的复制品。
Niepce的发明100多年后，即第二次世界大战期间才第一应用于制作印刷电路板，即在塑料板上制作铜线路。
到1961年光刻法被用于在Si上制作大量的微小晶体管，当时分辨率5um，如今除可见光光刻之外，更出现了X-ray和荷电粒子刻划等更高分辨率方法。
所谓光刻，根据维基百科的定义，这是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。
这里所说的衬底不仅包含硅晶圆，还可以是其他金属层、介质层，例如玻璃、SOS中的蓝宝石。
光刻的基本原理是利用光致抗蚀剂（或称光刻胶）感光后因光化学反应而形成耐蚀性的特点，将掩模板上的图形刻制到被加工表面上。
光刻原理意图光刻不是一个简单的过程，它要经历很多步骤：光刻的工序下面我们来详细介绍一下光刻的工序：1.清洗硅片（Wafer Clean）清洗硅片的目的是去除污染物去除颗粒、减少针孔和其它缺陷，提高光刻胶黏附性基本步骤：化学清洗——漂洗——烘干。
硅片经过不同工序加工后，其表面已受到严重沾污，一般讲硅片表面沾污大致可分在三类：A. 有机杂质沾污：可通过有机试剂的溶解作用，结合超声波清洗技术来去除。
B. 颗粒沾污：运用物理的方法可采机械擦洗或超声波清洗技术来去除粒径≥ 0.4 μm颗粒，利用兆声波可去除≥ 0.2 μm颗粒。
微流控芯片表面处理试剂一：亲水处理试剂应用背景：亲水性（hydrophilicity）在材料表面为水分所润湿的性质, 是一种界面现象，润湿过程的实质是物质界面发生性质和能量的变化。
当水分子之间的内聚力小于水分子与固体材料分子间的相互吸引力时，材料被水润湿，此种材料为亲水性的，称为亲水性材料。
水分子与不同固体材料表面之间的相互作用情况是各不相同的。
在水（液相）、材料（固相）与空气（气相）三相的交点处，沿水滴表面的切线与水和材料接触面所形成的夹角θ称为接触角（见图），θ角在0°～180°之间，由θ角的大小可估计润湿程度。
θ角越小，润湿性越好。
如θ=0°，材料完全润湿；θ<90°（如玻璃、混凝土及许多矿物表面），则为亲水性的。
该亲水处理剂广泛适用于疏水材料表面亲水处理，可通过浸渍、勻胶等方式使疏水材料表面附着一层纳米透明涂层，从而减小水的接触角，而不会形成水珠。
主要参数：•产品容量：100ml•透光率： 99.9%•疏水角：<10°•适用材料：各种塑料等疏水性材料主要优点：1.亲水稳定性对比表面等离子处理，该亲水试剂处理后的表面稳定更长时间（1-3个月）。
2.工艺简单便捷对比表面等离子处理，不需要任何设备辅助，可以通过浸渍、勻胶等方式处理，操作简单。
3.透明性和均匀性干燥后，不存在颗粒问题，不影响表面粗糙度，光学性质，具有高透明性和良好均匀性。
4.适用材料范围广各种塑料、金属等材料大多适用。
处理效果对比：推荐使用方法：1.将试剂与异丙醇，按照7：3比例混合均匀；2.普通材料表面处理：将需要处理的材料浸泡于混合均匀后的试剂中，一分钟后，用高压气枪吹干即可；3.微流控芯片处理：将混合均匀后的试剂中注入到芯片沟道中，浸泡一分钟后，用空气排出液体。
保存：置于4°冰箱，确保瓶盖密封避免挥发。
保质期：12个月注意事项：1.不可饮用，远离儿童及火源2.请于每次使用前按需混合3.混合均匀后的试剂请在8个小时内用完，否则无效4.可重复浸泡处理二：疏水处理试剂：应用背景：在化学里，疏水性（hydrophobicity）指的是一个分子（疏水物）与水互相排斥的物理性质。
