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真空镀膜常见的不良分析及改善对策一、膜强度膜强度是镜片在镀膜的一项重要指标，也是镀膜工序最常见的不良。
膜强度的不良（膜弱）主要表现为：1)擦拭或用专用的胶带拉撕，产生成片的脱落；2)擦拭或用专用的胶带拉撕，产生点状的脱落；3)水煮15分钟后用专用的胶带拉撕产生点状或片状的脱落；4)用专用橡皮头、1KG力摩擦40次，有道子产生；5)膜层擦拭或未擦拭出现龟裂、网状细道子。
改善思路：基片与膜层的结合是首要考虑的，其次是膜表面硬度光滑度以及膜应力的因素。
膜强度不良的产生原因及对策；1)基片与膜层的结合；一般情况，在减反膜中，这是膜弱的主要原因，由于基片表面在光学领加工及清洗过程中不可避免地会有以下有害杂质附着在表面伤，而基片的表面由于光学冷加工的作用，总有一些破坏层，深入破坏曾的杂质（如水汽、油气、清洗液、擦拭液、抛光粉等，其中水汽为主），很难以用一般的方法去除干净，特别对于亲水性好的材料，吸附力强的基片尤其如此，当膜料分子堆积在这些杂质上面时，就影响了膜层的附着，也就影响了膜强度。
此外，如果基片的亲水性差、吸附力差，对膜层的吸附差，同样会影响膜强度。
硝材化学稳定性差，基片在前加工过程中流转过程中，表面已经受到腐蚀，形成了腐蚀层或水解层（也许是局部的、极薄的）。
膜层镀在腐蚀层或水解层上其吸附就差，膜牢固度会受到影响。
基片表面有脏污、油斑、灰点、口水等，局部膜层附着不良，造成局部膜牢固度不良。
改善对策：a)加强去油去污处理，如果是超声波清洗，应重点考虑去油功能，并保证去油溶液的有效性，如若是手擦，可考虑先用碳酸钙粉擦拭后再清擦；b)加强镀前烘烤，条件许可，基片温度能达到300℃以上最好，恒温20分钟以上，尽可能使基片表面的水汽、油气挥发。
温度过高时基片的附着力变大，同时也容易吸附灰尘，因此需要提高真空室清洁度，真空室基片上的水汽化学解析温度在260℃以上。
不是所有的零件都需要高温烘烤，有的硝材温度高了反而膜强度不高，还会有色斑产生，这与应力及材料热匹配有较大的关系；c)设备机组安装冷凝机（POLYCOLD），可以提高机组抽真空的能力的同时帮助去除水汽、油气；d)设备安装离子源，镀前轰击，清洁基片表面，镀膜过程辅助更有利于提高膜层密度；e)镀膜辅耗去潮湿，膜料可以存放特制的干燥柜或真空干燥柜中；f)保持工作区域环境干燥，清洁环境时不能有太多的水，环境保持恒温恒湿状态；g)薄膜设计是考虑第一层膜与基片的匹配，尽可能的使用与基片吸附力强的膜料，例如：增透膜使用AL2O3、金属膜使用CR或CR合金；h)镀前采取研磨液（抛光液）重复手动擦拭抛光，去除表面的腐蚀层和水解层；i)增透膜可以适当的降低蒸发速率，提高膜层光洁度，金属膜提高速率，或者提高设备的真空度，对于基片到蒸发源大于1米以上的镀膜机，蒸镀开始真空度应高于3*10-3Pa，镀膜机越大，蒸镀开启真空越高越好；2)膜层应力；薄膜的成膜过程，是一个物质形态转变的过程，不可避免的在成膜后的膜层中会有应力的存在，对于多层膜来说有不同的膜料组合，各膜层体现出的应力是有所不同的，有的是张应力，有的是压应力，还有膜层及基片的热应力。
真空镀膜产品常见不良分析改善对策真空镀膜是一种常用的表面处理技术，用于制备具有特殊功能的薄膜材料。
然而，在生产过程中，可能会出现一些不良现象。
本文将就真空镀膜产品常见的不良分析及改善对策进行详细探讨。
常见的真空镀膜产品不良包括颗粒、结晶、气泡、色差等。
不良颗粒是指在膜层上出现的小颗粒，其主要原因是杂质或金属粉尘污染所致。
