真空镀膜过程中常见问题分析

ITO镀膜常见问题总汇现在的企业中，工业化的ITO镀膜生产，多是运用真空磁控溅射技术来完成的。

真空镀膜技术无论从时间上，还是从生产运用上说，都还是一种新型的镀膜工艺。

在我们ITO镀膜生产过程中，或多或少都会遇到各种各样的，人为的或者设备方面的问题。

而且很多问题往往不是单一的，而是几个问题相互作用相互影响形成的。

下面就根据以前ITO生产工作中的经历，总结出的一些ITO镀膜可能会遇到的问题。

一、镀膜过程中设备传输速度不平稳在这种情况下，会导致镀在基片上的ITO膜，厚度不均匀，用四探针进行测量时，会发现同时镀出来的基片，膜面各点方块电阻不一致，从而导致生产出来的镀膜产品，工艺达不到相应的要求。

这种情况，可以通过改进设备，或者通过调节传动中提供动力的伺服电机的转速，来逐渐的改变膜的均匀。

二、膜面放电镀膜在真空室里放电现象在实际的生产中会时常遇到的现象主要原因如下1、基片距离靶材过于接近。

靶材和基片距离大于15cm基本就没有问题。

2、靶面、真空室、基片不清洁，具有尖端放电现象。

这需要在每次的生产前和生产结束后，分别对箱体、靶材进行彻底的清理，并且在每次生产的时候，基片进镀膜室前必须保证清洗干净。

3、反应气体过多，溅射气体较少，使得箱体内化学反应过于强烈而溅射达不到要求。

由于现在用于ITO生产的靶材都是陶瓷靶，其中氧化铟锡中的比例已达到要求，在具体的生产中，可以根据工艺情况，少通或者不通反应气体氧气，只对溅射的箱体提供溅射气体氩气。

三、ITO靶材中毒1、靶材在空气中长期放置，导致表面生成氧化物。

2、冷却水失效，导致靶材温度过高。

这种情况下问题严重的可能导致熔靶，使靶材从基板脱落。

定期对冷却水道进行清理疏通。

3、箱体密封不严，有漏气现象，导致有杂质气体，另外箱体的气流也不平稳，所镀膜的工艺个达不到要求。

每次抽气后都要进行严格的检漏，保证箱体密封完好。

4、处置不当。

刚刚工作过的靶，在没有充分冷却就放气，也可能导致靶中毒。

浅谈真空镀膜生产中常见问题及解决方法作者：陈龙来源：《科学与财富》2019年第19期摘要：从上个世纪三十年代，真空镀膜技术产生，该项技术由于优势极高，性能良好，因此受到了各个领域的广泛应用。

当前，可以从使用功能方面对其进行划分，分为功能性镀膜和装饰性镀膜两个方面，其中，装饰性镀膜主要是采取塑料制品，真空蒸发镀膜则是应用各种泵体对镀膜真空室进行抽取，转换成高真空状态，镀膜材料从以往的固态转变为离子状态，离子状态的膜材和塑料基材结合形成膜层。

而为了避免金属膜层出现严重的腐蚀现象，对于相关膜层来讲，必须做好保护膜的处理工作。

在当前阶段中，我国的灯具塑料零部件表面镀膜通常是使用真空蒸发镀膜的方式，不过，需要明确注意，控制好设备的使用状态，因为一不小心的话，就会使得膜层表面受损，发生质量问题。

基于此，本文主要以真空镀膜生产期间存在的问题为主，提出了一系列的解决对策。

关键词：真空镀膜；生产环节；存在的问题；解决方式在现有的汽车和灯具领域内，塑料基材表面一般是应用镀膜工艺，从实际情况来看，该项工艺有着极高的作用，既可以增强材料的使用性能，与此同时，还可以确保产品外表的美观性。

其中，经常使用的处理工艺包含了多个方面，分别是真空离子镀镀膜工艺、电镀工艺以及真空热蒸发等。

本文从真空蒸发镀膜工艺入手，有效探究了真空镀膜日常生产期间的不足之处，根据实际情况制定了有关的解决方式。

1、镀膜存在着发黄现象1.1存在的问题在镀膜时发生发黄现象之后，大体上表现为两点，分别是产品表面受热程度比较高，真空室内真空度比较低。

通过探究得出，产生这一现象的实质性原因表现在以下几个方面：①产品接受热量比较高，表面呈现出了发黄现象；引发这一情况的原因是因为镀膜蒸发时电流升高，使得热量下降比较明显。

