CVS分析仪

SK 1012 CVS分析方法一、標準液配置a.空白液（VMS）CuSO4•5H2O:90g/lH2SO4(98%):200g/lHCL(37%):60ppmb.輔助液在上述VMS加入7ml SK1012 Leveller定溶至1L即可。

二、活化a.打開CVS分析程式並打開CVS分析儀；b.按F1（Measure-Mode）選擇SK1012 ，按ENTER再按一次ENTER健，進入SK 1012分析介面；c.置100ml VMS於電極下；d.按F1（Condition Mode）選擇活化電極方法；F1(Condition Mode-automatic)爲自動F2(Condition Mode-manual)爲手動e.活化電極完成後按ESC健退出。

注：每次開機分析均需做此動作三、Leveller校正a.置100ml VMS於電極下；b.按F3(Dilution Titration),再按F1(CalibrationFactor Analysis)開始Leveller校正；c.依提示添加一定量輔助液即可。

d.Leveller校正完成後按ESC健退出。

注：每次更換VMS需做此動作。

四、Leveller分析a.置100ml VMS於電極下；b.按F3(Dilution Titration),再按F2(Leveller Analysis)開始Leveller分析；c.依提示添加一定量工作槽液即可；d.Leveller分析完成後按ESC健退出。

五、Brightener校正a.置100ml 輔助液於電極下；b.按F1(Base line correction)按ENTER開始，完成後按ECS退出。

注：此步驟每天分析必須完成。

六、Brightener分析a.置100ml 工作槽液於電極下；b.按F2(Brightener Analysis)按ENTER健開始分析，依提示添加量添加即可，分析完成後按ESC健退出。

用CVS分析仪监控酸性电镀铜溶液胡文强;易家香;周仲承;王克军;杨盟辉;黄革【摘要】循环伏安剥离分析是目前印制线路板业界广泛采用的一种分析技术,其结果可以作为离线或在线添加有机添加剂的依据,保障镀液的品质.本文对电镀铜中的有机添加剂和CVS技术的电化学原理进行了介绍,对运用CVS分析仪测试电镀添加剂浓度的方法和步骤进行了介绍,介绍了两则运用CVS分析仪分析调整电镀铜镀液的实例.【期刊名称】《印制电路信息》【年(卷),期】2013(000)001【总页数】3页(P27-29)【关键词】循环伏安剥离分析仪;有机添加剂;酸性镀铜液;抑制剂;光亮剂【作者】胡文强;易家香;周仲承;王克军;杨盟辉;黄革【作者单位】中南电子化学材料所,湖北武汉430070;中南电子化学材料所,湖北武汉430070;中南电子化学材料所,湖北武汉430070;中南电子化学材料所,湖北武汉430070;中南电子化学材料所,湖北武汉430070;中南电子化学材料所,湖北武汉430070【正文语种】中文【中图分类】T-1;TN41酸性电镀铜镀液的基本成分包括H2SO4、Cu2+、Cl-和有机添加剂等：前三种物质可以通过化学分析的方法对其含量进行监测和管控；而有机添加剂多为聚合物，其含量难以通过简单的化学分析的方法进行确定。

在早先的操作中，一向以一种基于操作经验为主的霍尔槽（Hull）实验的方法，做为管理与添加的工具。

但由于此种方法仅能提供酸性电镀铜镀液中有机添加剂整体效果的定性参考，而不能提供有效的定量信息，且此种方法依赖于操作人员的实践经验，由不同的人员操作，结果可能相差较大，无法准确地对镀铜液中的有机添加剂进行监控和添加。

CVS （Cyclic Voltammetric Stripping，循环伏安剥离）分析仪能够精确地测定镀液中有机添加剂的浓度[1]，让操作者可随时监测镀液中各种有机添加剂的浓度，以确保电镀液的使用效果，因此，CVS技术在半导体以及印制电路板行业得到了广泛采用。

