镀膜机常见故障及分析解决预防措施

镀膜机常见故障及分析解决预防措施一.常见故障,问题及解决方法下表对一些镀膜时常见的故障、真空度问题、及掉膜和膜质问题做了一些简单分析,并给予解决方案及预防措施.12346二.一些基础知识及注意事项和应急措施1. 膜厚控制仪控制参数Soak power1----预熔功率1 约为蒸发功率的一半Soak power2----预熔功率2 也称预蒸镀功率略小于最大功率Maxpower ----最大功率Dep Rate ----蒸发速率Final Thk ----膜厚（波长）Soak time----预熔时间Rise time ----功率上升时间Density ----材料密度检测膜厚原理通过改变探头上晶片的频率（由于膜的蒸发改变了其重量，所以其震动频率发生变化）来计算膜厚，而探头所处的位置和工具因数的设置都影响到测试精度，探头的位置和测试膜厚的关系如小：(1).探头高了,测试得到的厚度<实际得到的膜厚(玻片上厚度)(2).探头低了,测试得到的厚度>实际得到的膜厚(玻片上厚度)(3).工具因数调高,相当于探头位置降低,所以膜厚要增加2. 膜和材料间的关系2.1.U5吸收杂光,影响膜质和亮度.镀的过多,膜会发银;镀的过少,膜发黑,不亮泽,有银色;没镀上,则为银白2.2.U3脱膜剂,影响膜质.镀的过多,膜质稀烂,易脱落;镀的过少,膜会打卷,发硬2.3.SiO2决定颜色2.4.U6基层,影响膜的鲜艳度和亮度3. 均匀性3.1.径向均匀性:同一玻片上部与下部的不均匀,与光斑的调节、材料的料面、坩埚转速和转向、玻片的曲率有关3.2.重复均匀性:同一锅膜的每一套间的不均匀,与真空度的高低、操作者看颜色有关3.3.整体均匀性:同一套膜四块玻片上的均匀性,与光斑的稳定性、工转的转速和蒸发速率的匹配、真空度的高低、径向均匀性有关4. 灯丝问题4.1.放气时要记住关灯丝电源,以免氧化灯丝4.2.初次使用或更换新灯丝,应进行灯丝预热定型处理,以防灯丝加热过快变形.预热时,高压关闭,直接加热灯丝,缓慢加灯丝电流,由几安培加至15A时,维持3-5分钟4.3.灯丝安装a.灯丝不宜太高或太低:太高会造成光斑不可调,容易打烂栅极和阳极片;太低会造成光斑能量太散,不易蒸发b.栅极片应略低于阳极片c.各个压块、引线的接触面应清洗干净避免造成接触不良d.打紧螺钉时应松紧适当，太松会接触不良，太紧会造成“滑丝”5. 轰击条件：真空度4.0Pa到8.0Pa之间时间:20到30分钟轰击棒应用240#砂纸砂干净再用酒精擦一遍再装入真空室轰击完后关闭轰击开关,取轰击棒时应带手套或用包住轰击棒以免被烫伤6. 换机械泵油将油放干净,把出气口的盖板取下,然后取下挡油板,用布将机械泵油腔内擦干净(特别注意死角地方),擦干净后倒点新油盖住出气口开机械泵运行20秒将油放出,这样反复做两到三次,洗干净后即可加油.加油应加到观察油窗伤两条红线之间(油加少了会造成机械泵的抽气性能下降,油加多了会造成抽气时油喷出来).油加好后将挡油板,盖板依次装好.7. 应急措施7.1. 突然停电首先将设备总电源开关关闭(防止突然恢复电力所有用电设备工作造成电流冲击过大),然后将所有开关复位,处在关的状态(开关弹起为关的状态),等待电力恢复如果长时间电力无法恢复应将扩散泵电炉盘取下,用湿布放在扩散泵四周使其冷却.设备循环水关小,防止停电时间过长导致循环水无法循环使水流失7.2.停水首先应关闭扩散泵,将扩散泵电炉盘取下,用湿布放在扩散泵四周使扩散泵冷却关闭各阀门及机械泵,不能让其长时间在无冷却水的状态下工作导致设备损坏7.3.停气气压低于0.43Mpa时阀门会自动关闭,此时应将各阀门开关复位处在关的状态(开关弹起为关).如果长时间无法恢复供气,则将扩散泵,机械泵等运作的设备关闭,关扩散泵15分钟后打开扩散泵快冷冷却扩散泵。