设置出来的镀保护膜功率比较大，热量上涨较快，而且过程时间设定值比较长，热量随之增加。

②镀膜机真空室真空度比较低，产品表面逐渐发黄；其一，镀膜开始真空度参数值不高。

真空镀膜膜层脱落原因真空镀膜技术是一种常用的表面处理技术，它可以将金属、陶瓷、玻璃等材料在真空条件下镀上一层薄膜，从而改变其表面性质、增强其耐腐蚀性和耐磨性等。

然而，在使用过程中，有时会发现膜层出现脱落现象，这不仅会降低膜层的使用寿命，还会影响产品的质量和性能。

本文将探讨真空镀膜膜层脱落的原因。

一、基材表面处理不当在真空镀膜过程中，基材表面的处理对膜层的附着力至关重要。

如果基材表面存在油污、灰尘、氧化皮等污染物，将会影响膜层的附着力，导致脱落。

因此，在进行真空镀膜前，必须对基材表面进行彻底的清洗和处理，确保表面干净、平整、无污染。

二、真空度不足真空度是影响真空镀膜质量的重要因素之一。

在真空镀膜过程中，如果真空度不足，将会导致膜层中含有气体和水分，从而影响膜层的附着力和质量。

此外，真空度不足还会导致膜层中产生气泡和裂纹，加速膜层的脱落。

因此，在进行真空镀膜前，必须保证真空度达到一定的要求，以确保膜层的附着力和质量。

三、材料选择不当真空镀膜的材料种类繁多，不同的材料具有不同的物理和化学性质，对应的膜层也会有所差异。

如果选择不当的材料进行镀膜，将会导致膜层与基材之间的结合力不足，从而容易脱落。

因此，在进行真空镀膜前，必须根据产品的需求和使用环境选择合适的材料进行镀膜，以确保膜层的附着力和质量。

四、工艺参数不当真空镀膜是一项复杂的工艺，其中涉及到多个工艺参数，如沉积速率、沉积温度、离子束能量等。

如果这些参数设置不当，将会影响膜层的附着力和质量，甚至导致膜层脱落。

因此，在进行真空镀膜前，必须根据产品的需求和材料的特性，合理设置工艺参数，以确保膜层的附着力和质量。

五、外力作用在使用过程中，膜层可能会受到外力的作用，如撞击、摩擦、拉伸等。

如果外力作用过大，将会导致膜层的破坏和脱落。

因此，在使用过程中，必须注意保护膜层，避免外力的作用。

综上所述，真空镀膜膜层脱落的原因是多方面的，需要从基材表面处理、真空度、材料选择、工艺参数和外力作用等方面加以注意和控制。

真空热蒸发镀膜的故障原因和处理方法关键词：真空,故障,处理1．镀铝层阳极氧化故障的排除氧化层表面有点状痕迹(1)预熔时电流过高或未加挡板。

应适当降低预熔电流及加设挡板。

(2)蒸发电流过高。

应适当降低氧化层表面有流痕印迹(1)镀件表面清洁不良。

应加强清洁处理。

(2)擦拭镀件时蘸用乙醇过多。

应减少乙醇的蘸用量。

(3)手指接触镀件表面后留下指印。

应禁止手指接触镀件表面。

(4)唾液喷溅到镀件表面，使镀层表面产生圈状印迹。

操作者应带上口罩氧化层表面有灰点(1)真空室底盘或室壁太脏。

应使用乙醇擦拭干净。

(2)夹具太脏。

应按工艺规程定期清洗夹具氧化层表面发红(1)阳极氧化电压偏低，氧化层厚度不够。

应将电压提高到120V左右。

(2)氧化时间太短，导致阳极氧化后表面发红。

应适当延长氧化时间氧化层表面发花(1)氧化电压太高，氧化层部分发蓝。

应适当降低电压。

(2)各氧化点的电压或氧化时间不相同。

应使各氧化点的电压和氧化时间保持一致。

(3)电解液温度太高。

应适当降低氧化层表面发黄(1)氧化电压太高，氧化层太厚。

应适当降低电压。

(2)氧化时间太长。

应适当缩短。

(3)氧化点太多。

应适当减少氧化层表面有灰白细点(1)溶液中铝含量增加。

应更换部分溶液。

(2)电解液温度太高。

应适当降低。

(3)镀件水洗不足，表面残留电解液，在水分或潮湿气体作用下形成灰白色的氢氧化铝细点。

应将氧化后的镀件表面用蒸馏水洗净电解液，然后擦干，最好是将氧化后的镀件擦干后放人无水乙醇中浸1-2h，然后加温到12．0~C保温数小时氧化后镀层起泡脱落(1)镀件表面油a8未除净。

应加强脱脂处理。

(2>真空度太低。

应适当提高蒸发时的真空度。

由于铝是易氧化的金属，又容易吸收氧，在低真空度下蒸发，会因吸收剩余气体而形成茶褐色的氧化膜，导致反射率降低，镀层易起泡脱落。

通常预熔的真空度为0．067Pa；蒸镀装饰性的铝膜，蒸发时的真空度可适当低一些，一般和预熔的真空度相同；蒸镀质量要求高的铝膜，真空度应当高一些，一般为(4—6．7)x10”h。

真空镀膜常见的不良分析及改善对策一、膜强度膜强度是镜片在镀膜的一项重要指标，也是镀膜工序最常见的不良。

膜强度的不良（膜弱）主要表现为：1)擦拭或用专用的胶带拉撕，产生成片的脱落；2)擦拭或用专用的胶带拉撕，产生点状的脱落；3)水煮15分钟后用专用的胶带拉撕产生点状或片状的脱落；4)用专用橡皮头、1KG力摩擦40次，有道子产生；5)膜层擦拭或未擦拭出现龟裂、网状细道子。

改善思路：基片与膜层的结合是首要考虑的，其次是膜表面硬度光滑度以及膜应力的因素。

膜强度不良的产生原因及对策；1)基片与膜层的结合；一般情况，在减反膜中，这是膜弱的主要原因，由于基片表面在光学领加工及清洗过程中不可避免地会有以下有害杂质附着在表面伤，而基片的表面由于光学冷加工的作用，总有一些破坏层，深入破坏曾的杂质（如水汽、油气、清洗液、擦拭液、抛光粉等，其中水汽为主），很难以用一般的方法去除干净，特别对于亲水性好的材料，吸附力强的基片尤其如此，当膜料分子堆积在这些杂质上面时，就影响了膜层的附着，也就影响了膜强度。

此外，如果基片的亲水性差、吸附力差，对膜层的吸附差，同样会影响膜强度。

硝材化学稳定性差，基片在前加工过程中流转过程中，表面已经受到腐蚀，形成了腐蚀层或水解层（也许是局部的、极薄的）。

膜层镀在腐蚀层或水解层上其吸附就差，膜牢固度会受到影响。

基片表面有脏污、油斑、灰点、口水等，局部膜层附着不良，造成局部膜牢固度不良。

改善对策：a)加强去油去污处理，如果是超声波清洗，应重点考虑去油功能，并保证去油溶液的有效性，如若是手擦，可考虑先用碳酸钙粉擦拭后再清擦；b)加强镀前烘烤，条件许可，基片温度能达到300℃以上最好，恒温20分钟以上，尽可能使基片表面的水汽、油气挥发。

温度过高时基片的附着力变大，同时也容易吸附灰尘，因此需要提高真空室清洁度，真空室基片上的水汽化学解析温度在260℃以上。

不是所有的零件都需要高温烘烤，有的硝材温度高了反而膜强度不高，还会有色斑产生，这与应力及材料热匹配有较大的关系；c)设备机组安装冷凝机（POLYCOLD），可以提高机组抽真空的能力的同时帮助去除水汽、油气；d)设备安装离子源，镀前轰击，清洁基片表面，镀膜过程辅助更有利于提高膜层密度；e)镀膜辅耗去潮湿，膜料可以存放特制的干燥柜或真空干燥柜中；f)保持工作区域环境干燥，清洁环境时不能有太多的水，环境保持恒温恒湿状态；g)薄膜设计是考虑第一层膜与基片的匹配，尽可能的使用与基片吸附力强的膜料，例如：增透膜使用AL2O3、金属膜使用CR或CR合金；h)镀前采取研磨液（抛光液）重复手动擦拭抛光，去除表面的腐蚀层和水解层；i)增透膜可以适当的降低蒸发速率，提高膜层光洁度，金属膜提高速率，或者提高设备的真空度，对于基片到蒸发源大于1米以上的镀膜机，蒸镀开始真空度应高于3*10-3Pa，镀膜机越大，蒸镀开启真空越高越好；2)膜层应力；薄膜的成膜过程，是一个物质形态转变的过程，不可避免的在成膜后的膜层中会有应力的存在，对于多层膜来说有不同的膜料组合，各膜层体现出的应力是有所不同的，有的是张应力，有的是压应力，还有膜层及基片的热应力。