结晶是指在薄膜材料中出现的晶体颗粒，可能是由于过高的沉积温度或金属原料纯度不高所导致。
气泡是指在薄膜材料中形成的气体团块，可以是由于杂质带入、沉积过程中的溶解气体发生释放等原因产生的。
色差是指薄膜材料颜色不均匀或与预期颜色不符合。
针对这些不良现象，可以进行以下改善对策。
首先，对于颗粒问题，可以加强对原料的筛选和净化处理，以确保杂质和粉尘的最小化。
其次，在真空镀膜过程中，增加清洗步骤，确保表面洁净无尘。
同时，加强对真空设备的维护和清洁，避免设备本身引入污染物。
另外，对于结晶问题，可以通过调整沉积温度和沉积速率来控制晶体生长，同时提高金属原料的纯度。
对于气泡问题，可以通过增加沉积时间、降低沉积温度、增加补偿气体等方式来减少气泡的生成。
对于色差问题，则需要进行颜料配方的优化和调整，确保膜层的颜色均匀一致。
此外，还可以通过加强人员培训和质量管理，改善操作技术和工艺控制，以减少不良现象的发生。
总结起来，真空镀膜产品常见的不良包括颗粒、结晶、气泡、色差等，其原因涉及原料污染、工艺参数控制不当等。
针对这些不良现象，可以采取一系列的改善对策，如加强原料筛选和净化，增加清洗步骤和设备维护，调整沉积温度和速率，优化配方和加强质量管理等，以提高真空镀膜产品的质量。
真空镀膜的常见问题和解决办法第一篇：真空镀膜的常见问题和解决办法真空镀膜机的一些常见问题与解决办法随着镀膜技术的快速增长，各种类型的真空镀膜机也开始逐渐出现。
但是论起薄膜的均匀性，恐怕所有的真空设备镀制的薄膜的均匀性都会受到某种因素影响，现在我们就溅控溅射镀膜机来看看造成不均匀的因素有哪些。
对此，真空镀膜机厂家指出，它的运作原理其实很简单。
就是通过真空状态下正交磁场使电子轰击氩气形成的氩离子再轰击靶材，靶材离子沉积于工件表面成膜。
如此车灯镀膜机厂家就该考虑与膜层厚度的均匀性有关的有真空状态、磁场、氩气这三个方面。
真空状态就需要抽气系统来控制的，每个抽气口都要同时开动并力度一致，这样就可以控制好抽气的均匀性，如果抽气不均匀，在真空室内的压强就不能均匀了，压强对离子的运动是存在一定的影响的。
另外抽气的时间也要控制，太短会造成真空度不够，但太长又浪费资源，不过有真空机的存在，要控制好还是不成问题的（1）真空镀膜对环境的要求。
加工真空镀膜工艺衬底(基片)表面的清洁处理很重要。
基片进入镀膜室前均应进行认真的镀前清洁处理，达到工件去油、去污和脱水的目的。
基片表面污染来自零件在加工、传输、包装过程所粘附的各种粉尘、润滑油、机油、抛光膏、油脂、汗渍等物;零件表面在潮湿空气中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的气体。
真空镀膜厂家这些污物基本上均可采用去油或化学清冼方法将其去掉。
对经过清洗处理的清洁表面，不能在大气环境中存放，要用封闭容器或保洁柜贮存，以减小灰尘的沾污。
用刚氧化的铝容器贮存玻璃衬底，可使碳氢化合物蒸气的吸附减至最小。
因为这些容器优先吸附碳氢化合物。
对于高度不稳定的、对水蒸气敏感的表面，一般应贮存在真空干燥箱中。
清除镀膜室内的灰尘，设置清洁度高的工作间，保持室内高度清洁是镀膜工艺对环境的基本要求。
空气湿度大的地区，除镀前要对基片、真空室内各部件认真清洗外，还要进行烘烤除气。
要防止油带入真空室内，注意油扩散泵返油，对加热功率高的扩散泵必须采取挡油措施。
真空镀膜常见问题真空镀膜是一种常见的表面处理技术，广泛应用于各个行业。
它可以提供一种均匀、耐磨、耐腐蚀的保护层，使物体表面具有更好的光学性能、机械性能和化学稳定性。