ＣＶＳ技术在监控电镀铜槽液的运用摘要：介绍CVS 技术在监控电镀铜槽液有机添加剂的运用。

本文首先将对电镀铜中的有机添加剂和CVS 技术的电化学原理进行解说，然后对CVS分析仪对有机添加剂浓度进行测量的原理和CVS中有机添加剂程序的创建进行介绍，最后简要介绍CVS在有机添加剂来料查验、镀液污染值、碳处理情况等监控方面的运用，希望此文章能够对CVS化验分析人员对此仪器有更深一步的了解。

关键词: 有机添加剂酸性镀铜液 CVS分析仪电位The application of the CVS technology to monitor copper plating bath——Qiongli Fu BAIKAL CHEMICALS INC. Abstract: To introduce the CVS technology in the monitoring of organic additives of copper plating bath .Firstly, this article will explain the organic additives of copper plating and the electrochemical principle on CVS techniques.Secondly,the principle of CVS analyzer to measure the concentration of organic additives and the creation of procedure in CVS analyzer are introduced.Finally,it will briefly introduce the application of CVS analyzer to monitor the organic additive incoming inspection, bath pollution value, carbon treatment process. I hope this article will help analysiser to understand the equipment more.Key words: organic additives ,Acid copper plating bath , CVS analyzer , Potential一、引言众所周知酸性电镀铜槽液中的基本成分有Cu2+、SO42-、Cl-和有机添加剂，前三种成分可通过化学分析对其进行管控；至于有机添加剂的分析，早先一向以经验导向的HULL-CELL试镀片，做为管理与添加的工具。

排放分析仪操作规程
1 适用范围
用于整车排放及性能试验室所用底盘测功机上的操作。

2 操作方法
2.1 检查空压机是否正常运转以及压缩空气是否正常供给；
2.2 检查电气柜柜门是否关闭并上锁；
2.3 检查各个急停（EMERGENCY STOP）按钮是否处于松开状态；
2.4 系统启动操作
2.5 启动试验的操作程序：
2.6 关闭系统的操作程序
按照启动系统操作程序的相反顺序进行。

3 注意事项
3.1 设备环境温度、湿度控制；
3.2 保证CVS使用所需的冷却水供应；
3.3 电磁阀开启所需压缩空气的油水去除和洁净；
3.4 废气排除排气管出口不能存在背压；
3.5 稀释空气采集附近不能存在其他气体污染源；
3.6 保证实验所需工作用气和标准气体的压力正常；
3.7 设备在运行程序过程中不得在施加其他指令。

4 维护保养
4.1 真空泵维护12月/次4.2 蠕动泵维护12月/次4.3 采样泵维护12月/次4.4 气袋检查与维护6月/次4.5 变频柜滤网更换3月/次4.6 分析仪线路检查与维护12月/次4.7 分析仪气路检查与维护12月/次
4.8 主控电脑除尘等维护12月/次4.9 设备间的通讯检查与维护12月/次4.10 NOX线性化检查12月/次4.11 NOX转换效率检查12月/次4.12 CVS炳烷喷射检查12月/次4.13 CO2水干扰检查12月/次4.14 CH4线性化检查12月/次4.15 CH4转换效率检查12月/次。