真空镀膜产品常见不良分析改善对策真空镀膜是一种常用的表面处理技术，用于制备具有特殊功能的薄膜材料。

然而，在生产过程中，可能会出现一些不良现象。

本文将就真空镀膜产品常见的不良分析及改善对策进行详细探讨。

常见的真空镀膜产品不良包括颗粒、结晶、气泡、色差等。

不良颗粒是指在膜层上出现的小颗粒，其主要原因是杂质或金属粉尘污染所致。

结晶是指在薄膜材料中出现的晶体颗粒，可能是由于过高的沉积温度或金属原料纯度不高所导致。

气泡是指在薄膜材料中形成的气体团块，可以是由于杂质带入、沉积过程中的溶解气体发生释放等原因产生的。

色差是指薄膜材料颜色不均匀或与预期颜色不符合。

针对这些不良现象，可以进行以下改善对策。

首先，对于颗粒问题，可以加强对原料的筛选和净化处理，以确保杂质和粉尘的最小化。

其次，在真空镀膜过程中，增加清洗步骤，确保表面洁净无尘。

同时，加强对真空设备的维护和清洁，避免设备本身引入污染物。

另外，对于结晶问题，可以通过调整沉积温度和沉积速率来控制晶体生长，同时提高金属原料的纯度。

对于气泡问题，可以通过增加沉积时间、降低沉积温度、增加补偿气体等方式来减少气泡的生成。

对于色差问题，则需要进行颜料配方的优化和调整，确保膜层的颜色均匀一致。

此外，还可以通过加强人员培训和质量管理，改善操作技术和工艺控制，以减少不良现象的发生。

总结起来，真空镀膜产品常见的不良包括颗粒、结晶、气泡、色差等，其原因涉及原料污染、工艺参数控制不当等。

针对这些不良现象，可以采取一系列的改善对策，如加强原料筛选和净化，增加清洗步骤和设备维护，调整沉积温度和速率，优化配方和加强质量管理等，以提高真空镀膜产品的质量。

真空镀膜的常见问题和解决办法第一篇：真空镀膜的常见问题和解决办法真空镀膜机的一些常见问题与解决办法随着镀膜技术的快速增长，各种类型的真空镀膜机也开始逐渐出现。

但是论起薄膜的均匀性，恐怕所有的真空设备镀制的薄膜的均匀性都会受到某种因素影响，现在我们就溅控溅射镀膜机来看看造成不均匀的因素有哪些。

对此，真空镀膜机厂家指出，它的运作原理其实很简单。

就是通过真空状态下正交磁场使电子轰击氩气形成的氩离子再轰击靶材，靶材离子沉积于工件表面成膜。

如此车灯镀膜机厂家就该考虑与膜层厚度的均匀性有关的有真空状态、磁场、氩气这三个方面。

真空状态就需要抽气系统来控制的，每个抽气口都要同时开动并力度一致，这样就可以控制好抽气的均匀性，如果抽气不均匀，在真空室内的压强就不能均匀了，压强对离子的运动是存在一定的影响的。

另外抽气的时间也要控制，太短会造成真空度不够，但太长又浪费资源，不过有真空机的存在，要控制好还是不成问题的（1）真空镀膜对环境的要求。

加工真空镀膜工艺衬底(基片)表面的清洁处理很重要。

基片进入镀膜室前均应进行认真的镀前清洁处理，达到工件去油、去污和脱水的目的。

基片表面污染来自零件在加工、传输、包装过程所粘附的各种粉尘、润滑油、机油、抛光膏、油脂、汗渍等物;零件表面在潮湿空气中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的气体。

真空镀膜厂家这些污物基本上均可采用去油或化学清冼方法将其去掉。

对经过清洗处理的清洁表面，不能在大气环境中存放，要用封闭容器或保洁柜贮存，以减小灰尘的沾污。

用刚氧化的铝容器贮存玻璃衬底，可使碳氢化合物蒸气的吸附减至最小。

因为这些容器优先吸附碳氢化合物。

对于高度不稳定的、对水蒸气敏感的表面，一般应贮存在真空干燥箱中。

清除镀膜室内的灰尘，设置清洁度高的工作间，保持室内高度清洁是镀膜工艺对环境的基本要求。

空气湿度大的地区，除镀前要对基片、真空室内各部件认真清洗外，还要进行烘烤除气。

要防止油带入真空室内，注意油扩散泵返油，对加热功率高的扩散泵必须采取挡油措施。

书山有路勤为径；学海无涯苦作舟
真空镀铝薄膜的制作及常见问题的解决
真空镀铝薄膜如VMPET（聚酯镀铝）、VMBOPP（双向拉伸聚丙烯镀铝）、VMCPP（流延聚丙烯镀铝）、VMCPE（聚乙烯镀铝）、VMPVC(聚氯乙烯镀铝)等以优异的机械物理、导电及光学美学性能，被广泛地应用于食品、医药、种子、农药、通讯、电子、化工及军工等领域的包装材料。

随着新技术的开发与应用，镀铝薄膜及其延伸材料如KVMPET、KVMBOPP、VMPVC 等集高阻隔、卫生、无味、经济、环保等功能于一体，愈来愈受到市场及业内人士的青睐，被誉为软包装材料的一支奇葩。

本文就镀铝薄膜的制作工艺、质量检测及常见质量问题的解决方法，镀铝薄膜在储存、运输、使用过程中的注意事项与软包装同行共同探讨。

一．制作工艺
真空镀铝是在真空状态下，将铝金属加热熔融至蒸发，铝原子凝结
在高分子材料表面，形成极薄的铝层。

1．对基材的要求
真空镀铝要求基材表面清洁光滑、平整、厚度均匀；挺度和摩擦系
数适当；表面润湿张力大于38dyn/cm；热性能好，经得起蒸发源的热辐射和冷凝热的作用；基材含水量低于0.1%。