然而，在进行真空镀膜过程中，也会遇到一些常见问题。
本文将介绍一些常见的真空镀膜问题，并提供相应的解决方法。
1. 沉积速率不稳定：在真空镀膜过程中，沉积速率的稳定性是非常重要的。
如果沉积速率不稳定，可能会导致镀层厚度不均匀，甚至出现漏镀或过镀现象。
解决这个问题的方法是检查真空系统的泵速是否稳定，检查镀膜材料的纯度是否达到要求，以及检查镀膜设备是否存在漏气现象。
2. 镀层附着力不好：镀层附着力不好是真空镀膜过程中常见的问题之一。
这可能是由于基材表面存在污染物或氧化物，也可能是由于镀层材料与基材之间的相互作用不良所致。
解决这个问题的方法是在进行镀膜前对基材进行彻底的清洗和处理，确保基材表面干净无污染物，并选择合适的镀膜材料和工艺参数。
3. 镀层色差：在一些特殊应用中，需要得到均匀且具有一定颜色的镀层。
然而，在真空镀膜过程中，可能会出现镀层色差的问题，即部分区域的镀层颜色与其他区域不一致。
解决这个问题的方法是调整镀膜设备的工艺参数，确保沉积过程中温度、压力和沉积速率的均匀性，并选择合适的镀膜材料和镀膜工艺。
4. 镀层厚度不均匀：在一些应用中，需要得到均匀且具有一定厚度的镀层。
然而，在真空镀膜过程中，可能会出现镀层厚度不均匀的问题，即部分区域的镀层厚度较大或较小。
解决这个问题的方法是调整镀膜设备的工艺参数，确保沉积过程中温度、压力和沉积速率的均匀性，并对基材进行适当的旋转或倾斜，以提高镀层厚度的均匀性。
5. 镀层质量不理想：在真空镀膜过程中，可能会出现镀层质量不理想的问题，即镀层表面存在气孔、裂纹、颗粒等缺陷。
解决这个问题的方法是检查真空系统的泵速是否稳定，检查镀膜材料的纯度是否达到要求，以及检查镀膜设备是否存在漏气现象。
此外，还可以调整镀膜设备的工艺参数，改变沉积速率和温度等条件，以改善镀层质量。
镀膜产品常见不良分析随着现代科技的发展，镀膜技术被广泛应用于各种领域，如光学、电子、航空、汽车等。
然而，在生产和使用过程中，镀膜产品可能会出现一些不良现象，影响其性能和品质。
下面将对镀膜产品常见的不良进行分析。
1.膜层缺陷：镀膜产品的关键是涂层的质量。
常见的膜层缺陷有气泡、裂纹、均匀性差等。
气泡形成主要是因为基材表面有污垢或油脂，镀膜过程中没有很好去除干净，导致气泡的产生。
裂纹则是由于镀膜时的应力超过了基材的承受力，使涂层出现裂纹。
而均匀性差是因为涂层沉积不均匀，可能是镀膜工艺参数不合理或设备故障所致。
2.色差：对于镀膜产品来说，色差是一个重要的质量指标。
常见的色差包括单一颜色不均匀、无色差不均匀、色差偏差等。
单一颜色不均匀是指镀膜产品的颜色在不同区域具有差异，可能是因为工艺参数不合理或设备故障导致沉积不均匀。
无色差不均匀则是指镀膜产品在从中心到边缘的区域没有明显的颜色差异，可能是因为沉积不均匀或基材不平整。
色差偏差是指镀膜产品的颜色与要求的颜色有一定差距，可能是因为工艺参数调整不当或材料不合格。
3.光学性能不佳：镀膜产品的主要功能是改善光学性能，如增透、增反射、滤波等。
但是，不良的光学性能可能导致光的损失、不那么透明或反射不均匀等问题。
其中，光学透过率不佳可能是因为膜层的折射率不符合要求、沉积过程中有杂质或气泡等。
光学反射率不均匀可能是因为镀膜过程中的控制不准确，导致薄膜厚度不一致或反射率不稳定。
4.耐久性差：镀膜产品通常需要具备一定的耐久性，能够在使用过程中保持其性能稳定。
然而，有时镀膜产品可能会出现脱层、氧化、变色等问题，导致其耐久性下降。
脱层通常是由于涂层与基材之间的附着力不强，可能是因为沉积工艺不合理或基材表面未处理好。