电阻蒸发镀膜机常见故障及处理方法
一、膜层发黑或变黄：
1、真空度低
1）系统泄漏（检漏）；
2）精抽阀不完全打开（检查气压、活塞）；
2、蒸发时间太长（控制镀膜时间）；
二、抽气周期变长：
1、滑阀泵工作不正常（检查泵油）；
2、漏气（检查密封圈）；
3、工作室内表面膜层太厚（清除膜层）；
三、膜层变薄：
1、铝丝太少（适当增加铝丝）；
2、蒸发电流小（加大电流）；
四、机械泵、滑阀泵返油：
1、电机反转（对调两相电源线）；
2、油太多（减少泵油）；
五、蜂鸣器报警：
1、水压不足（检查有无水压）；
2、压力控制器失灵（检查压力控制器）；
3、在触摸屏上进入“报警显示”界面查看相关报警信息；
六、电动机不转动：
1、断路器脱扣跳闸（检查线路后合上断路器）；
2、交流接触器不吸合理（检查或更换）；
七、蒸发电流上不去：
1、蒸发变压器故障（检查变压器）；
2、电极输入接触不良（检查输入电极）；
八、蒸发电流大且镀料不能完全蒸发：
1、蒸发电极间绝缘不好（清洗或更换绝缘材料）；
2、蒸发变压器故障（修理或更换蒸发变压器）；
九、气动阀门无动作：
1、气压不足（增加气压）；
2、电控换向阀及有关部件出毛病（检查电控换向阀、线路）；。

电镀常见的问题及解决方案
电镀过程中可能出现的问题及其解决方案如下：
1.针孔或麻点：这是由于前处理不良、有金属杂质、硼酸含量太少、镀液温度太低等原因造成的。

可以使用润湿剂来减小影响，并严格控制镀液维护及流程。

2.结合力低：如果铜镀层未经活化去氧化层，铜和镍之间的附着力就差，会产生镀层剥落现象。

因此，在电镀前应对基材进行适当的预处理，如酸洗、活化等。

3.镀层脆、可焊性差：这通常是由于有机物或重金属物质污染造成的。

添加剂过多会使镀层中夹带的有机物和分解产物增多，此时可以用活性炭处理或电解等方法除去重金属杂质。

4.镀层发暗和色泽不均匀：有金属污染可能是造成这一问题的原因。

应尽量减少挂具所沾的铜溶液，并在发现污染时立即处理。

5.镀层烧伤：这可能是由于硼酸不足、金属盐的浓度低、工作温度太低、电流密度太高、PH值太高或搅拌不充分等原因造成的。

需要检查并调整相关工艺参数，确保其处于合适的范围。

6.沉积速率低：PH值低或电流密度低都可能导致沉积速率低。

应检查并调整镀液的PH值和电流密度，以优化沉积速率。

7.其他问题：如辅助阳极的铜条未与生产板长度一致或已发粗，不允许再使用。

全板及图形镀后板需在24小时内制作下工序。

图形镀上板戴细纱手套，下板戴棕胶手套，全板上板戴橡胶手套，下板戴干燥的粗纱手套。

在处理电镀问题时，需要综合考虑多个因素，包括镀液成分、设备状况、操作条件等。

如遇到难以解决的问题，建议寻求专业人士的帮助。

真空镀膜常见的不良分析及改善对策一、膜强度膜强度是镜片在镀膜的一项重要指标，也是镀膜工序最常见的不良。

膜强度的不良（膜弱）主要表现为：1)擦拭或用专用的胶带拉撕，产生成片的脱落；2)擦拭或用专用的胶带拉撕，产生点状的脱落；3)水煮15分钟后用专用的胶带拉撕产生点状或片状的脱落；4)用专用橡皮头、1KG力摩擦40次，有道子产生；5)膜层擦拭或未擦拭出现龟裂、网状细道子。