2．对设备的要求
要求真空系统的极限真空度达10-3pa，且不断工作，将膜卷放出的
气体抽出；抽真空时间小于20min；收、放卷张力恒定；冷却系统的工作温度在-15~35℃范围，制冷时间小于25min；膜卷收卷平整。

3．工艺要求
真空度不得低于10-3pa，以免出现褐色条纹或铝层厚度不均现象；
专注下一代成长，为了孩子。

真空镀膜常见问题真空镀膜是一种常见的表面处理技术，广泛应用于各个行业。

它可以提供一种均匀、耐磨、耐腐蚀的保护层，使物体表面具有更好的光学性能、机械性能和化学稳定性。

然而，在进行真空镀膜过程中，也会遇到一些常见问题。

本文将介绍一些常见的真空镀膜问题，并提供相应的解决方法。

1. 沉积速率不稳定：在真空镀膜过程中，沉积速率的稳定性是非常重要的。

如果沉积速率不稳定，可能会导致镀层厚度不均匀，甚至出现漏镀或过镀现象。

解决这个问题的方法是检查真空系统的泵速是否稳定，检查镀膜材料的纯度是否达到要求，以及检查镀膜设备是否存在漏气现象。

2. 镀层附着力不好：镀层附着力不好是真空镀膜过程中常见的问题之一。

这可能是由于基材表面存在污染物或氧化物，也可能是由于镀层材料与基材之间的相互作用不良所致。

解决这个问题的方法是在进行镀膜前对基材进行彻底的清洗和处理，确保基材表面干净无污染物，并选择合适的镀膜材料和工艺参数。

3. 镀层色差：在一些特殊应用中，需要得到均匀且具有一定颜色的镀层。

然而，在真空镀膜过程中，可能会出现镀层色差的问题，即部分区域的镀层颜色与其他区域不一致。

解决这个问题的方法是调整镀膜设备的工艺参数，确保沉积过程中温度、压力和沉积速率的均匀性，并选择合适的镀膜材料和镀膜工艺。

4. 镀层厚度不均匀：在一些应用中，需要得到均匀且具有一定厚度的镀层。

然而，在真空镀膜过程中，可能会出现镀层厚度不均匀的问题，即部分区域的镀层厚度较大或较小。

解决这个问题的方法是调整镀膜设备的工艺参数，确保沉积过程中温度、压力和沉积速率的均匀性，并对基材进行适当的旋转或倾斜，以提高镀层厚度的均匀性。

5. 镀层质量不理想：在真空镀膜过程中，可能会出现镀层质量不理想的问题，即镀层表面存在气孔、裂纹、颗粒等缺陷。

解决这个问题的方法是检查真空系统的泵速是否稳定，检查镀膜材料的纯度是否达到要求，以及检查镀膜设备是否存在漏气现象。

此外，还可以调整镀膜设备的工艺参数，改变沉积速率和温度等条件，以改善镀层质量。

真空镀膜机常见的故障和维修办法
当真空镀膜机出现故障后应首先要向使用者了解故障的现象，之后要亲自开机观察故障，这样才能更准确、更快、更合理的排除故障。

当真空镀膜机排除故障应先检测低真空是否正常（机械泵、罗茨泵、管道、下室、蒸发室），低真空正常后再开主泵，主泵正常后检测下室真空中是否正常，下室真空正常再开高阀进行高真空检测检漏，直至达到真空，极限真空、保真空、恢复真空，如极限真空和保真空正常，而恢复真空和真空不正常则可能主泵有问题。

以下列举真空镀膜机常见故障及维修方法：
一、当正在镀膜时真空度突然下降
1、蒸发源水路胶圈损环（更换胶圈）
2、坩埚被打穿（更换坩埚）
3、高压电极密封处被击穿（更换胶圈）
4、工转动密封处胶圈损坏（更换胶圈）
5、预阀突然关闭可能是二位五通阀损坏（更换二位五通阀）
6、高阀突然关闭可能是二位五通阀损坏（更换二位五通阀）
7、机械泵停机可能是继电器断开（检查继电器是否正常）
8、烘烤引入线电极密封处被击穿（更换胶圈）
9、挡板动密封处胶圈损坏（更换胶圈）
10、玻璃观察视镜出现裂纹、炸裂（更换玻璃）
二、长期的镀膜机抽真空的时间很长且达不到真空、恢复真空、极限真空、保真空：
1、蒸发室有很多粉尘（应清冼）
2、扩散泵很久未换油（应清冼换油）
3、前级泵反压强太大机械泵真空度太低（应清冼换油）
4、各动密封胶圈损坏（更换胶圈）
5、由于蒸发室长期温度过高使其各密封胶圈老化（更换胶圈）
6、蒸发室各引入水路密封处是否有胶圈损坏（更换胶圈）
7、各引入座螺钉、螺母有无松动现象（重新压紧）
8、高低预阀是否密封可靠（注油）
常见的真空镀膜机维修办法就先分享到这里了。

真空热蒸发镀膜的故障原因和处理方法关键词：真空,故障,处理1．镀铝层阳极氧化故障的排除氧化层表面有点状痕迹(1)预熔时电流过高或未加挡板。

应适当降低预熔电流及加设挡板。

(2)蒸发电流过高。

应适当降低氧化层表面有流痕印迹(1)镀件表面清洁不良。

应加强清洁处理。

(2)擦拭镀件时蘸用乙醇过多。

应减少乙醇的蘸用量。

(3)手指接触镀件表面后留下指印。

应禁止手指接触镀件表面。

(4)唾液喷溅到镀件表面，使镀层表面产生圈状印迹。

操作者应带上口罩氧化层表面有灰点(1)真空室底盘或室壁太脏。

应使用乙醇擦拭干净。

(2)夹具太脏。

应按工艺规程定期清洗夹具氧化层表面发红(1)阳极氧化电压偏低，氧化层厚度不够。

应将电压提高到120V左右。

(2)氧化时间太短，导致阳极氧化后表面发红。

应适当延长氧化时间氧化层表面发花(1)氧化电压太高，氧化层部分发蓝。

应适当降低电压。

(2)各氧化点的电压或氧化时间不相同。

应使各氧化点的电压和氧化时间保持一致。

(3)电解液温度太高。

应适当降低氧化层表面发黄(1)氧化电压太高，氧化层太厚。

应适当降低电压。

(2)氧化时间太长。

应适当缩短。

(3)氧化点太多。

应适当减少氧化层表面有灰白细点(1)溶液中铝含量增加。

应更换部分溶液。

(2)电解液温度太高。

应适当降低。

(3)镀件水洗不足，表面残留电解液，在水分或潮湿气体作用下形成灰白色的氢氧化铝细点。

应将氧化后的镀件表面用蒸馏水洗净电解液，然后擦干，最好是将氧化后的镀件擦干后放人无水乙醇中浸1-2h，然后加温到12．0~C保温数小时氧化后镀层起泡脱落(1)镀件表面油a8未除净。

