第七章 铸造多晶硅中的杂质和缺陷
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铸造多晶硅杂质和缺陷处理工艺研究进展摘要:近年来,低成本和高效率的多晶硅已经成为最主要光伏材料之一。
本文从太阳能电池制备工艺角度出发,综述了国内外近年来关于对铸造多晶硅杂质和缺陷处理方面的工艺研究进展。
分析比较了各种处理工艺,包括磷吸杂、铝吸杂、磷铝共吸杂和多孔硅吸杂对杂质吸除效果、少子寿命的影响。
也分析了钝化和热处理工艺对多晶硅材料性能的影响。
综合考虑成本要求和除杂效果,高温P-AI联合吸杂以及多孔硅吸杂是较好的选择,它们可能在未来的铸造多晶硅除杂工艺领域中占据重要地位。
一、引言随着国际原油的价格突破100美元/桶,能源问题变得愈来愈严峻。
与此同时,环境问题也要求新能源能够替代化石能源。
自1954年贝尔实验室研制出第一块太阳电池以来,光伏材料为基础所制得的太阳电池直接将太阳能转化为电能,这被公认为解决能源和环境问题最有效的途径之一。
在过去的五年中,光伏产业的年增长率超过了40%,成为目前发展最快的产业。
2006年,全球太阳能电池产能达到了2520MWp,创造了一个价值120亿欧元的产业。
据商业分析,2010年的太阳能产值将达到400亿欧元。
多晶硅作为太阳能电池的主要原料之一,以其相对低廉的成本,成为最重要的原材料,目前已经占据市场50%以上的份额,并且市场份额还有继续扩大的趋势。
但是,由于太阳能用多晶硅原材料很多都来源于微电子工业的头尾料,从而导致太阳能用铸造多晶硅中存在大量的微缺陷和氧、氮、碳等非金属杂质,以及较多的铁、铜、镍、锰、钛等金属杂质。
多晶硅中位错、晶界等这些扩展缺陷存在的悬挂键和金属杂质是少数载流子的复合中心,这些金属杂质和微缺陷在硅禁带中引人了深能级,成为光生少数载流子的复合中心,从而减少了少数载流子的寿命,严重影响了太阳电池的光电转换效率。
如何消除这些因素对多晶硅电池的影响就成为当前研究的主要课题之一。
本文从太阳能电池制备工艺角度出发,综述了国内外近年来关于对铸造多晶硅杂质和缺陷的处理方法的报道,分析比较了各种处理工艺对杂质吸除效果、少子寿命的影响,并对未来的技术和工艺发展的趋势做出了展望。
缺陷和杂质2023-11-09•铸造多晶硅太阳电池概述•铸造多晶硅的结构缺陷•铸造多晶硅中的杂质目录•铸造多晶硅结构缺陷和杂质的表征与检测方法•铸造多晶硅结构缺陷和杂质的控制与优化•展望与未来发展趋势01铸造多晶硅太阳电池概述铸造多晶硅太阳电池的制造工艺已经非常成熟,可以实现大规模生产。
制造工艺成熟转换效率较高制造成本较低铸造多晶硅太阳电池的转换效率较高,可以满足大部分应用需求。
铸造多晶硅太阳电池的制造成本较低,具有较好的经济性。
030201吸光层由多晶硅材料构成,能够吸收太阳光并将其转化为电能。
吸光层导电层由掺杂的多晶硅材料构成,能够将吸光层产生的电流导出并传输到外部电路中。
导电层背反射器用于将太阳光反射回吸光层,以增加光吸收效果。
背反射器导电层制备将掺杂的多晶硅材料通过热处理和加工等工艺制成导电层。
铸造多晶硅太阳电池的制造过程原材料准备制造铸造多晶硅太阳电池需要准备多晶硅材料、掺杂剂、反射器等原材料。
吸光层制备将多晶硅材料通过热处理和掺杂等工艺制成吸光层。
背反射器制备将反射器材料通过加工等工艺制成背反射器。
组装将吸光层、导电层和背反射器组装在一起,形成完整的铸造多晶硅太阳电池。
02铸造多晶硅的结构缺陷在铸造多晶硅中,晶界是常见的结构缺陷。
晶界是指不同晶粒之间的交界,通常会对材料的性能产生负面影响。
在太阳电池中,晶界会降低载流子的迁移率,导致光电转换效率下降。
晶界位错是指晶体结构中的原子排列错位。
在铸造多晶硅中,位错会破坏晶体结构的周期性,导致能带结构发生变化。
位错还会影响载流子的散射和复合,进一步降低太阳电池的性能。
位错铸造多晶硅中的晶界与位错杂质陷阱在铸造多晶硅中,杂质原子通常会聚集在晶界或位错等缺陷处。
这些杂质原子会捕获电子或空穴,形成杂质能级,从而影响载流子的迁移和复合过程。