改善思路：基片与膜层的结合是首要考虑的，其次是膜表面硬度光滑度以及膜应力的因素。

膜强度不良的产生原因及对策；1)基片与膜层的结合；一般情况，在减反膜中，这是膜弱的主要原因，由于基片表面在光学领加工及清洗过程中不可避免地会有以下有害杂质附着在表面伤，而基片的表面由于光学冷加工的作用，总有一些破坏层，深入破坏曾的杂质（如水汽、油气、清洗液、擦拭液、抛光粉等，其中水汽为主），很难以用一般的方法去除干净，特别对于亲水性好的材料，吸附力强的基片尤其如此，当膜料分子堆积在这些杂质上面时，就影响了膜层的附着，也就影响了膜强度。

此外，如果基片的亲水性差、吸附力差，对膜层的吸附差，同样会影响膜强度。

硝材化学稳定性差，基片在前加工过程中流转过程中，表面已经受到腐蚀，形成了腐蚀层或水解层（也许是局部的、极薄的）。

膜层镀在腐蚀层或水解层上其吸附就差，膜牢固度会受到影响。

基片表面有脏污、油斑、灰点、口水等，局部膜层附着不良，造成局部膜牢固度不良。

改善对策：a)加强去油去污处理，如果是超声波清洗，应重点考虑去油功能，并保证去油溶液的有效性，如若是手擦，可考虑先用碳酸钙粉擦拭后再清擦；b)加强镀前烘烤，条件许可，基片温度能达到300℃以上最好，恒温20分钟以上，尽可能使基片表面的水汽、油气挥发。

温度过高时基片的附着力变大，同时也容易吸附灰尘，因此需要提高真空室清洁度，真空室基片上的水汽化学解析温度在260℃以上。

不是所有的零件都需要高温烘烤，有的硝材温度高了反而膜强度不高，还会有色斑产生，这与应力及材料热匹配有较大的关系；c)设备机组安装冷凝机（POLYCOLD），可以提高机组抽真空的能力的同时帮助去除水汽、油气；d)设备安装离子源，镀前轰击，清洁基片表面，镀膜过程辅助更有利于提高膜层密度；e)镀膜辅耗去潮湿，膜料可以存放特制的干燥柜或真空干燥柜中；f)保持工作区域环境干燥，清洁环境时不能有太多的水，环境保持恒温恒湿状态；g)薄膜设计是考虑第一层膜与基片的匹配，尽可能的使用与基片吸附力强的膜料，例如：增透膜使用AL2O3、金属膜使用CR或CR合金；h)镀前采取研磨液（抛光液）重复手动擦拭抛光，去除表面的腐蚀层和水解层；i)增透膜可以适当的降低蒸发速率，提高膜层光洁度，金属膜提高速率，或者提高设备的真空度，对于基片到蒸发源大于1米以上的镀膜机，蒸镀开始真空度应高于3*10-3Pa，镀膜机越大，蒸镀开启真空越高越好；2)膜层应力；薄膜的成膜过程，是一个物质形态转变的过程，不可避免的在成膜后的膜层中会有应力的存在，对于多层膜来说有不同的膜料组合，各膜层体现出的应力是有所不同的，有的是张应力，有的是压应力，还有膜层及基片的热应力。