应加强脱脂处理。

(2>真空度太低。

应适当提高蒸发时的真空度。

由于铝是易氧化的金属，又容易吸收氧，在低真空度下蒸发，会因吸收剩余气体而形成茶褐色的氧化膜，导致反射率降低，镀层易起泡脱落。

通常预熔的真空度为0．067Pa；蒸镀装饰性的铝膜，蒸发时的真空度可适当低一些，一般和预熔的真空度相同；蒸镀质量要求高的铝膜，真空度应当高一些，一般为(4—6．7)x10”h。

真空镀膜膜层脱落原因
真空镀膜的膜层脱落常见的原因有以下几种：
1.基材表面处理不当。

在真空镀膜之前，基材表面必须经过充分
清洗、去污、除油等处理工序，以保证膜层与基材之间的附着力。

如
果基材表面没有得到足够的清洁和处理，且未与薄膜材料良好结合，
则会导致膜层脱落。

2.薄膜材料本身质量差。

薄膜材料的选择也是影响膜层质量和脱
落的重要因素。

如果使用的薄膜材料质量差且与基材表面亲和力不强，则膜层易脱落或者在使用过程中容易受损。

3.运行条件控制不当。

真空镀膜在运行过程中需要控制承载基材
的温度、真空度、镀膜速度及镀膜气氛等多个参数，如果这些参数控
制不当，也会造成膜层脱落。

4.机器设备及工艺流程不足。

真空镀膜设备和工艺流程的选择和
控制，对于膜层质量和脱落问题也有很大影响。

如果设备和流程不足，可能会影响膜层粘附力和均匀性，造成膜层脱落的问题。

.镀膜机常见故障及分析解决预防措施一. 常见故障,问题及解决方法下表对一些镀膜时常见的故障、真空度问题、及掉膜和膜质问题做了一些简单分析 , 并给予解决方案及预防措施 .故障点1.高压和束流故障现象故障原因解决及预防措施备注1.1. 开枪有高压， 1.灯丝保险烧断 1.检查灯丝保险，烧断则更换立即无束流2.灯丝烧断 2.保险正常则检查灯丝更换枪关高3.南光枪枪体右边引体.压线碰到枪体底坐 3.调整引线与枪体底坐的间距. 在抽气前检查枪体 .1.2. 开高压显示跳 1.束流控制调在手动， 1.电位器归零 . 在预熔完后应立即动幅度大，并有束电位器未归零将灯丝电位器归零关高流跳动 2.枪体短路 2.将连接灯丝变压器的高压引压3.高压电极保护罩或线取下（注意引线不能碰到机屏蔽碰到高压引线造器应悬空）开高压，正常则枪成短路体或高压电极保护罩或屏蔽短4.电柜故障路造成3.放气检查电极保护罩或屏蔽4.检修电柜1.3. 开枪无高压， 1.高压保护不到位（偏 1.检查相应的高压保护无束流转. 真空. 柜门） 2.检修高压控制电路2.高压电路出问题1.4. 镀膜时高压会 1.真空继电器烧坏 1.更换真空继电器常见 4下跌2.高压电路出问题 2.检修高压电路号机1.5. 镀膜时灯丝突 1.BT138 可控硅被击 1.更换 BT138常见 4然很亮 ( 束流达到穿 2.检查枪体号机满格 ) 2.枪体短路1.6 有高压，有灯 1.栅极片短路 1.整理枪体丝电流，无光斑 2.扫描出问题或扫描 2.检修扫描，正确连接扫描线线接反了1.7. 束流上不去， 1.灯丝位置不正或变 1.重新安装或更换灯丝 . 为了达不到以前的水平形更好的对灯丝定形及延长灯丝（同样功率达不到 2.灯丝被氧化使用寿命 , 在更换新灯丝后应以前的速率） 3.连接枪体的各接头对灯丝进行预热处理松动 2.更换灯丝 . 为防止灯丝氧化4.坩埚转速太快在放气前应注意检查关闭灯丝5.材料被污染电源开关6.晶片被挡住 3.拧紧各连接处 .4.调整坩埚转速5.取出被污染的材料或更换新材料6.调整晶片挡板位置 . 抽气应.17.电柜出问题查晶片是否被挡7.检修电柜1.8. 阻蒸电流调不 1.蒸发舟烧断或松掉 1.更换蒸发舟或拧紧螺钉. 为上去造成接触不良了防止接触不良，各电极和压2.空气开关跳闸块应清洗干净 . 更换在蒸发舟3.调节电流的电位器时应将铜压块取下砂干净再安坏了装蒸发舟4.铜电极与真空室底 2.打开空气开关板下的引线接触不良 3.更换电位器4.清洁磨平接触不良的地方并拧紧螺钉1.9. 速率不稳定 1. 晶片失效 1.选择好的晶片，1.2 枪的速率2.料面不好要匹配3.功率设置不合理 2.料要加平整，养成停坩埚的4.控制参数 PID 设置好习惯不合理 3. 预熔功率及最大功率设置合5.灯丝接触不好或老理(最大功率为略大于蒸发时化所需功率）6. 高压打火 4.设置合理的 PID 参数5.紧固或更换灯丝6.解决打火现象.1.10. 高压打火 1. 枪体污染，杂物掉入 1.整理枪体，在吹枪体时应用枪体吸尘器边吸使吹出的杂物吸走2.各接线处未拧紧不被落在枪体里3.聚四氟套管太脏 2.拧紧各连接处，使其接触良4.枪体阳极，栅极变形好5.高压电极太脏 3.清洗或更换套管，应定时清6.屏蔽不佳或未屏蔽洗7.光斑位置不合理，扫 4.调整或更换阳极，栅极片描状态不好 5.更换高压电极8.2 枪高压干扰 6.调整屏蔽或加装屏蔽9.材料污染有杂物7.调整好光斑，检查扫描10.高压打在 10KV8. 蒸镀 1 枪时应关闭 2 枪高压11.预熔不够充分9. 将被污染的材料去除或更换12.功率设置不合理新材料10. 将高压调在正确的档位（中档 8KV）. 在触摸屏上操作时 ( 如调整坩埚转速时) 应注意是否误碰到高压调节档位11. 预熔时间及加的束流应合理（束流最后应加到接近镀第一套时所需束流坩锅转一到两圈）12. 设置合理的功率, 预熔功率不应太大 , 最大功率应与速率相匹配 , 注意在第一套时速率较小时功率的设置22. 扫 2.1.光斑不能调整 1.扫描引线或线圈短 1.检查引线及线圈 , 引线间不描和路能碰在一起 , 抽气前应检查引光斑 2.整流桥击穿线是否互相触碰和松动3.引线或线圈断路 2.更换整流桥4.遥控盒上的连线松 3.检查引线及线圈脱或电位器坏了 4.接好连线或更换电位器2.2光斑及扫描状 1.灯丝变形 1.更换灯丝态不好 2.极靴位置不正 2.调整极靴位置 . 在拆下清洗3.扫描频率不合适时要做好记号避免安装时位置4.