氧化和变色则是由于镀膜产品在长期暴露于氧气、水蒸气或其他化学物质中，使涂层发生化学反应而导致。
总结起来，镀膜产品常见的不良现象包括膜层缺陷、色差、光学性能不佳和耐久性差等。
真空镀膜产品常见不良分析、改善对策一、膜强度膜强度是镜片镀膜的一项重要指标，也是镀膜工序最常见的不良项。
膜强度的不良（膜弱）主要表现为：①擦拭或用专用胶带拉撕，产生成片脱落；②擦拭或用专用胶带拉撕，产生点状脱落；③水煮15分钟后用专用胶带拉撕产生点状或片状脱落；④用专用橡皮头、1Kg力摩擦40次，有道子产生；⑤膜层擦拭或未擦拭出现龟裂纹、网状细道子。
改善思路：基片与膜层的结合是首要考虑的，其次是膜表面硬度光滑度以及膜应力。
膜强度不良的产生原因及对策：①基片与膜层的结合。
一般情况，在减反膜中，这是膜弱的主要原因。
由于基片表面在光学冷加工及清洗过程中不可避免地会有一些有害杂质附着在表面上，而基片的表面由于光学冷加工的作用，总有一些破坏层，深入在破坏层的杂质（如水汽、油汽、清洗液、擦拭液、抛光粉等，其中水汽为主要），很难以用一般的方法去除干净，特别对于亲水性好，吸附力强的基片尤其如此。
当膜料分子堆积在这些杂质上时，就影响了膜层的附着，也就影响了膜强度。
此外，如果基片的亲水性差、吸附力差，对膜层的吸附也差，同样会影响膜强度。
硝材化学稳定性差，基片在前加工过程中流转过程中，表面已经受到腐蚀，形成了腐蚀层或水解层（也许是局部的、极薄的）。
膜层镀在腐蚀层或水解层上其吸附就差，膜牢固度不良。
基片表面有脏污、油斑、灰点、口水点等，局部膜层附着不良，造成局部膜牢固度不良。
改善对策：㈠加强去油去污处理，如果是超声波清洗，应重点考虑去油功能，并保证去油溶液的有效性；如若是手擦，可考虑先用碳酸钙粉擦拭后再清擦。
㈡加强镀前烘烤，条件许可，基片温度能达到300℃以上更好，恒温20分钟以上，尽可能使基片表面的水汽、油汽挥发。
*注意：温度较高，基片吸附能力加大，也容易吸附灰尘。
所以，真空室的洁净度要提高。
否则基片在镀前就有灰尘附着，除产生其它不良外，对膜强度也有影响。
（真空中基片上水汽的化学解吸温度在260℃以上）。
但不是所有的零件都需要高温烘烤，有的硝材温度高了反而膜强度不高还会有色斑产生。
这与应力以及材料热匹配有较大的关系。
㈢有条件时，机组安装冷凝机（PLOYCOLD），除提高机组真空抽速外，还可以帮助基片水汽、油气去除。
㈣提高蒸镀真空度，对于1米以上的镀膜机，蒸镀启动真空应高于3*10-3Pa，镀膜机越大，蒸镀启动真空更高。
㈤有条件时，机组安装离子源，镀前轰击，清洁基片表面，镀膜过程辅助，有利于膜层的密实牢固。
㈥膜料的去潮，将待用膜料用培养皿盛放在真空室干燥。
㈦保持工作环境的干燥（包括镜片擦拭、上伞工作区），清洁工作环境时不能带入过多的水汽。
㈧对于多层膜，在膜系设计时，就要考虑第一层膜与基片的匹配，尽可能考虑用Al2O3膜料，该膜料对大部分基片有较好的吸附力。
对于金属膜，也可考虑第一层镀Cr或Cr合金。
Cr或Cr 合金对基片也有较好的吸附力。
㈨采取研磨液（抛光液）复新去除镜片表面的腐蚀层（水解层）㈩有时候适当降低蒸发速率对膜强度的提高有帮助，对提高膜表面的光滑度有积极意义。
②膜层应力：薄膜的成膜过程，是一个物质形态的转变过程，不可避免地在成膜后的膜层中会有应力存在，对于多层膜来说有不同膜料的组合，各膜层体现出的应力是有所不同的，有的是张应力、有的是压应力，还有膜层及基片的热应力。
应力的存在对膜强度是有害的，轻者是膜层耐不住摩擦，重者，造成膜层的龟裂或网状细道子。
对于减反膜，由于层数不多，应力一般体现不明显，（但有些硝材的镜片即便是减反膜也有应力问题存在。