真空镀膜的常见问题和解决办法第一篇：真空镀膜的常见问题和解决办法真空镀膜机的一些常见问题与解决办法随着镀膜技术的快速增长，各种类型的真空镀膜机也开始逐渐出现。

但是论起薄膜的均匀性，恐怕所有的真空设备镀制的薄膜的均匀性都会受到某种因素影响，现在我们就溅控溅射镀膜机来看看造成不均匀的因素有哪些。

对此，真空镀膜机厂家指出，它的运作原理其实很简单。

就是通过真空状态下正交磁场使电子轰击氩气形成的氩离子再轰击靶材，靶材离子沉积于工件表面成膜。

如此车灯镀膜机厂家就该考虑与膜层厚度的均匀性有关的有真空状态、磁场、氩气这三个方面。

真空状态就需要抽气系统来控制的，每个抽气口都要同时开动并力度一致，这样就可以控制好抽气的均匀性，如果抽气不均匀，在真空室内的压强就不能均匀了，压强对离子的运动是存在一定的影响的。

另外抽气的时间也要控制，太短会造成真空度不够，但太长又浪费资源，不过有真空机的存在，要控制好还是不成问题的（1）真空镀膜对环境的要求。

加工真空镀膜工艺衬底(基片)表面的清洁处理很重要。

基片进入镀膜室前均应进行认真的镀前清洁处理，达到工件去油、去污和脱水的目的。

基片表面污染来自零件在加工、传输、包装过程所粘附的各种粉尘、润滑油、机油、抛光膏、油脂、汗渍等物;零件表面在潮湿空气中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的气体。

真空镀膜厂家这些污物基本上均可采用去油或化学清冼方法将其去掉。

对经过清洗处理的清洁表面，不能在大气环境中存放，要用封闭容器或保洁柜贮存，以减小灰尘的沾污。

用刚氧化的铝容器贮存玻璃衬底，可使碳氢化合物蒸气的吸附减至最小。

因为这些容器优先吸附碳氢化合物。

对于高度不稳定的、对水蒸气敏感的表面，一般应贮存在真空干燥箱中。

清除镀膜室内的灰尘，设置清洁度高的工作间，保持室内高度清洁是镀膜工艺对环境的基本要求。

空气湿度大的地区，除镀前要对基片、真空室内各部件认真清洗外，还要进行烘烤除气。

要防止油带入真空室内，注意油扩散泵返油，对加热功率高的扩散泵必须采取挡油措施。

镀膜产品常见不良分析、改善对策（文章虽长，值得品味）镀膜产品的不良，部分是镀膜工序的本身造成的，部分是前工程遗留的不良，镀膜最终的品质是整个光学零件加工的（特别是抛光、清洗）的综合反映，对策镀膜不良时必须综合考虑，才能真正找到不良产生的原因，对策改善才能取得成效。

一、膜强度膜强度是镜片镀膜的一项重要指标，也是镀膜工序最常见的不良项。

膜强度的不良（膜弱）主要表现为：① 擦拭或用专用胶带拉撕，产生成片脱落；② 擦拭或用专用胶带拉撕，产生点状脱落；③ 水煮15分钟后用专用胶带拉撕产生点状或片状脱落；④ 用专用橡皮头、1Kg力摩擦40次，有道子产生；⑤ 膜层擦拭或未擦拭出现龟裂纹、网状细道子。

改善思路：基片与膜层的结合是首要考虑的，其次是膜表面硬度光滑度以及膜应力。

膜强度不良的产生原因及对策：① 基片与膜层的结合。

一般情况，在减反膜中，这是膜弱的主要原因。

由于基片表面在光学冷加工及清洗过程中不可避免地会有一些有害杂质附着在表面上，而基片的表面由于光学冷加工的作用，总有一些破坏层，深入在破坏层的杂质（如水汽、油汽、清洗液、擦拭液、抛光粉等，其中水汽为主要），很难以用一般的方法去除干净，特别对于亲水性好，吸附力强的基片尤其如此。