短路条多或少了 , 位不正置不好 3.调整合适频率 , 频差和密度5.高压档位不对 4.调整短路条的位置及数量6.扫描连接线有误 5.调整正确的高压档位6.正确连接扫描线 , 维修时应做好记号3. 坩 3.1坩埚转动不灵 1. 坩埚周边间隙太小 1.调整坩埚周边的间隙埚和或不转 2. 坩埚间隙有材料 ( 卡 2.清理间隙中的材料 . 注意料工转料)不要加得太高 , 预熔时数量不3.轴承锈死要加得太快 , 防止材料飞溅掉4.减速器出问题入间隙里使坩埚卡住或转得不5.电机出问题顺畅6.防污底板顶到坩埚 3.清洗或更换轴承 . 在打扫真(2 枪)空室及洗机时应将坩埚下面的7.连接键脱落料渣清除 , 防止料渣太多影响轴承的性能4.检查减速器5.维修或更换电机6.调整好大门底板的位置( 稍高于坩埚 ), 关门时感到异常( 如较平时紧 ) 应检查底板及防污板的位置7.重新安装好键3.2工转噪音大 , 1. 电机轴承坏了 1.更换电机轴承晃动大 2.大轴承干磨性能下 2.清洗或更换大轴承降 3.将电机与减速箱连接好3.电机与减速箱连接4.更换齿轮不好4.传动齿轮磨损3.3工转转不了 1. 电机损坏 1.更换电机2.电机与传动部分的 2.重装或更换键键脱落或磨损 3.更换齿轮3.传动的齿轮磨损4.更换或维修单向器 (2 楼)4.单向器坏了5.检修电路5.电路出问题33.4.工转电压调不 1.调节电位器损坏 1.更换电位器上 , 电压显示指针 2.控制器出问题 2.检修控制器跳动大 3.工转传动不稳 3.维修传动部分4.碳刷接触不良 4.整理碳刷接触面或更换5.电压表有问题 5.维修或更换电压表4. 阀 4.1.阀门打不开 1.气压不够 1.调高气压到适当位置门 2. 控制阀门的气动阀 2.维修或更换气动阀有问题 3.检查与其互锁的阀门. 应注3.阀门间互锁意阀门指示灯显示关闭但实际阀门并未关闭的现象4.2.阀门打开后会 1.气压不够 1.调高气压到合适位置自动关闭 2. 气动阀阀芯内的橡 2.更换阀芯或气动阀4.3. 放气取膜 , 放 1.高阀没关到位 1.检查高阀没关到位的原因,气阀打不开 2.放气阀的气动阀有不能强行手动关闭问题 2.更换或维修气动阀5. 真 5.1. 在镀膜过程中 1.高阀 , 预阀等阀门自 1.检查气压是否正常, 正常则空度真空度突然下跌动关闭是相应的阀门问题, 一般为气2.扩散泵断相或跳闸动阀的阀芯松脱3. 坩埚卡料强行转动 2.合上闸刀 , 断相表现为三相造成漏气指示灯有一或两个灯不亮,更换电炉盘3.维修坩埚 , 当卡料时不能强行转坩5.2. 低真空突然抽 1.机械泵掺气阀没关 1.关闭掺气阀不动 2.真空室门压到东西 2.检查大门密封 . 关门抽气时3.并路阀 ( 旁通阀 ), 截应检查大门是否压到东西或密止阀自动关闭封圈上有杂物4.机械泵出问题 3.检查相应的阀门及控制阀门5.罗茨泵出问题的气动阀和气压6.管道漏气 4.维修机械泵7. 机械泵上的机放阀 5.维修罗茨泵漏气 6.维修管道8.真空室漏气7.更换或维修机放阀8.按 5.4 步骤检漏5.3 抽气慢 1.真空室太脏 , 没换防 1.更换防污板或清洗真空室污板 2.清洗扩散泵 ( 大约一年洗一2.扩散泵太久没洗次 )3. 扩散泵出气口挡油 3.调整挡油板板被吸起 4.给机械泵掺气或换油4.机械泵没掺气5.调节真空表基准或更换真空5. 真空测量表基准不表准 6.检修机械泵 , 罗茨泵6.机械泵 , 罗茨泵有问题47. 真空室暴露在大气7.尽量减少敞大气时间, 玻片时间过长或玻片未烘应完全烘干干8.按 5.4 步骤检漏8.漏气5.4. 真空度低 1. 真空表测量不准 1.更换真空表2.真空规管测量口被 2.关闭高阀 , 若此时真空室真百叶窗挡住空度比较稳定 , 则放气调整百3.真空室大门没关好叶窗的位置4.真空泵出问题 3.用酒精注射大门密封看真空5.管道漏气度变化 , 如有变化则放气整理6.动密封如坩埚, 工真空室门密封转 , 观察窗 , 挡板等密 4.维修或更换真空泵封漏气 5.维修管道7. 洗机或维修时动过 6.更换或重装动密封的部件或附近有松动快速连续转动看真空度是否8.堵头没装好有较大的变化 , 有则是该转动9.通了水的如坩埚 , 工部动密封有问题转, 探头等地方有漏点7.检查动过的部件及附近, 确10. 高阀 , 低阀气缸漏认后紧固气8.用酒精注射堵头, 若真空度11. 金属焊缝漏有变化则紧固或重装该堵头9.通过用高压气来冲水管看真空度是否有变化 , 有则检查水路10. 通过开关高阀 , 低阀或用酒精注射阀门确认后更换阀体或密封圈11. 用酒精注射各焊缝来确认是否有漏 , 有则补焊焊缝6. 掉 6.1. 掉膜 1.真空室或玻片潮湿 1.烘烤玻片及防污板的时间要膜问（更换防污板后）适当题 2. 玻片没洗干净 2.用干净的布清洗好玻片, 清3.更换新玻片 , 玻片上洗时应认真仔细有油污 3.先用洗洁精清洗干净玻片,4.真空度低再用清水将玻片冲洗干净5.打火严重 , 造成膜厚 4.检漏不均匀引起应力大 5.解决打火现象6.真空室有油污 6.清洗真空室7.蒸发速率过高7.降低速率到合适位置8.脱膜剂镀得过多8.减少脱膜剂的厚度9. 扩散泵返油造成高9.擦洗高阀盖及冷井. 给扩散阀盖及冷井处有油污泵加热时间不能少于90分钟.6.2. 周一掉膜严重 1.洗机时产生的一些 1.用酒精仔细擦干净真空室且膜质不好粉尘在抽气时飞到玻 2.延长轰击时间 , 防污板应彻片上底烘干后才装入真空室2. 洗机时的潮气及防污板的潮气未干.7.膜 7.1. 膜质发黑不亮 1.U5 材料镀少了 ( 有 1. 适当增加 U5 厚度质泽时有银灰色 ) 2.调节光斑和扫描频率2.2 枪光斑能量太散3.适当减少 U3 厚度( 扫描频率有问题 ) 4.将 2 枪坩埚位置移到适当位3.U3 材料镀多了 ( 膜置质稀烂 ) 5.更换新料4.2 枪坩埚位置不合 6.检查真空度适5.U5 材料太旧或氧化6. 