CVS分析化学
CVS（Concurrent Versions System）是一个开源版本控制系统，用
于跟踪和管理源代码的更改。

它具有分布式、多用户和多任务处理的能力，并且可以在多个开发者之间进行协作，并记录文件的更改历史。

CVS分析化学是一种利用CVS系统进行化学分析的方法。

化学分析是
通过对样品中的化学物质进行检测和定量来确定其成分和性质的过程。

CVS分析化学可以在实验室和工业生产中广泛应用，具有高度的灵敏度和
准确性。

此外，CVS分析化学还可以应用于药物研发和控制。

在药物研发中，
可以利用CVS分析化学来测定药物中的杂质和成分含量。

在药物质量控制中，可以利用CVS分析化学来检测药物中的纯度和稳定性。

总之，CVS分析化学是一种利用CVS系统进行化学分析的方法。

它具
有灵敏度高、准确性高和分析速度快的优点，并广泛应用于环境监测、食
品安全检测和药物研发等领域。

随着科学技术的不断进步，CVS分析化学
将会在更多的领域得到应用。

CVS硬件和软件介绍分析电镀溶液中有机添加剂组分VA/CVS高级客户服务工程师周志军797 VA Computrace •专为电镀行业设计797 VA Computrace•电化学工作站Autolab的简化设计•稳定和恒电位仪•可以精准测量nA~mA的信号797 VA Computrace–移液z MSB口控制3 x 800 Dosinos加液器z可扩展至7个800加液器z1/10000精度z10µL –50mL精准加液z自动控制加VMS/配置intercept溶液和标准样品z Dosino自动清洗定量管797 VA Computrace–自动进样器•112 位置–56 for suppressor–28 for brightener•塑料材质–不会被强酸性样品腐蚀843 泵Station–包括两个泵单元，自动进行–排废液–加水清洗最小的记忆效应更好的重复性和准确性温度•温度显著影响CVS分析•避免室温波动(空调)•避免样品温度变化e.g. 温或热的样品•如有必要，使用加套杯进行恒温水浴797 VA Computrace–电极•RE –参比电极•Ag/AgCl双液接设计•稳定的参比系统•容易维护•PCTFE材质，不易损坏797 VA Computrace –电极免维护参比6.0730.000 Complete LL Ag/AgCl(gel)reference electrode•直接使用•免维护，24 h lab use•在线仪器使用•没有经验的使用者消耗品•AE –辅助电极•Pt棒•耐腐蚀•几乎不会消耗797 VA Computrace–电极797 VA Computrace–电极•AE –辅助电极•6.1247.010长铂棒•6.1241.020 Electrode Holder•65mm Pt棒•耐强腐蚀•不消耗797 VA Computrace–电极•6.1204.160 Pt tip polished (2 mm)•6.1204.610 Pt tip polished (2 mm)•6.1204.170 Pt tip polished (3 mm)•最大工作温度40°C•良好的信号稳定性•出厂证书RDE 电极轴6.1204.220•液态汞密封接触，避免金属接触磨损•适合大量样品分析•免维护797 VA Computrace–软件方法是单独文件•方便方法导入导出测量数据文件•自动保存•文件名带日期和时间797 VA Computrace–软件•抑制剂分析在同一样品表中可做多次相同或不同抑制剂的Calibration797 VA Computrace–软件•可进行重新计算•记录测量信号值/测量曲线以及结果797 VA Computrace–软件•软件易学•伏安测量曲线可以叠加显示•DT 曲线同时显示–校正曲线–样品测量曲线•单独选择某一条伏安曲线•CVS &痕量分析797 VA Computrace–扩展应用•极谱仪•痕量重金属分析eg. 镍槽中的Pb等USP 797 VA Computrace for CVSÎ稳定的电极和平易的价格ÎMetrohm 优秀的本地化服务ÎMetrohm上海实验室提供方法开发支持Î方便的数据和方法导入导出Î高精度的Dosino加液设计Î灵活强大样品处理能力的自动进样系统Î自动进行抑制剂重新做校正曲线Î自动添加VMS/配置Intercept溶液和标准样品Î恒温水浴Î一台仪器完成CVS和痕量重金属分析。

ECI电镀添加剂分析系统CVS 铂金电极参比电极
品牌：美国ECI 此产品备有两个型号：QL-5E 和QL-10E
功能特点：
友好的操作界面，人机交流简单明了。

