1 第1章 真空技术基础
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第二章 真空计量基本知识一、真空1.1 真空、理想气体状态方程、气体分子的热运动地球的周围有一层厚厚的空气,称为大气,人类就生活在这些大气中。
空气有一定的质量,在通常状况下,大约为1.29g/l ,可以说是很轻的。
但地球周围的空气非常密,在几十公里以上的高空还有空气存在,这么厚的一层空气受地球引力作用,就会对地面上的一切物体产生压力,这就是大气压。
早在17世纪,托里拆利就通过实验证实了大气压强的大小。
通常一个标准大气压约等于0.1MPa ,相当于760mm 左右的汞柱所产生的压强。
真空是指低于一个大气压的气体空间,但不可理解为什么都没有。
真空是同正常的大气相比,是比较稀薄的气体状态。
按照阿佛加德罗定律1mol 任何气体在标准状况下,有6.022×1023个分子,占据22.4L 的体积。
由此我们得到标准状态下气体分子的密度为319/103cm 个⨯。
在非标准状况下,当气体处于平衡时,满足描述理想气体的状态方程。
式中的N 为气体的摩尔数,P 为压力(Pa ),T 热力学温度,κ为波尔兹曼常数,κ=1.38×10-23J/K 。
因此在非标准状况下,气体分子数密度与压力和温度有关。
每立方厘米中的气体分子数可以表示为: TP n 61024.7⨯= 式中n 为气体分子数密度(cm -3),由此可见,即便在Pa P 11103.1-⨯=这样很高的真空度时,T=293K 时,每立方厘米的空间中仍有数百个气体分子。
因此所谓真空是相对的,绝对的真空是不存在的。
同时我们也可知,气体分子数密度在温度不变时,与压力成正比。
因此,真空度可用压力来表示也是以此为理论依据。
在真空抽气过程中,一般可认为是等温的,我们说容器中的压力降低了或气体分子数密度减少了都是正确的。
1.2 气体分子的热运动 从微观的角度看,气体是由分子组成的,所有分子都处在不断的、无规则的运动状态。
分子的这种运kT V N p ⎪⎭⎫ ⎝⎛=动与温度有关,因此我们称之为热运动。
《薄膜科学与技术》教学大纲一、课程简介课程名称:薄膜科学与技术 Science and Technology of Thin Films课程类型:专业课(选修)学时:48学分:3开课学期:7开课对象:材料物理专业先修课程:固体物理导论;材料分析测试技术参考教材:1.郑伟涛《薄膜材料与薄膜技术》化学工业出版社2.田民波《薄膜技术与薄膜材料》清华大学出版社3.杨邦朝《薄膜物理与技术》电子科技大学出版社4.唐伟忠《薄膜材料制备原理,技术及应用》冶金工业出版社二、课程性质、目的与任务《薄膜科学与技术》是“材料物理”专业本科生拓展知识面的选修课程,它也适合材料类其它专业学生选修。
学生在已具备一定的固体物理导论、材料分析测试技术等知识的基础上,通过本课程了解薄膜的基本概念、特殊性和重要性;掌握薄膜材料的制备方法、形成过程、表征方法、性质及应用。
薄膜是材料的一种特殊形态。
薄膜科学是现代材料科学中极其重要和发展最为迅速的一个分支,已成为微电子学、光电子学、磁电子学等新兴交义学科的材料基础,成为了构筑高新技术产业的基本要素。
通过对薄膜科学与技术课程的学习,并通过相关资料查询、阅读、专题报告及综合分析与讨论,逐渐使学生掌握薄膜基本概念、特殊性、制备方法、生长理论和研究方法,为今后从事薄膜材料及相关材料领域的研究和工作打下良好的基础。
三、教学基本要求1. 了解和掌握薄膜的定义、分类、特殊性和重要性。
2. 掌握与薄膜制备和研究相关的真空基础知识。
3. 掌握薄膜材料的制备方法及原理。
4. 掌握薄膜的成核和生长理论;5. 掌握薄膜的厚度、结构、成份、原子化学键合、应力、附着力的表征分析方法。
6. 了解薄膜材料的性质及应用。
本课程介绍薄膜的基础知识和研究进展。
重点要求掌握薄膜材料的制备方法及表征技术。
课程较全面地介绍了薄膜材料的各种制备方法、生长过程和表征方法,具有较好的广度和深度。
使学生基本具备相关资料综合分析和整理能力。
《薄膜物理与技术》课程教学大纲课程代码:ABCL0527课程中文名称: 薄膜物理与技术课程英文名称:Thin film physics and technology课程性质:选修课程学分数:1.5课程学时数:24授课对象:新能源材料与器件专业本课程的前导课程:《材料表面与界面》、《近代物理概论》、《材料科学基础》、《固体物理》、《材料物理性能》一、课程简介本课程主要论述薄膜的制造技术与薄膜物理的基础内容。
其中系统介绍了各种成膜技术的基本原理与方法,包括蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀、化学气相沉积、溶液制膜技术以及膜厚的测量与监控等。
同时介绍了薄膜的形成,薄膜的结构与缺陷,薄膜的电学性质、力学性质、半导体特性、磁学性质以及超导性质等。
通过本课程的讲授,使学生在薄膜物理基础部分,懂得薄膜形成物理过程及其特征,薄膜的电磁学、光学、力学、化学等性质。
在薄膜技术部分初步掌握各种成膜技术的基本内容以及薄膜性能的检测。