当膜料分子堆积在这些杂质上时，就影响了膜层的附着，也就影响了膜强度。

此外，如果基片的亲水性差、吸附力差，对膜层的吸附也差，同样会影响膜强度。

硝材化学稳定性差，基片在前加工过程中流转过程中，表面已经受到腐蚀，形成了腐蚀层或水解层（也许是局部的、极薄的）。

膜层镀在腐蚀层或水解层上其吸附就差，膜牢固度不良。

基片表面有脏污、油斑、灰点、口水点等，局部膜层附着不良，造成局部膜牢固度不良。

改善对策：㈠加强去油去污处理，如果是超声波清洗，应重点考虑去油功能，并保证去油溶液的有效性；如若是手擦，可考虑先用碳酸钙粉擦拭后再清擦。

㈡加强镀前烘烤，条件许可，基片温度能达到300℃以上更好，恒温20分钟以上，尽可能使基片表面的水汽、油汽挥发。

真空镀膜常见问题真空镀膜是一种常见的表面处理技术，广泛应用于各个行业。

它可以提供一种均匀、耐磨、耐腐蚀的保护层，使物体表面具有更好的光学性能、机械性能和化学稳定性。

然而，在进行真空镀膜过程中，也会遇到一些常见问题。

本文将介绍一些常见的真空镀膜问题，并提供相应的解决方法。

1. 沉积速率不稳定：在真空镀膜过程中，沉积速率的稳定性是非常重要的。

如果沉积速率不稳定，可能会导致镀层厚度不均匀，甚至出现漏镀或过镀现象。

解决这个问题的方法是检查真空系统的泵速是否稳定，检查镀膜材料的纯度是否达到要求，以及检查镀膜设备是否存在漏气现象。

2. 镀层附着力不好：镀层附着力不好是真空镀膜过程中常见的问题之一。

这可能是由于基材表面存在污染物或氧化物，也可能是由于镀层材料与基材之间的相互作用不良所致。

解决这个问题的方法是在进行镀膜前对基材进行彻底的清洗和处理，确保基材表面干净无污染物，并选择合适的镀膜材料和工艺参数。

3. 镀层色差：在一些特殊应用中，需要得到均匀且具有一定颜色的镀层。

然而，在真空镀膜过程中，可能会出现镀层色差的问题，即部分区域的镀层颜色与其他区域不一致。

解决这个问题的方法是调整镀膜设备的工艺参数，确保沉积过程中温度、压力和沉积速率的均匀性，并选择合适的镀膜材料和镀膜工艺。

4. 镀层厚度不均匀：在一些应用中，需要得到均匀且具有一定厚度的镀层。

然而，在真空镀膜过程中，可能会出现镀层厚度不均匀的问题，即部分区域的镀层厚度较大或较小。

解决这个问题的方法是调整镀膜设备的工艺参数，确保沉积过程中温度、压力和沉积速率的均匀性，并对基材进行适当的旋转或倾斜，以提高镀层厚度的均匀性。

5. 镀层质量不理想：在真空镀膜过程中，可能会出现镀层质量不理想的问题，即镀层表面存在气孔、裂纹、颗粒等缺陷。

解决这个问题的方法是检查真空系统的泵速是否稳定，检查镀膜材料的纯度是否达到要求，以及检查镀膜设备是否存在漏气现象。

此外，还可以调整镀膜设备的工艺参数，改变沉积速率和温度等条件，以改善镀层质量。

光驰镀膜机离子源异常处理1. 关于光驰镀膜机离子源异常处理1.1 这个话题可谓是每个使用光驰镀膜机的人都需要关心的一个大问题啊！镀膜机不仅让我们的产品更亮眼，更花俏，更有魅力，更让人想要拥有，所以，镀膜机的正常运行对我们来说真的太太太太重要了！一旦离子源出了问题，那可真是不能忍受啊！2. 离子源异常表现及诊断2.1: 首先呢，我们得看看离子源到底出了什么问题。

可能会出现异常放电，电压不稳定，甚至是光强下降等等。

这时候得立即停止使用，对镀膜机进行检查，看看到底是哪里出了问题。

2.2: 可能是设备老化导致的，也有可能是清洗不及时，积累了太多的灰尘，也可能是电源接触不良，总之，出了问题就是得找到原因才行啊！这离子源可是干着重要的活儿呢！3. 离子源异常解决方法3.1 要处理这种情况，首先我们得保持冷静，动作要快！得迅速把镀膜机关闭，给它一个小小的休息时间。