）而层数较多的高反膜、滤光膜，应力是一个常见的不良因素，应特别注意。
改善对策：㈠镀后烘烤，最后一层膜镀完后，烘烤不要马上停止，延续 10分钟“回火”。
让膜层结构趋于稳定。
㈡降温时间适当延长，退火时效。
减少由于真空室内外温差过大带来的热应力。
㈢对高反膜、滤光膜等在蒸镀过程中，基片温度不宜过高，高温易产生热应力。
并且对氧化钛、氧化钽等膜料的光学稳定性有负面作用。
㈢镀膜过程离子辅助，减少应力。
㈣选择合适的膜系匹配，第一层膜料与基片的匹配。
（如五层减反膜采用Al2O3-ZrO2-Al2O3-Al2O3-ZrO2-MgF2；ZrO2也可以采用SV-5（一种ZrO2 TiO2混和膜料）或其他混合高折射率膜料。
㈤适当减小蒸发速率（Al2O3-2.5A/S;ZrO2-3A/S;MgF2-6A/S参考速率）㈥对氧化物膜料全部充氧反应镀，根据不同膜料控制氧进气量。
③外层膜表面硬度：减反膜一般外层选用MgF2，该膜层剖面是较松散的柱状结构，表面硬度不高，容易擦拭出道子。
改善对策：㈠膜系设计允许时，外层加10nm左右的SiO2层，二氧化硅的表面光滑度优于氟化镁（但二氧化硅表面耐磨度、硬度不如氟化镁）。
镀后离子轰击几分钟，牢固度效果会更好。
（但表面会变粗）㈡镜片出真空室后，放置在较干燥洁净的地方，防治快速吸潮，表面硬度降低。
④其它造成膜强度不良的原因还有，真空度过低（在手动控制的机台容易发生）、真空室脏、基片加热不到位。
辅助气体充入时，膜料也在放气致使真空度降低，使分子自由程减少，膜层不牢。
所以辅助气体的充入要考虑膜料的放气，镀前对膜料充分预熔充分放气，也可以避免由于蒸镀中膜料放气造成真空度过度下降，从而影响膜强度。
⑤脱膜这里的脱膜虽然也是膜弱的一种，但与前述的脱膜有一些区别，主要特征为：点状脱膜、边缘脱膜、局部脱膜。
主要原因使膜内有脏或污染物所造成的。
改善方法：提高基片的洁净度。
二、膜料点膜料点不良也是镀膜产品的一个常见问题，在日企、台企把膜料点称为“斑孔”顾名思义，膜料点就是蒸镀中，大颗粒膜料点随着膜料蒸汽分子一起蒸镀到了基片的表面，在基片表面形成点状的突起，有时是个别点，严重时是成片的细点，大颗粒点甚至可以打伤基片表面。
各种膜料的蒸发特性是不一样的，特别是熔点温度和蒸发温度有很大差异熔点温度大于蒸发温度的材料，由固态直接气化蒸发，是升华材料；熔点温度小于蒸发温度的材料，由固态先化成液态尔后在转换成气态蒸发，是非升华材料；熔点温度与蒸发温度相当的材料，由固态到气态蒸发，边融化边蒸发。
是半升华材料。
其中非升华材料最容易产生膜料点，因为液态的膜料继续加热会沸腾，沸腾中膜料中的气泡溢出，飞溅膜料点的可能性加大。
有时在材料预熔时就有很大的飞溅。
膜料受潮，预熔或蒸镀时水汽逸出，也会造成飞溅产生。
下表是几种常用膜料的升华特性材料名称熔点温度蒸发温度飞溅可能备注ZnS 1900 1100 极小SiO21700 1600 很小Al2O32020 2100 小ZrO22715 2700 小TiO21850 2000 大Ta2O51800 2100 较大MgF21266 1540 大膜料不纯、膜料参杂，即膜料中有了熔点温度、蒸发温度不一致的材料，这也是膜料点产生的原因。
改善思路：选用好的膜料、充分预溶、控制速率。
改善对策：㈠选择杂质少的膜料㈡对易飞溅的膜料选择颗粒合适的膜料㈢膜料在镀前用网筛筛一下㈣精心预熔，MgF2务必熔透一次蒸镀所需膜料，而Ta2O5和TiO2必须彻底熔透。
㈤用一把电子枪镀制几种膜料时，防治坩埚转动中膜料参杂及挡板掉下膜料渣造成膜料污染。