内置多种分析程序，可适用于几乎所有的电镀浴，能分析其中有机化合物及无机物的含量。

由有机污染物及添加剂的分解产物组成的相应曲线将出现在显示器上，这些物质经过碳处理后将被清除。

可更换式电极能排出镀液中有机污染物的影响及提高分析速度。

内置自动注射式光亮剂添加器，能提高操作人员的工作效率及分析精度。

应用软件可升级，包括SPC信息。

重要的菜单可设置密码保护。

本系统包含一台电脑，显示器及打印机。

典型的应用：
能应用于机呼所有的电镀浴分析。

使用QL-5，你能准确可靠地分析出有机添加剂，无机组分及有机污染物的含量。

QL-5适用于：
确定电镀添加剂的加入量或减少量。

掌握最佳的碳处理时机。

确定电镀添加剂中各组分的消耗比例。

使电镀产品获得最佳的品质，推动电镀业的发展。

最重的是QL-5能准确快捷的分析电镀浴是中添加剂的含量，以达到最佳的电镀效果。

供应CVS 电极：VAU310参比电极VAU300铂金电极CUQP5451铜电极TAU325参比内液等。

十多年来，我们一直服务于PCB 厂商、电镀行业、科研机构、半导体生产、微电子、光电子、光通讯等电子行业。

我们提供高质量的产品和最优质的服务都得到顾客最高的奖励，在未来,我们将继续履行顾客的期望、要求和需要，愿我们成为真诚的合作伙伴、共同描绘双方的发展蓝图！。

CVS分析仪2篇第一篇：CVS分析仪介绍CVS分析仪是一种常用于电化学分析的仪器，可用于测量多种化学物质的浓度、化学反应的速率等。

其主要特点是使用方便、结果准确、检测灵敏度高等。

CVS分析仪有很多不同的型号和品牌，但它们都共享一些基本原理。

其基本工作原理是在电解液中通过电化学反应来得到需要分析的结果。

CVS分析仪的核心部分是工作电极，该电极通过标准电极电位以及测定电流来加以测量。

通常情况下，电解液中的物质会与电极发生化学反应，这些反应所产生的电流可用于计算出物质浓度的值。

CVS分析仪通常需要连接至计算机或控制器才能工作。

计算机会负责控制测量程序和收集数据。

这些数据可用于制作图形或表格，并通过统计作分析及比较不同样品的浓度或反应速率。

CVS分析仪的使用范围很广。

在医疗领域，它可用于测量血液中的葡萄糖、胆固醇、生化制品等。

在环境领域，它被用于测量水、气中的污染物浓度。

在冶金和石油化工行业中，CVS可用于分析金属和燃料等化学物质。

此外，CVS分析仪在食品、化妆品、药品等行业也有广泛的应用，以保证它们的质量和安全性。

总之，CVS分析仪是一种功能强大、易于使用的仪器，具有高检测灵敏度和精度的特点，可用于多种化学物质的分析和测量。

它在科学研究及产业领域有着广泛的应用。

第二篇：CVS分析仪的应用及发展趋势CVS分析仪具有广泛的应用领域，特别是在化工、环境工程、医疗保健和食品科学等产业领域中，CVS分析仪不仅能够提供准确的检测结果，还能够提高检测效率，减少人为的误差以及时间成本等。