真空度低7.2. 膜发银 1.U5 材料镀多了 1.适当减少 U5 厚度2. 跳程序或假速率造 2.发现时应适当加镀一些U5,成 U5 材料没镀上或镀在镀 2.6 层时应特别注意有无少此现象3.U3 材料蒸发过快造 3.镀 U3 材料时速率不要过高 ,成 U5 没镀上或镀少镀完 U3材料时应稍微停顿 5 秒再镀 U57.3. 膜质发硬 , 打 1. 玻片太脏 1.仔细清洗玻片 , 玻片放入真卷 2. 玻片表面光洁度差空室经抽气未使用应更换或清3.U3 材料镀的过少洗后才能使用 . 应打扫完真空室卫生后再装玻片 , 减少污染2.更换好的玻片3.适当增加 U3 厚度8. 膜8.1. 晶片失效 1. 晶片使用寿命已到 1.更换好的晶片 . 在用超声波厚控 2. 晶片压簧损坏清洗晶片时应注意打晶片的时制仪 3. 连接探头的各接触间及方法 , 延长晶片的使用寿点接触不良命4. 探头冷却水过小或 2.更换晶片压簧 . 在取压簧时水温过高应轻拿轻放5. 探头挡板碰到工 3.整理各连接处4.调大探头冷却水流量或开启冷冻机降水温 , 水温小于 28 度5.调在探头挡板与工转的距离8.2. 开始镀膜控制 1. 程序清零 1.重新设置程序 . 在操作膜厚仪无工作 2. 没选择到镀膜程控制仪时动作不应过快, 控制仪要有良好的接地2.选择好镀膜程序 . 在调程序时应注意光标是否在对应的镀膜程序上8.3. 手动遥控盒不 1. 连接控制仪的接头 1.接好接头受控没接好 2.焊好接线 . 在用遥控时应注2. 遥控盒上的按键的意连线不要用力过大拉扯连线接线脱焊.9. 其9.1. 开枪镀膜时发 1.晶片被挡住 1. 放气整理 . 关门抽气时应检他现膜厚仪上没速率 2.枪挡板未打开查晶片是否被挡显示 3.高压没开 2. 修理挡板3. 打开高压64.束流控制调在手动 4.将束流控制调的自动9.2. 枪挡板打不开 1.气压不够 1.调高气压到合适位置2.控制挡板的气动阀 2.维修或更换气动阀坏了 3.重新装上键或螺钉3.气缸与挡板轴的连接键或螺钉脱落二. 一些基础知识及注意事项和应急措施1.膜厚控制仪控制参数Soak power1---- 预熔功率 1 约为蒸发功率的一半Soak power2---- 预熔功率 2 也称预蒸镀功率略小于最大功率Maxpower----最大功率Dep Rate ----蒸发速率Final Thk----膜厚（波长）Soak time----预熔时间Rise time----功率上升时间Density ----材料密度检测膜厚原理通过改变探头上晶片的频率（由于膜的蒸发改变了其重量，所以其震动频率发生变化）来计算膜厚，而探头所处的位置和工具因数的设置都影响到测试精度，探头的位置和测试膜厚的关系如小：(1).探头高了,测试得到的厚度<实际得到的膜厚(玻片上厚度)(2).探头低了,测试得到的厚度>实际得到的膜厚(玻片上厚度)(3).工具因数调高,相当于探头位置降低,所以膜厚要增加2.膜和材料间的关系2.1.U5 吸收杂光 , 影响膜质和亮度 . 镀的过多 , 膜会发银 ; 镀的过少 , 膜发黑 , 不亮泽 , 有银色 ; 没镀上 , 则为银白2.2.U3脱膜剂,影响膜质.镀的过多,膜质稀烂,易脱落;镀的过少,膜会打卷,发硬2.3.SiO2决定颜色2.4.U6基层,影响膜的鲜艳度和亮度3.均匀性3.1. 径向均匀性 : 同一玻片上部与下部的不均匀 , 与光斑的调节、材料的料面、坩埚转速和转向、玻片的曲率有关3.2.重复均匀性:同一锅膜的每一套间的不均匀, 与真空度的高低、操作者看颜色有关3.3. 整体均匀性 : 同一套膜四块玻片上的均匀性 , 与光斑的稳定性、工转的转速和蒸发速率的匹配、真空度的高低、径向均匀性有关4.灯丝问题4.1.放气时要记住关灯丝电源, 以免氧化灯丝4.2. 初次使用或更换新灯丝 , 应进行灯丝预热定型处理 , 以防灯丝加热过快变形 . 预热时 , 高压关闭 , 直接加热灯丝 , 缓慢加灯丝电流 , 由几安培加至 15A 时, 维持 3-5 分钟4.3.灯丝安装a. 灯丝不宜太高或太低 : 太高会造成光斑不可调 , 容易打烂栅极和阳极片 ; 太低会造成光斑能量太散 , 不易蒸发.c.各个压块、引线的接触面应清洗干净避免造成接触不良d.打紧螺钉时应松紧适当，太松会接触不良，太紧会造成“滑丝”5.轰击条件：真空度 4.0Pa 到 8.0Pa 之间时间:20到30分钟轰击棒应用 240#砂纸砂干净再用酒精擦一遍再装入真空室轰击完后关闭轰击开关 , 取轰击棒时应带手套或用包住轰击棒以免被烫伤6.换机械泵油将油放干净 , 把出气口的盖板取下 , 然后取下挡油板 , 用布将机械泵油腔内擦干净 ( 特别注意死角地方 ), 擦干净后倒点新油盖住出气口开机械泵运行 20 秒将油放出 , 这样反复做两到三次 , 洗干净后即可加油 . 加油应加到观察油窗伤两条红线之间 ( 油加少了会造成机械泵的抽气性能下降 , 油加多了会造成抽气时油喷出来 ). 油加好后将挡油板 , 盖板依次装好 .7.应急措施7.1.突然停电首先将设备总电源开关关闭 ( 防止突然恢复电力所有用电设备工作造成电流冲击过大 ), 然后将所有开关复位 , 处在关的状态 ( 开关弹起为关的状态 ), 等待电力恢复如果长时间电力无法恢复应将扩散泵电炉盘取下 , 用湿布放在扩散泵四周使其冷却 . 设备循环水关小 , 防止停电时间过长导致循环水无法循环使水流失7.2. 停水首先应关闭扩散泵 , 将扩散泵电炉盘取下 , 用湿布放在扩散泵四周使扩散泵冷却关闭各阀门及机械泵 , 不能让其长时间在无冷却水的状态下工作导致设备损坏7.3. 停气气压低于0.43Mpa 时阀门会自动关闭, 此时应将各阀门开关复位处在关的状态( 开关弹起为关 ). 如果长时间无法恢复供气 , 则将扩散泵 , 机械泵等运作的设备关闭 , 关扩散泵 15 分钟后打开扩散泵快冷冷却扩散泵。