一旦发现坩埚膜料有污染，应立即更换。
㈥尽最大可能使蒸发舟、坩埚干净。
（勤打扫）。
㈦选择合适的蒸发速率及速率曲线的平滑。
特别是非升华材料，蒸发速率不宜高。
㈧膜料去潮，将待用膜料用培养皿盛放在真空室干燥注意：有时膜层内有一些细小的点子，有可能不是膜料点，而是灰尘点，处理的方法与膜料点不良是不同的，应严格区分，分别处理。
三、膜色差异膜色差异有二种（不包含色斑），一种是整罩上、中、下膜色不一致，即分光测试曲线有差异；二是单片膜色不一致。
1．上中下膜色不一致称为整伞（罩）均匀性不好，也称有伞差。
主要产生原因是均匀性修正板（补正板）有问题。
2．伞片变形。
也是膜色不匀的原因之一，特别是使用了较久的伞片，以往是均匀的，慢慢变得不均匀了，伞片变形就可能是主要原因了。
3．膜料状况的不一致，特别是升华和半升华膜料被打偏，挖坑等也会严重影响整罩和单片的均匀性。
特别是有大量手工预熔时，各人的操作手法不一，得到的料况也会不一。
改善思路：充分采用修正板的功能。
改善对策：㈠调整修正板，尽量考虑高低折射率膜料的平衡兼容，如果有二个蒸发源，可能的条件下，独立使用各自的修正板，避免干扰。
㈡条件许可，采用行星夹具。
㈢伞片整形，对伞片整形可以先加工一个R基模（选择强度较高的原材料），在基模上对伞片整形。
为防止减少伞片变形，在伞片订购时对伞片的厚度、原材料选择要合适。
㈣加强伞片管理，特别是摆放时的管理，防止因摆放不当而变形。
㈤改善膜料状况，特别是电子枪蒸镀升华、半升华材料时，不能把膜料打塌，挖坑。
㈥能够自动预熔的膜料，尽量自动预熔，减少人为因素影响。
▲修正板对物理膜厚的修正很有效，但对折射率的修正是力不从心的，所以完全靠修正板解决分光均匀性，是很困难的。
▲如果一个修正板要对应二把电子枪（蒸发源）、以及多种膜料，就会有较大的困难。
对于单片膜色不均匀产生的原因：主要是由于基片凹凸严重，与伞片曲率差异较大，基片上部、或下部法线与蒸发源构成的蒸发角差异较大。
造成一片镜片上各部位接受膜料的条件差异大，形成的膜厚差异大。
另外镜片被镜圈（碟片）边缘部遮挡、镜圈（碟片）脏在蒸镀时污染镜片等等也会造成膜色差异问题。
改善思路：改善镜片边缘的蒸发角。
改善对策：㈠条件许可，用行星夹具；㈡选用伞片平坦（R大）的机台；㈢根据伞片孔位分布，基片形状，制作专门的锯齿形修正板。
㈣如果有可能，把蒸发源往真空室中间移动，也可改善单片的膜色均匀性。
㈤改善镜圈（碟片），防止遮挡。
㈥注意旋转伞架的相应部位对边缘镜片的部分遮挡㈦清洁镜圈（碟片）㈧改善膜料蒸发状况。
四、膜脏（也称白压克）顾名思义，膜层有脏。
一般的膜脏发生在膜内或膜外。
脏可以包括：灰尘点、白雾、油斑、指纹印、口水点等。
（灰尘点和白雾单列）改善思路：检讨过程，杜绝脏污染。
改善对策：㈠送交洗净或擦拭的镜片不要有过多的不良附着物；㈡加强镀前镜片的洗净率或擦净率；㈢改善上伞后待镀镜片的摆放环境，防治污染；㈣养成上伞作业员的良好习惯，防治镜片污染（指纹印、口水点及其它）；㈦加快真空室护板更换周期；㈧充气管道清洁，防治气体充入时污染；㈨初始排气防涡流（湍流），初始充气防过冲；㈩镜片摆放环境和搬运过程中避免油污、水汽（磨边、超声波清洗）污染。
（十一）工作环境改造成洁净车间（十二）将镀膜机作业面板和主机隔开，减少主机产生的有害物质污染镜片。
四/1、灰点脏现象：镜片膜层表面或内部有一些点子（不是膜料点）有些可以擦除，有的不能擦除。
并且会有点状脱膜产生。
产生原因：1、真空室脏，在开始抽真空时的空气涡流将真空室底板、护板的脏灰带到镜片上，形成灰点层。