CVS分析仪的一个重要应用是在环境领域。

在环境保护和污染控制中，CVS分析仪可用于测量大气中的有害气体浓度、地表水和海洋中的有毒物质浓度等。

此外，在食品科学中，CVS分析仪可用于检测食品中的添加物和化学成分，以保证食品的质量和安全性。

CVS分析仪的发展趋势主要体现在技术上的升级和功能的完善。

随着科技的不断进步和理论的完善，CVS分析仪的准确性和灵敏度也得到了极大的提高。

瑞士万通cvs分析仪教学瑞士万通专业型CVS搭载viva软件是目前利用循环溶出伏安法（CVS）测定电镀槽液中的有机添加物功能强大的系统。

- 更强的灵活性：瑞士万通专业型CVS以其独特的灵活性而出众。

由于系统完全模块化设计，它可以通过添加其它的模块单元。

例如，多思TM自动加液系统、泵和样品处理器等，可以随时地扩展和升级系统的功能。

viva电脑软件是实现最大的灵活性的强有力保障。

所有的参数都可以自由定义，您可以在viva软件中几乎无限制地编辑您自己的方法参数。

viva软件同时控制瑞士万通专业型CVS主机和其他的连接设备。

软件中已预先安装好一些重要的实验方法，这样可以使系统在简单几步中，即可实现快速、简单的进行操作。

- 更强的简便性：viva软件另一项强大的功能是其强大而完善的数据库功能。

除了数据自动采集和评估功能，同时它还可以实现测量数据的便捷管理。

- 更好的安全性：用户管理与自由定义访问权限，自动备份功能确保高水平的数据安全性。

更进一步地，使用的溶液、电极和系统的其它附件都可以被系统监控，以符合GLP（良好实验室规范）来确保最高级别的安全性。

此外，Metrohm在CVS测定电镀槽液中的有机添加剂领域的检测，已有超过10年的丰富经验，这使我们在分析电镀槽液可以成为您的忠实可信赖的合作伙伴。

- 最重要的应用：MLAT法测定电镀槽液中光亮剂的含量（改进型线性逼近技术）DT法测定电镀槽液中抑制剂的含量（稀释滴定法）主要特点和性能- 专为客户定制的模块化设计的测量系统- 内置的校正设备保证测量的精确度和可信度- 可拆卸的测量头- 丰富的自动化设备选择- 独特的液体处理系统——多思自动加液系统、抽排液泵和液位传感器Viva软件- 个性化、面向问题的编程方式- 数据库针对方便浏览和测量结果评估的多种功能设计- 数据安全性和自动备份功能- 测量结果具有可追溯性和安全性，方便用户溯源- 控制图表功能主要技术参数尺寸包括测量头和收集盘宽度 188mm宽度 322mm宽度 452mm主机重量 7.4kg恒压源扫描电位范围±5V电流范围±224mA电流测量范围 +63pA...+224mA恒流源电位测量范围 -5.000...+5.000V分辨率施加电位15μV测量电位150μV施加电流电流测量范围的0.0031%测量电流电流测量范围的0.0031%最小的测量电流范围（63pA）下测量电流值为2fA精确度施加电流±（电流值的0.2%+电流测量范围的0.2%）测量电流±（电流值的0.2%+电流测量范围的0.2%）施加电位±（电位的0.2%±1mV）测量电位±（电位的0.2%±1mV）温度测量测量范围(Pt 1000) 0 (100)精确度(Pt 1000) ±0.5℃电源连接电压 100 (240V)频率 50...60Hz功耗 45W。

电镀槽液测试和分析电镀槽液测试和分析对电镀槽液的测试和分析目前主要是通过两种方法来实现:哈氏槽测试和循环伏安剥离分析技术.前者广泛使用，结果直观，最大的缺点是不能提供定量分析数据，无法帮助用户精确监控槽液。

本文介绍的循环伏安剥离/溶出或者CVS/CPVS能够分析槽液稳定性和并且将结果定量化，帮助用户更好地控制电镀工艺。

循环伏安剥离（CVS）技术的历史此测试的基础是电化学分析技术。

早在1922年捷克科学家J.Heyrovsky创立极谱法，并于1959年获Nobel 奖。

之后1934年，另一位科学家Ilkovic，提出扩散电流理论，从理论上定量解释了伏安曲线。

在此之后20世纪40年代以来主要采用特殊材料制备的固体电极进行伏安分析。

包括微电极、超微阵列电极、化学修饰电极、纳米电极、金刚石电极、生物酶电极、旋转圆盘电极等，结合各种伏安技术进行微量分析、生化物质分析、活体分析。

而从上个世纪80年代开始此技术开始应用于电镀槽液测试和分析。

上图为典型的循环伏安获得信号曲线对电镀槽液监控的重要性循环伏安剥离分析技术就是CyclicVoltammetryStripping(CVS)可以用来实现对电镀中有机物和污染物的分析。

槽液中的添加物最终会影响线路板金属涂层的延展性，拉力，甚至最终的可焊性。

对有机添加物的常态化检查是保证产品质量的重要手段。

如下图为通过CVS分析获得槽液一个月的波动数据：显然哈氏槽分析可以提供用户一定的信息，但是并不能帮助用户对槽液的精确控制。

而循环伏安剥离分析(CVS)恰恰能够提供定量的分析结果，帮助用户更加稳定地控制槽液。

循环伏安剥离/溶出分析（CVS）在电镀槽液分析中的应用循环伏安溶出分析(CVS)可以用于分析电镀溶液中的有机物，这个结果也是基于槽内有机物在电镀中的反应。

不管用户需要测试的是光亮剂，抑制剂或者其他，这些有机物都可以被电镀的速度所反应。

此分析过程的实现是通过三电极系统完成，其中的工作电极是圆盘旋转电极。