然后，得打开设备，看看里面是不是出了什么岔子。

3.2 如果是清洁问题导致的，得及时清洗，把灰尘给扔了，让它通通畅畅！如果是老化问题，咱得考虑换一下部件了。

可不能让老化的部件拖累我们美丽的产品！总之，处理问题就得有一套对策！4. 离子源异常预防4.1 说到预防，可真是个老生常谈的话题了。

但是，千万别小看它！早预防胜过晚治疗！我们得时常检查设备，保持设备整洁，随时注意设备的使用情况。

这样，才能让我们的镀膜机一直都保持着最佳状态！4.2 别等到出了问题才后悔莫及啊！平时多留心，少许多心思在设备上，也不是啥大问题。

自己设备坏了，产品没得用，那可是得亏口气了！所以，预防万一，小事化大事一点都不丢面子！5. 总结5.1 咱每个人用镀膜机都是为了让我们的产品变得更加花俏，更加亮眼。

所以，要保持设备的正常运行，离子源异常是要尽快处理的大问题！要保持冷静，尽快诊断，果断处理！这样，我们的产品才能一直保持在最美的状态！管好离子源，让镀膜机一直都给我们带来好运！啊呀呀，镀膜机啊，镀膜机，你可千万别给我出了什么岔子啊！。

镀膜产品常见不良分析、改善对策镀膜产品得不良,部分就是镀膜工序得本身造成得,部分就是前工程遗留得不良,镀膜最终得品质就是整个光学零件加工得(特别就是抛光、清洗)得综合反映,对策镀膜不良时必须综合考虑,才能真正找到不良产生得原因,对策改善才能取得成效。

一、膜强度膜强度就是镜片镀膜得一项重要指标,也就是镀膜工序最常见得不良项、膜强度得不良(膜弱)主要表现为:①擦拭或用专用胶带拉撕,产生成片脱落;②擦拭或用专用胶带拉撕,产生点状脱落;③水煮１5分钟后用专用胶带拉撕产生点状或片状脱落;④用专用橡皮头、1Kg力摩擦40次,有道子产生;⑤膜层擦拭或未擦拭出现龟裂纹、网状细道子。

改善思路:基片与膜层得结合就是首要考虑得,其次就是膜表面硬度光滑度以及膜应力。

膜强度不良得产生原因及对策:①基片与膜层得结合、一般情况,在减反膜中,这就是膜弱得主要原因。

由于基片表面在光学冷加工及清洗过程中不可避免地会有一些有害杂质附着在表面上,而基片得表面由于光学冷加工得作用,总有一些破坏层,深入在破坏层得杂质(如水汽、油汽、清洗液、擦拭液、抛光粉等,其中水汽为主要),很难以用一般得方法去除干净,特别对于亲水性好,吸附力强得基片尤其如此。

当膜料分子堆积在这些杂质上时,就影响了膜层得附着,也就影响了膜强度。

此外,如果基片得亲水性差、吸附力差,对膜层得吸附也差,同样会影响膜强度、硝材化学稳定性差,基片在前加工过程中流转过程中,表面已经受到腐蚀,形成了腐蚀层或水解层(也许就是局部得、极薄得)。

膜层镀在腐蚀层或水解层上其吸附就差,膜牢固度不良、基片表面有脏污、油斑、灰点、口水点等,局部膜层附着不良,造成局部膜牢固度不良、改善对策:㈠加强去油去污处理,如果就是超声波清洗,应重点考虑去油功能,并保证去油溶液得有效性;如若就是手擦,可考虑先用碳酸钙粉擦拭后再清擦。

㈡加强镀前烘烤,条件许可,基片温度能达到300℃以上更好,恒温20分钟以上,尽可能使基片表面得水汽、油汽挥发。