卷绕真空镀膜厚度不均匀的原因
卷绕真空镀膜厚度不均匀的原因可能有以下几个方面：
1. 不同工作区的尺寸差异：如果待镀膜的产品尺寸差异较大，可能会影响镀膜的均匀性。

例如，面积较小的产品电流密度大，镀层就会较厚，而面积较大的产品电流密度小，镀层就会较薄。

2. 机架接触不良：如果机架的接触不良，实际电流密度会降低，导致镀层变薄。

3. 真空度和磁场强度不均匀：在磁控溅射镀膜过程中，真空度和磁场强度的不均匀会影响膜层的均匀性。

4. 氩气供应不均匀：氩气供应的不均匀会导致真空室内压强变化，从而影响膜层的均匀性。

为了解决这些问题，可以采取以下措施：
1. 尽量保持待镀膜产品的尺寸一致，避免过大或过小的尺寸差异导致电流密度不均。

2. 定期检查和维护机架，确保接触良好，电流能够顺畅通过。

3. 控制好真空度和磁场强度，确保其在所需范围内，以保证膜层的均匀性。

4. 优化氩气供应系统，使氩气供应更加均匀，以控制好真空室内压强变化。

此外，熟练操作真空镀膜机，控制好各项参数，也能提高真空镀膜的均匀性。

真空镀膜连续生产线的工作原理及故障分析摘要：随着科技的发展，光电技术的应用已经深入到各行各业。

光电技术应用的必需设备是真空镀膜机。

真空镀膜机已经由最初的复杂化；手动化发展到现在的简单化；智能化。

真空镀膜设备是电子工业元器件生产和研制过程中广泛应用的设备，是目前应用电子技术蒸发获得真空条件最为广泛的设备。

本文主要论述了真空镀膜机器连续生产的工作原理及故障分析。

关键词：真空；镀膜；连续生产线；工作原理；故障分析1.真空镀膜机的简介真空镀膜机有三种形式：蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

1.1.蒸发镀膜蒸发镀膜通过对某种物质进行加热蒸发使这种物质再沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。

蒸发物质可以是金属、化合物等，把这些物质放在坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，等镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前，系统抽至高真空后，加热坩埚使当中的物质蒸发。

1.2.溅射镀膜溅射镀膜是用高能粒子轰击固体表面，使固体表面的粒子能够获得能量并且逸出表面，最后沉积在基片上。

一般把沉积的材料制成板材靶，固定在阴极上，基片放在正对靶面的阳极上，但是票距靶几厘米，不能太近。

当系统抽到高真空后，充入一定量的气体（一般为氩气），在阴极和阳极之间加上几千伏的电压，那么两极之间就会产生辉光放电。

放电产生的正离子在电场的作用下飞向阴极，与靶表面的原子发生一定的碰撞，受到碰撞后，从靶面逸出的靶原子称为溅射原子，它的能量在一至几十伏电子的范围，之后溅射原子就会在基片表面沉积形成膜。

与蒸发镀膜有所不同，溅射镀膜不受膜材熔点的限制，可溅射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等难熔的物质。

采用磁控溅射可使沉积速率比非磁控溅射提高近一个数量级。

1.3.离子镀离子镀蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面，称为离子镀（这种方法用的比较少，就不做介绍了）。

2.真空镀膜机连续生产的基本原理电子枪高压电源是真空镀膜机这种大型设备比较复杂而且容易出故障的部分，想要真空镀膜机能连续生产就必须保证电子枪高压源的连续。