杂质陷阱对太阳电池的光电转换效率产生负面影响。
热处理与杂质陷阱通过热处理可以部分消除杂质陷阱的影响。
在高温下,杂质原子有机会从缺陷处扩散出去,从而减少杂质陷阱的数量。
铸造多晶硅中的金属杂质及其对硅片性能的影响摘要:关键词:多晶硅铸造多晶硅金属杂质正文:金属杂质特别是过渡金属杂质,在原生铸锭中的浓度般都低于1×10”cm 3,但是它们无论是以单个原子形式,或者以沉淀形式出现,都对太阳能电池的转换效率有重要的影响。
近期由于硅料中所含金属杂质超标,导致多个晶锭出现电阻率严重异常而整锭报废,另外还出现较多晶棒切片后的硅片电阻率出现较大波动,对公司的经济效益带来严重的影响。
下面对铸造多晶硅中金属杂质的性质及其对硅片性能的影响进行详细的分析,为多晶硅片的生产及异常硅片的处理提供一定的参考。
1.铸造多晶硅中金属杂质的来源铸造多晶硅中的金属杂质主要有Fe,Al,Ga,Cu,Co,Ni等,铸造多晶硅中金属杂质的来源主要有以下几个方面:A.原生硅料中含有一定量的金属杂质,这也是金属杂质的一个主要来源。
目前由于硅料异常紧缺,导致一些含杂质较多的硅料在市场上流通,造成铸出的晶锭出现问题的事故时有发生。
B.在硅料的清洗,铸锭及切片的整个过程中由于使用各种金属器件接触,导致金属杂质的引入。
这也是铸造多晶硅中金属杂质含量偏高的一个主要原因。
整个工艺流程中引入金属杂质的途径有很多,例如硅料清洗过程中清洗液的残留,晶锭转运过程中使用的不锈钢转运车,多晶硅棒破碎过程中所使用的铁锤等。
2.过渡族金属在硅片中的扩散和溶解硅中金属杂质的引入可以在晶体生长过程中,或者在硅片的抛光、化学处理、离子注入、氧化或其他处理过程中首先在表面附着,随后后续的高温热处理过程中扩散进入硅基体。
A.金属杂质在硅锭中的分布在高温(>800℃)下,过渡族金属一般都有很快的扩散速度而溶解度则相对较小。
Cu、Ni为快速扩散杂质,在高温下,Cu、Ni的扩散速率甚至可以接近于液相时的扩散速率,达到10-4cm2/s。
而其他的金属杂质,如Fe、Cr等为慢扩散杂质,一般比Cu、Ni的扩散速率慢一到两个数量级,但在高温下仍可以达到几十到几百微米每秒。
太阳电池用铸造多晶硅结构缺陷和杂质的研究作者:周秉林来源:《城市建设理论研究》2013年第14期摘要:铸造多晶硅作为太阳能电池中的主要光伏材料,受到人们的广泛重视。
但多晶硅晶体在生长的过程中不可避免的存在各种缺陷,加之多晶硅中存在氧、碳等杂质,制约了多晶硅电池的效率。
因此,研究不同铸锭区域多晶硅材料的性能及其影响因素,是太阳电池与硅材料研究的一个重要课题。
关键词:太阳电池铸造多晶硅结构缺陷杂质中图分类号:TM911.1 文献标识码:A 文章编号:1引言在替代能源中,应用最广泛的是直接从太阳能得到电的太阳电池,而铸造多晶硅作为最主要的光伏材料也引起人们的关注。
但在铸造多晶硅晶体的生长过程中,不可避免的会有坩埚的玷污、硅料中已有的各种杂质污染以及热应力导致的各种缺陷。
铸造多晶硅中常见的杂质主要是氧、碳及一些过渡金属,如铁、铬、镍、铜等。
含有的晶体缺陷主要有晶界和位错两种。
这些杂质和缺陷会在禁带中引入缺陷能级,具有很强的复合活性。
这就制约了多晶硅电池的效率,使得多晶硅电池与单晶硅电池相比,效率较低。
因此,研究不同铸锭区域多晶硅材料的性能及其影响因素,是太阳电池与硅材料研究的一个重要课题。
特别是关于铸锭边缘低少子寿命区域的研究,对促进铸造多晶硅晶体生长,提高铸造多晶硅材料有效利用率有着非常重要的作用。
2 铸造多晶硅中的杂质及影响因素铸造多晶硅是通过对硅原料进行重熔铸锭而成。
硅原料主要有两种:其一,半导体工业制备单晶硅剩下的头尾料、锅底料以及没制备成功而产生的废料;其二,原生多晶硅与半导体工业废料或高纯金属硅按一定比例混掺,这是由于光伏产业的高速发展导致半导体工业边角废料生产的多晶硅远远不能满足需求,于是,有的企业便采取这种方式来获得生产电池用的多晶硅。
2.1 硅片的少子寿命及其影响因素在一定温度下,处于热平衡状态的半导体材料中的载流子浓度是一定的。
这种处于热平衡状态下的载流子则称为平衡载流子,其浓度,称为平衡载流子浓度。