二、教学基本内容和要求掌握物理、化学气相沉积法制膜技术,了解其它一些成膜技术。
学会对不同需求的薄膜,应选用不同的制膜技术。
了解各种薄膜形成的过程及其物理特性。
理解并能运用热力学界面能理论及原子聚集理论解释薄膜形成过程中的一些现象,了解薄膜结构及分析方法,理解薄膜材料的一些基本特性,为薄膜的应用打下良好的基础。
以下分章节介绍:第一章真空技术基础课程教学内容:真空的基础知识及真空的获得和测量。
课程重点、难点:真空获得的一些手段及常用的测量方法。
课程教学要求:掌握真空、平均自由程的概念,真空各种单位的换算,平均自由程、碰撞频率、碰撞频率的长度分布率的公式,高真空镀膜机的系统结构及抽气的基本过程。
理解蒸汽、理想气体的概念,余弦散射率,真空中气体的来源,机械泵、扩散泵、分子泵以及热偶真空计和电离真空计的工作原理。
了解真空的划分,气体的流动状态的划分,气体分子的速度分布,超高真空泵的工作原理。
第二章真空蒸发镀膜法课程教学内容:真空蒸发原理,蒸发源的蒸发特性及膜厚分布,蒸发源的类型,合金及化合物的蒸发,膜厚和淀积速率的测量与监控。
真空技术概述真空技术是一门研究和应用真空环境的学科,广泛应用于多个领域,如电子工业、光学仪器、材料科学等。
本文将对真空技术的概述进行详细介绍。
1. 真空的定义和特性真空是指在一定空间范围内,无气体或气体的压强极低,几乎接近于零的状态。
真空的特性包括:气体稀薄、无传热介质、无氧化作用、无声传播等。
2. 真空技术的应用领域真空技术广泛应用于以下领域:2.1 电子工业:真空技术在电子器件制造、显示屏制造等方面发挥着重要作用,可以提供纯净的工作环境。
2.2 光学仪器:真空技术可以消除气体折射和散射对光学仪器性能的影响,提高仪器的测量精度。
2.3 材料科学:利用真空技术可以对材料进行表面处理、薄膜沉积、材料热处理等,提高材料的性能。
2.4 航天科学:在航天器和航天模拟实验中,真空技术被广泛应用于模拟外太空真空环境。
2.5 化学工业:真空技术可以用于化学反应的环境控制,提高反应效率。
3. 真空技术的基本原理和设备3.1 真空泵:真空泵是真空技术中常用的设备之一,包括机械泵、旋片泵、根引泵等,可以抽取容器内的气体,形成真空环境。
3.2 真空度测量:为了控制和监测真空环境的质量,需要使用真空度测量设备,如电离真空规、热电离真空规等。
3.3 真空密封:在真空技术中,需要使用各种真空密封件,如橡胶密封圈、金属密封等,以保证系统的密封性能。
3.4 真空系统设计:真空技术的应用需要进行系统设计,包括真空容器的结构设计、泵的选型和布局等。
4. 真空技术的发展趋势随着科学技术的不断进步,真空技术也在不断发展演进,呈现以下趋势:4.1 高真空技术:在一些特殊领域,如核聚变、粒子加速器等,需要更高真空度的环境,对高真空技术的需求也越来越大。
4.2 低温真空技术:低温真空环境对于一些特殊材料和器件的研究具有重要意义,因此低温真空技术也成为研究热点。
4.3 微型化和集成化:随着微纳加工技术的发展,将真空技术应用于微型化和集成化器件制造中,可以提高器件性能和可靠性。
第一章真空技术基础1、膜的定义及分类。
答:当固体或液体的一维线性尺度远远小于它的其他二维尺度时,我们将这样的固体或液体称为膜。
通常,膜可分为两类:(1)厚度大于1mm的膜,称为厚膜;(2)厚度小于1mm的膜,称为薄膜。
2、人类所接触的真空大体上可分为哪两种答:(1)宇宙空间所存在的真空,称之为“自然真空”;(2)人们用真空泵抽调容器中的气体所获得的真空,称之为“人为真空”。
3、何为真空、绝对真空及相对真空答:不论哪一种类型上的真空,只要在给定空间内,气体压强低于一个大气压的气体状态,均称之为真空。
完全没有气体的空间状态称为绝对真空。
目前,即使采用最先进的真空制备手段所能达到的最低压强下,每立方厘米体积中仍有几百个气体分子。
因此,平时我们所说的真空均指相对真空状态。
4、毫米汞柱和托答:“毫米汞柱(mmHg)”是人类使用最早、最广泛的压强单位,它是通过直接度量长度来获得真空的大小。
1958 年,为了纪念托里拆利,用“托(Torr)”,代替了毫米汞柱。
1 托就是指在标准状态下,1 毫米汞柱对单位面积上的压力,表示为1Torr=1mmHg。
5、真空区域是如何划分的答:为了研究真空和实际使用方便,常常根据各压强范围内不同的物理特点,把真空划分为以下几个区域:(1)粗真空:l′105 ~ l′102 Pa,(2)低真空:l′102 ~ 1′10-1Pa,(3)高真空:l′10-1 ~ 1′10-6Pa和(4)超高真空:< 1′10-6Pa。
6、真空各区域的气体分子运动规律。
答:(1)粗真空下,气态空间近似为大气状态,分子仍以热运动为主,分子之间碰撞十分频繁;(2)低真空是气体分子的流动逐渐从黏滞流状态向分子状态过渡,气体分子间和分子与器壁间的碰撞次数差不多;(3)高真空时,气体分子的流动已为分子流,气体分子与容器壁之间的碰撞为主,而且碰撞次数大大减少,在高真空下蒸发的材料,其粒子将沿直线飞行;(4)在超高真空时,气体的分子数目更少,几乎不存在分子间的碰撞,分子与器壁的碰撞机会也更少了。